TH111024A - วิธีการขัดผิว อุปกรณ์การขัดผิว, ชั้นฐานแก้วสำหรับสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก และสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก - Google Patents

วิธีการขัดผิว อุปกรณ์การขัดผิว, ชั้นฐานแก้วสำหรับสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก และสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก

Info

Publication number
TH111024A
TH111024A TH1001001118A TH1001001118A TH111024A TH 111024 A TH111024 A TH 111024A TH 1001001118 A TH1001001118 A TH 1001001118A TH 1001001118 A TH1001001118 A TH 1001001118A TH 111024 A TH111024 A TH 111024A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
polishing
glass substrate
abrasive
free abrasive
rotating
Prior art date
Application number
TH1001001118A
Other languages
English (en)
Other versions
TH48175B (th
Inventor
มิยาโมโตะ นายทาเคมิ
Original Assignee
นายวินยาธกร ใจเอก นายปรารถนา อุบลสุวรรณ
โฮยา คอร์ปอเรชั่น
Filing date
Publication date
Application filed by นายวินยาธกร ใจเอก นายปรารถนา อุบลสุวรรณ, โฮยา คอร์ปอเรชั่น filed Critical นายวินยาธกร ใจเอก นายปรารถนา อุบลสุวรรณ
Publication of TH111024A publication Critical patent/TH111024A/th
Publication of TH48175B publication Critical patent/TH48175B/th

Links

Abstract

DC60 (02/10/58) จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิวและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับที่สูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการจุ่มลงในของเหลวขัดถู 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบนอกด้านใน แก้ไขบทสรุปการประดิษฐ์ 2/10/2558 จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิวและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับที่สูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการขัดถูกในของเหลวขัดถูก 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูกอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบด้านใน ----------------------------------------------------- วันที่แก้ไข 02/10/58 จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิดและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับสูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1 ) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการขัดถูในของเหลวขัดถู 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบนอกด้านใน ........................................................................................................................ จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิวและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับที่สูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการจุ่มลงในของเหลวขัดถู 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบนอกด้านใน

Claims (4)

วิธีการขัดผิวซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ : การจ่ายของเหลวขัดถูกที่มีเม็ดสารขัด ถูอิสระบรรจุอยู่ไปที่พื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้วที่อยู่ในลักษณะของจานรูปวงกลม ที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลาง และการหมุนแปรงเพื่อการขัดผิว หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะ สัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้วดังกล่าว เพื่อกระทำการขัดผิว 2. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมต่อไปด้วยขั้นตอนการกอง ซ้อนทับและการขัดผิวชั้นฐานแก้วจำนวนหนึ่ง เพื่อว่าพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้ว จำนวนหนึ่งจะได้รับการขัดผิวอย่างพร้อม ๆ กัน 3. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือข้อ 2 ซึ่งประกอบรวมต่อไปด้วยขั้นตอนการ จ่ายของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระดังกล่าวบรรจุอยู่ ที่อัตราการไหล 500 มิลลิลิตร/นาที ถึง 3000 มิลลิลิตร/นาที และกระทำการขัดผิว 4. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือข้อ 2 ซึ่งขนแข็งของแปรงเพื่อการขัดผิว ดังกล่าว จะได้รับการเอียงและจัดวางไว้เทียบกับพื้นราบแนวดิ่งกับเพลาหมุน และแปรงเพื่อการขัดผิว จะได้รับการหมุนในทิศทางซึ่งของเหลวขัดถูดังกล่าวได้รับการลากเข้าไปในส่วนรูรูปวงกลมของชั้น ฐานแก้วที่กองซ้อนทับกันจำนวนหนึ่ง 5. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 4 ซึ่งมุมเอียงของขนแข็งของแปรงเพื่อการขัดผิว ดังกล่าวอยู่ในช่วง 2 องศา ถึง 30 องศา 6. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือข้อ 2 ซึ่งความหนืดของของเหลวขัดถูที่มีเม็ด สารขัดถูอิสระดังกล่าวบรรจุอยู่จะอยู่ในช่วง 1.5 ถึง 25 เซนติปัวส์ 7. อุปกรณ์การขัดผิวซึ่งประกอบรวมด้วยวิถีทางการยึดจับสำหรับการกองซ้อนทับ และ การยึดจับชั้นฐานแก้วจำนวนหนึ่งที่อยู่ในลักษณะจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลาง ; วิถีทางการหมุนสำหรับการหมุนวิถีทางการยึดจับ ; แปรงชนิดหมุนที่ใส่แทรกเข้าไปในส่วนรูรูป วงกลมของชั้นฐานแก้วที่กองซ้อนทับกันจำนวนหนึ่งดังกล่าว และวิถีทางจ่ายของเหลวขัดถูสำหรับ การจ่ายของเหลวขัดถูไปที่ส่วนรูรูปวงกลมของชั้นฐานแก้วทีากองซ้อนทับกันจำนวนหนึ่งดังกล่าว 8. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งขนแข็งของแปรงเพื่อการขัดผิวดังกล่าวจะได้รับ การเอียงและจัดวางไว้เทียบกับพื้นราบแนวดิ่งกับเพลาหมุน และแปรงเพื่อการขัดผิวจะได้รับการหมุน ในทิศทางซึ่งของเหลวขัดถูได้รับการลากเข้าไปในส่วนรูรูปวงกลมของชั้นฐานแก้วที่กองซ้อนทับกัน จำนวนหนึ่ง 9. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ซึ่งมุมเอียงของขนแข็งของแปรงเพื่อการขัดผิว ดังกล่าวจะอยู่ในช่วง 2 องศา ถึง 30 องศา 1 0. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งความหนืดของของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถู อิสระดังกล่าวบรรจุอยู่จะอยู่ในช่วง 1.5 ถึง 25 เซนติปัวส์ 1
1. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 4 ซึ่งความหนืดของของเหลวบัดถูที่มีเม็ดสารขัดถู อิสระดังกล่าวบรรจุอยู่จะอยู่ในช่วง 1.5 ถึง 25 เซนติปัวส์ 1
2. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งความหนืดของของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถู อิสระดังกล่าวบรรจุอยู่จะอยู่ในช่วง 1.5 ถึง 25 เซนติปัวส์ 1
3. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ซึ่งความหนืดของของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถู อิสระดังกล่าวบรรจุอยู่จะอยู่ในช่วง 1.5 ถึง 25 เซนติปัวส์ 1
4. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ซึ่งความหนืดของของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถู อิสระดังกล่าวบรรจุอยู่จะอยู่ในช่วง 1.5 ถึง 25 เซนติปัวส์
TH1001001118A 1998-09-29 วิธีการขัดผิว อุปกรณ์การขัดผิว, ชั้นฐานแก้วสำหรับสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก และสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก TH48175B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH111024A true TH111024A (th) 2011-11-21
TH48175B TH48175B (th) 2016-02-23

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2800802B2 (ja) 半導体ウェハーのcmp装置
JPH06224165A (ja) 化学−機械的平坦化操作の平坦度を改善するための方法及び装置
TW200902229A (en) Polishing pad with grooves to retain slurry on the pad texture
US6386963B1 (en) Conditioning disk for conditioning a polishing pad
JPS58184727A (ja) シリコンウェ−ハの面を研削する方法
US6471566B1 (en) Sacrificial retaining ring CMP system and methods for implementing the same
JP2011165994A (ja) 半導体基板の平坦化加工装置
KR100818523B1 (ko) 연마 패드
US7156721B2 (en) Polishing pad with flow modifying groove network
US7097545B2 (en) Polishing pad conditioner and chemical mechanical polishing apparatus having the same
JPH0752033A (ja) 研磨装置
TWI393182B (zh) 化學機械拋光(cmp)設備以及用於在基底上進行化學機械拋光(cmp)的方法
US6602119B1 (en) Dressing apparatus
JPH08148453A (ja) ウエハ保持具
WO2001043178A1 (en) Polishing-product discharging device and polishing device
TH111024A (th) วิธีการขัดผิว อุปกรณ์การขัดผิว, ชั้นฐานแก้วสำหรับสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก และสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก
US20030217989A1 (en) Circumferential polishing and/or surface cleaning process for glass disk substrates using colloidal silica slurry
US5921849A (en) Method and apparatus for distributing a polishing agent onto a polishing element
WO2005005100A1 (ja) 粘弾性ポリッシャーおよびそれを用いた研磨方法
KR20100005474A (ko) Cmp 장치의 폴리싱패드 컨디셔닝 드레서 세정장치
JPH08229805A (ja) 研磨布および研磨方法
JPH09216160A (ja) 薄板状基板の研磨装置
JP2011155095A (ja) 半導体基板の平坦化加工装置およびそれに用いる仮置台定盤
CN101116953A (zh) 化学机械研磨的研磨修整装置
TH137861A (th) วิธีการขัดผิว, อุปกรณ์การขัดผิว, ซับสเตรตแก้วสำหรับสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก และสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก