TH114490A - Light-cured mixtures - Google Patents

Light-cured mixtures

Info

Publication number
TH114490A
TH114490A TH901004314A TH0901004314A TH114490A TH 114490 A TH114490 A TH 114490A TH 901004314 A TH901004314 A TH 901004314A TH 0901004314 A TH0901004314 A TH 0901004314A TH 114490 A TH114490 A TH 114490A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
resins
steps
reaction
iii
acid anhydride
Prior art date
Application number
TH901004314A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH114490B (en
Inventor
ดัดดี้ ไค
รอธ มาติน
เพียร์เอ๊า ซาบิน
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายรุทร นพคุณ
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายรุทร นพคุณ filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH114490B publication Critical patent/TH114490B/en
Publication of TH114490A publication Critical patent/TH114490A/en

Links

Abstract

DC60 (20/10/52) วิธีสำหรับการเตรียมเรซินที่บ่มได้ด้วยแสงโดยปฏิกิริยาที่ประกอบรวมด้วยขั้นตอนต่อไปนี้ i) การทำปฏิกิริยาของผสมของอีพอกซิ เรซินประเภทนอวอแลค (A) และไดไซโคลเพนทะไดอีน- ฟีนอล ไกลซิดิลอีเธอร์ เรซิน (B) กับ ii) ส่วนประกอบล่วงหน้า (C) ที่มีฟีนอลิค ไฮดรอกซิลอย่างน้อย 2 หมู่ต่อโมเลกุล; iii) การทำปฏิกิริยากับมอนอคาร์บอกซิลิค แอซิดไม่อิ่มตัว (D); และ iv) เอสเทอริฟิเคชันของเรซินที่มีหมู่ไม่อิ่มตัวที่ได้จากขั้นตอน i) ถึง iii) กับพอลิคาร์บอกซิลิค แอซิด แอนไฮไดรด์หรือคาร์บอกซิลิค แอซิด แอนไฮไดรด์ (E) ถูกเปิดเผย วิธีสำหรับการเตรียมเรซินที่บ่มได้ด้วยแสงโดยปฏิกิริยาที่ประกอบรวมด้วยขั้นตอนต่อไปนี้ i) การทำปฏิกิริยาของผสมของอีพอกซิ เรซินประเภทนอวอแลค (A) และได้ไซโคลเพนทะไดอีน- ฟีนอล ไกลซิดิลอีเธอร์ เรซิน (B) กับ ii) ส่วนประกอบล่วงหน้า (C) ที่มีฟีนอลิค ไฮดรอกซิลอย่างน้อย 2 หมู่ต่อโมเลกุล; iii) การทำปฏิกิริยากับมอนอคาร์บอกซิลิค แอซิดไม่อิ่มตัว (D); และ iv) เอสเทอริฟิเคชันของเรซินที่มีหมู่ไม่อิ่มตัวที่ได้จากขั้นตอน i) ถึง iii) กับพอลิคาร์บอกซิลิค แอซิด แอนไฮไดรด์หรือคาร์บอกซิลิค แอซิด แอนไฮไดรด์ (E) ถูกเปิดเผย DC60 (20/10/52) Method for the preparation of photovoltaic resins by reaction that consists of the following steps: i) Reaction of epoxy mixtures. Novalac type resins (A) and dicyclopantadiene-phenol glycidyl ether resins (B) with ii) pre-components (C) with phenolic. At least 2 groups of hydroxyls per molecule; iii) Interaction with the carboxylic mono Unsaturated acid (D); And iv) unsaturated resin esterification obtained from steps i) to iii) with polycarboxylic acid anhydride or carboxylic acid. Lic acid anhydride (E) was revealed a method for the preparation of photovoltaic resins by a reaction consisting of the following steps: i) The reaction of the epoxy mixture. Novalac type resins (A) and cyclopentadiene-phenol glycidyl ether resins (B) with ii) pre-components (C) with phenolic. At least 2 groups of hydroxyls per molecule; iii) Interaction with the carboxylic mono Unsaturated acid (D); And iv) unsaturated resin esterification obtained from steps i) to iii) with polycarboxylic acid anhydride or carboxylic acid. Lic acid anhydride (E) was revealed.

Claims (1)

: DC60 (20/10/52) วิธีสำหรับการเตรียมเรซินที่บ่มได้ด้วยแสงโดยปฏิกิริยาที่ประกอบรวมด้วยขั้นตอนต่อไปนี้ i) การทำปฏิกิริยาของผสมของอีพอกซิ เรซินประเภทนอวอแลค (A) และไดไซโคลเพนทะไดอีน- ฟีนอล ไกลซิดิลอีเธอร์ เรซิน (B) กับ ii) ส่วนประกอบล่วงหน้า (C) ที่มีฟีนอลิค ไฮดรอกซิลอย่างน้อย 2 หมู่ต่อโมเลกุล; iii) การทำปฏิกิริยากับมอนอคาร์บอกซิลิค แอซิดไม่อิ่มตัว (D); และ iv) เอสเทอริฟิเคชันของเรซินที่มีหมู่ไม่อิ่มตัวที่ได้จากขั้นตอน i) ถึง iii) กับพอลิคาร์บอกซิลิค แอซิด แอนไฮไดรด์หรือคาร์บอกซิลิค แอซิด แอนไฮไดรด์ (E) ถูกเปิดเผย วิธีสำหรับการเตรียมเรซินที่บ่มได้ด้วยแสงโดยปฏิกิริยาที่ประกอบรวมด้วยขั้นตอนต่อไปนี้ i) การทำปฏิกิริยาของผสมของอีพอกซิ เรซินประเภทนอวอแลค (A) และได้ไซโคลเพนทะไดอีน- ฟีนอล ไกลซิดิลอีเธอร์ เรซิน (B) กับ ii) ส่วนประกอบล่วงหน้า (C) ที่มีฟีนอลิค ไฮดรอกซิลอย่างน้อย 2 หมู่ต่อโมเลกุล; iii) การทำปฏิกิริยากับมอนอคาร์บอกซิลิค แอซิดไม่อิ่มตัว (D); และ iv) เอสเทอริฟิเคชันของเรซินที่มีหมู่ไม่อิ่มตัวที่ได้จากขั้นตอน i) ถึง iii) กับพอลิคาร์บอกซิลิค แอซิด แอนไฮไดรด์หรือคาร์บอกซิลิค แอซิด แอนไฮไดรด์ (E) ถูกเปิดเผยข้อถือสิทธิ์ (ข้อที่หนึ่ง) ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : แก้ไข 08/10/2561 ข้อถือสิทธิ: DC60 (20/10/52) Method for the preparation of photovoltaic resins by reaction that includes the following steps: i) Reaction of epoxy mixtures. Novalac type resins (A) and dicyclopantadiene-phenol glycidyl ether resins (B) with ii) pre-components (C) with phenolic. At least 2 groups of hydroxyls per molecule; iii) Interaction with the carboxylic mono Unsaturated acid (D); And iv) unsaturated resin esterification obtained from steps i) to iii) with polycarboxylic acid anhydride or carboxylic acid. Lic acid anhydride (E) was revealed a method for the preparation of photovoltaic resins by a reaction consisting of the following steps: i) The reaction of the epoxy mixture. Novalac type resins (A) and cyclopentadiene-phenol glycidyl ether resins (B) with ii) pre-components (C) with phenolic. At least 2 groups of hydroxyls per molecule; iii) Interaction with the carboxylic mono Unsaturated acid (D); And iv) unsaturated resin esterification obtained from steps i) to iii) with polycarboxylic acid anhydride or carboxylic acid. Lic acid anhydride (E) has been disclosed. (Section one) which will appear on the advertisement page: Edit 08/10/2561. 1. วิธีการสำหรับการเตรียมเรซินที่บ่มได้ด้วยแสงโดยปฏิกิริยาที่ประกอบรวมด้วยขั้นตอนต่อไปนี้: i) การทำปฏิกิริยาของผสมของอีพอกซิ เรซินประเภทนอวอแลค (novolak) (A) ที่แทน โดยสูตร (I) (สูตรเคมี) (I) ที่ซึ่ง R1 ถูกเลือกอย่างอิสระจาก H หรือ CH3; R2 ถูกเลือกอย่างอิสระจาก C1-4-แอลคิล หรือ แฮโลเจน; x คือจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 2; n คือจำนวนเต็มจาก 2 ถึง 12; และไดไซโคลเพนทะไดอีน-ฟีนอล ไกลซิแท็ก :1. A method for the preparation of the reactive light-cured resin consists of the following steps: i) the reaction of epoxy mixtures. Novolak type resins (A) represented by formula (I) (chemical formula) (I), where R1 is independently selected from H or CH3; R2 is independently selected from C1-4-L. Kill or halogen; x is an integer from 0 to 2; n is an integer from 2 to 12; And dicyclopentadiene-phenol glycitag:
TH901004314A 2009-09-24 Light-cured mixtures TH114490A (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH114490B TH114490B (en) 2012-06-22
TH114490A true TH114490A (en) 2012-06-22

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY159662A (en) Photocurable composition
TW200719085A (en) Photosensitive resin composition, composition for solder resist, and photosensitive dry film
DK1978049T3 (en) Epoxy resin composition that is curable
JP2002504602A5 (en)
KR920009871A (en) Enhanced Epoxy Compositions, Curable Compositions, and Cured Products
JP2008517106A5 (en)
CN103936589B (en) Eleostearic acid glycerol acrylate and preparation method thereof
JP2011521078A5 (en)
CN107022061B (en) The cured biomass epoxy FRP pipe of ultraviolet light and its synthesis and application
CN105669580A (en) Triazine ring-containing light-cured resin and preparation method thereof
TWI520980B (en) The epoxy resin composition and cured
CN105061671A (en) Liquid photosensitive solder-resist resin for LED and preparation method thereof
TWI414519B (en) Acid anhydride ester and composition thereof, and heat-curable resin composition and cured product thereof
JP5729589B2 (en) Epoxy resin composition using acylated lignin and method for producing the same
CN109776347A (en) A kind of thermosetting property plant oil base acrylate derivative and its preparation method and application
EP2980064A1 (en) Novel inclusion compound
EP2797978A2 (en) Curable water soluble epoxy acrylate resin compositions
TH114490A (en) Light-cured mixtures
CN103459454B (en) Resin combination, its cured article and use its optical semiconductor device
CN103880611B (en) A kind of preparation method of bis-hydroxypropyl bisphenol fluorene ether
TH114490B (en) Light-cured mixtures
ATE487749T1 (en) AQUEOUS EPOXY RESIN COMPOSITIONS
TW200641531A (en) Alkali developable photosensitive resin composition
JP6386386B2 (en) Epoxy compound having fluorene skeleton and method for producing the same
JP2012528234A5 (en)