TH111024A - วิธีการขัดผิว อุปกรณ์การขัดผิว, ชั้นฐานแก้วสำหรับสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก และสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก - Google Patents
วิธีการขัดผิว อุปกรณ์การขัดผิว, ชั้นฐานแก้วสำหรับสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก และสื่อบันทึกทางแม่เหล็กInfo
- Publication number
- TH111024A TH111024A TH1001001118A TH1001001118A TH111024A TH 111024 A TH111024 A TH 111024A TH 1001001118 A TH1001001118 A TH 1001001118A TH 1001001118 A TH1001001118 A TH 1001001118A TH 111024 A TH111024 A TH 111024A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- polishing
- glass substrate
- abrasive
- free abrasive
- rotating
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (02/10/58) จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิวและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับที่สูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการจุ่มลงในของเหลวขัดถู 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบนอกด้านใน แก้ไขบทสรุปการประดิษฐ์ 2/10/2558 จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิวและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับที่สูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการขัดถูกในของเหลวขัดถูก 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูกอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบด้านใน ----------------------------------------------------- วันที่แก้ไข 02/10/58 จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิดและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับสูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1 ) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการขัดถูในของเหลวขัดถู 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบนอกด้านใน ........................................................................................................................ จะเปิดเผยเกี่ยวกับวิธีการขัดผิวและอุปกรณ์การขัดผิว ซึ่งในนั้น จะสามารถบรรลุผลสำเร็จ การทำความสะอาดพื้นผิวของชั้นฐานแก้วด้วยระดับที่สูง ชั้นฐานแก้ว (ชั้นฐานแก้วของเอ็มดี 1) ที่มี รูปร่างเป็นจานรูปวงกลมที่มีรูรูปวงกลมในส่วนกึ่งกลางจะได้รับการจุ่มลงในของเหลวขัดถู 50 ที่มี เม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่ และจะขัดผิวพื้นผิวปลายรอบนอกด้านในของชั้นฐานแก้วด้วยการใช้ ของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถูอิสระบรรจุอยู่โดยการหมุนแปรง 4 ชนิดหมุน หรือแผ่นเพื่อการขัดผิว ในลักษณะสัมผัสกับพื้นผิวปลายรอบนอกด้านใน
Claims (4)
1. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 4 ซึ่งความหนืดของของเหลวบัดถูที่มีเม็ดสารขัดถู อิสระดังกล่าวบรรจุอยู่จะอยู่ในช่วง 1.5 ถึง 25 เซนติปัวส์ 1
2. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งความหนืดของของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถู อิสระดังกล่าวบรรจุอยู่จะอยู่ในช่วง 1.5 ถึง 25 เซนติปัวส์ 1
3. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ซึ่งความหนืดของของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถู อิสระดังกล่าวบรรจุอยู่จะอยู่ในช่วง 1.5 ถึง 25 เซนติปัวส์ 1
4. วิธีการขัดผิวตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ซึ่งความหนืดของของเหลวขัดถูที่มีเม็ดสารขัดถู อิสระดังกล่าวบรรจุอยู่จะอยู่ในช่วง 1.5 ถึง 25 เซนติปัวส์
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH111024A true TH111024A (th) | 2011-11-21 |
| TH48175B TH48175B (th) | 2016-02-23 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2800802B2 (ja) | 半導体ウェハーのcmp装置 | |
| JPH06224165A (ja) | 化学−機械的平坦化操作の平坦度を改善するための方法及び装置 | |
| TW200902229A (en) | Polishing pad with grooves to retain slurry on the pad texture | |
| US6386963B1 (en) | Conditioning disk for conditioning a polishing pad | |
| JPS58184727A (ja) | シリコンウェ−ハの面を研削する方法 | |
| US6471566B1 (en) | Sacrificial retaining ring CMP system and methods for implementing the same | |
| JP2011165994A (ja) | 半導体基板の平坦化加工装置 | |
| KR100818523B1 (ko) | 연마 패드 | |
| US7156721B2 (en) | Polishing pad with flow modifying groove network | |
| US7097545B2 (en) | Polishing pad conditioner and chemical mechanical polishing apparatus having the same | |
| JPH0752033A (ja) | 研磨装置 | |
| TWI393182B (zh) | 化學機械拋光(cmp)設備以及用於在基底上進行化學機械拋光(cmp)的方法 | |
| US6602119B1 (en) | Dressing apparatus | |
| JPH08148453A (ja) | ウエハ保持具 | |
| WO2001043178A1 (en) | Polishing-product discharging device and polishing device | |
| TH111024A (th) | วิธีการขัดผิว อุปกรณ์การขัดผิว, ชั้นฐานแก้วสำหรับสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก และสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก | |
| US20030217989A1 (en) | Circumferential polishing and/or surface cleaning process for glass disk substrates using colloidal silica slurry | |
| US5921849A (en) | Method and apparatus for distributing a polishing agent onto a polishing element | |
| WO2005005100A1 (ja) | 粘弾性ポリッシャーおよびそれを用いた研磨方法 | |
| KR20100005474A (ko) | Cmp 장치의 폴리싱패드 컨디셔닝 드레서 세정장치 | |
| JPH08229805A (ja) | 研磨布および研磨方法 | |
| JPH09216160A (ja) | 薄板状基板の研磨装置 | |
| JP2011155095A (ja) | 半導体基板の平坦化加工装置およびそれに用いる仮置台定盤 | |
| CN101116953A (zh) | 化学机械研磨的研磨修整装置 | |
| TH137861A (th) | วิธีการขัดผิว, อุปกรณ์การขัดผิว, ซับสเตรตแก้วสำหรับสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก และสื่อบันทึกทางแม่เหล็ก |