SU953674A1 - Устройство дл подгонки плоских пленочных резисторов в номинал - Google Patents

Description

(5) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОДГО ЖИ плоских ПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТОРОВ в НОМИНАЛ

1

Изобретение относитс  к производству изделий микроэлектроники и может быть использовано в электронной промышленности дл  прецизионной лазерной подгонки параметров пленочных резисторов в номинал.

Известно устройство дл  лазерной подгонки плоских пленочных резисто ров в номинал, содержащий источник импульсного монохроматического лазерного излучени , блок линейной развертки лазерного луча на основании гальванометрической зеркальной системы с фокусирующей системой измерени  величины сопротивлени  и блок управлени  П.

Недостатки этого устройства состо т в том, что оно имеет сложную систему управлени  разверткой лазерного луча и ограниченную скорость реза - 80 мм/с, что снижает- производительность подгонки.

Цель изобретени  - упрощение устройства и увеличение его производительности при сохранении высокой точности подгонки.

Поставленна  цель достигаетс  тем,что в устройстве дл  подгонки плоских пленочных резисторов .в номинал, содержащем источник лазерного излучени , блок линейной развертки лазерного луча с фокусирующей системой, блок измерени  величины сопротивлени  резистора, и блок управлени ,источник лазерного излучени  выполнен на лазере с модулированной добротностью и дискретно перестраивае 1ой в процессе генерации длиной волны, а блок линейной развертки лазерноголуча выполнен в виде оптического элемента, обладающего спектральной угловой дисперсией в плоскости линейной развертки.

Claims (2)

1. На фиг.1 представлена блок-схема устройства дл  лазерной подгонки пленочных резисторов; на фиг.2 - кинетика и спектр генерации лазера с перестраиваемой в процессе гене3 рации длиной волны (в дальнейшем свип-лаэер ). Устройство содержит свип-лазер включающий узел 2 свипировани  длин волны излучени  и оптический затвор 3, неподвижный дисперсионный элемен 4 и фокусирующую систему 5, Направл ющую (Сформированный лазерный пучо на фокальную плоскость 6, в которой расположена плата с резисторами (не показана). Последн   расположена на двухкоординатном юстировочном столе 7, программное управление которым осуществл етс  электроприводом 8. Дл  наблюдени  за процессом подгонк служит оптический блок 9 визуализации , в который частично может входить фокусирующа  система 5- Блоки 10 и 11 служат, соответственно, дл  управлени  контактами и контрол  ве личины сопротивлени  подгон емого резистора. Автоматизаци  процесса подгонки производитс  с помощью электронного блока 12 управлени , св занного с программным управлением Электропривода 8, блоком 11 контрол  сопротивлени  и оптическим затвором 3 свип-лазера, В качестве свип-лазера 1 могут быть использованы любые известные свип-лазеры на конденсирован1ЧЫх сре дах, например на неодимовом стекле или растворах органических красителей . Типичные кинетика интенсивности и спектр излучени  свип-лазера на неодимовом стекле приведены на фиг.
2. 2. За один импульс накачки генерируетс  регул рна  се.ри  пичков , частота следовани  которых сос тавл ет 50-200 кГц и может плавно регулироватьс  изменением уровн  накачки. Длительность отдельного пичка обычно составл ет 0,2-0,5 мкс и может быть уменьшена до 30-50 не введением в резонатор оптического затвора 3- Каждому пичку излучени  соответствует сво , строго определенна , лини  в спектре, т.е длина волны. Ширину отдельной линии интервал между ними можно плавно измен ть при общем диапазоне свириповани  300-500 . Перестройка длины волны излучен свип-лазеров основана на использов нии дисперсных резонаторов, максимум добротности которых непрерывно смещаетс  в процессе генерации по шкале длин волн. В качестве оптического затвора 3, служащего дл  сокращени  отдельного генерационного пичка и прекращени  генерации в момент достижени  заданного номинала подгон емым резистором , могут быть использованы любые модул торы на основе использовани  электрооптического эффекта. Оптический элемент k, предназначенный дл  осуществлени  пространственной развертки лазерного луча, должен обладать дисперсией (спектральной ) в плоскости , в которой производитс  пространственна  . вертка компонента луча. В качестве такого элемента могут быть использованы дисперсионные призмы или дифракционные решетки. Основное требование к оптическому элементу обеспечить необходимую угловую дисперсию (оценка ее будет дана ниже) при минимальных потер х интенсивности компонент лазерного луча. Остальные элементы блок-схемы (фиг.1) известны и не требуют дополнительных по снений. Отметим только , что блок 12 управлени  может быть построен на базе мини-ЭВМ,что существенно расширит возможности всего устройства и обеспечит полную автоматизацию процесса подгонки. Устройство работает следующим образом. Плата с резисторами (не показана ) устанавливаетс  на юстировочном столе 7 в фокальной плоскости 6. Блок 12 управлени  включает привод 8, который передвигает стол 7 до установки платы с резисторами в рабочую позицию (дл  этого на микросхемах имеютс  реперные точки)| В этот момент срабатывает блок 10 контактов, опускаютс  измерительные наконечники и блок 11 контрол  величины сопротивлени  измер ет начальное сопротивление подгон емого резистора. Блок 12 управлени  включает свип-лазер 1. Узел 2 свипиро-вани  непрерывно перестраивает дисперсионный резонатор лазера, что приводит к изменению длины волны излучени  от пичка к пичку, которые проход т в момент срабатывани  оптического затвора 3- Излучение с измен ющейс  длиной волны попадает на неподвижный дисперсионный элемент 4, который осуществл ет пространственноугловое разложение пичков различных длин волн, в результате чего В фокальной плоскости фокусирующей системы 5, где расположена плата с резисторами, выжигаетс  сери  п тен , выт нута  в плоскости диспер . сии элемента . Диаметр отдельного п тна определ етс  начальной расходимостью излучени  свип-лазера 1 и фокусным рассто нием системы 5. а рассто ние между п тнами - различием длин волн соседних пичков излучени  и величиной угловой дисперсии элемента. Наблюдение за процессом испарени  материала резистора ведет С помощью блока 9 визуализации. При этом измерительный мост непрерывно измep et сопротивление резистора и в тот момент, когда достигаетс  требуемое значение сопротивлени , подает сигнал в блок 12 управлени . Последний закрывает затвор 3 отключает свип-лазер 1 и включает привод 8, который в-соответствии с зало женной программой, выводит в положение дл  подгонки следующий резистор После подгонки последнего резистора микросхемы блок 12 управлени  отключает свип-лазер и дает команду на подъем контактов. Срабатывает кои-, тактный блок 10, включаетс  привод 8 и в рабочую позицию выводитс  резистор следующей микросхемы. Упрощение конструкции устройства св зано с применением в качестве системы дл  пространственной pagвертки лазерного луча неподвижного оптического элемента, который, как показывают оценки, может быть выполнен в виде равнобедренной стекл нной призмы (одной или стекла СТФ-2, установленной под углом минимального отклонени . Отсутствие каких-либо движущихс  узлов положительно сказываетс  на 6 стабильности и воспроизводимости развертки. Оценка линейной скорости развертки показывает, что она может достигать и быть выше 800 мм/с, что на пор док выше скорости лучших зарубежных установок. Технико-экономический эффект от применени  изобретени  состоит как в упрощении устройства подгонки , соответствующего снижени  их стоимости, так и в существенном увеличении производительности труда на этих установках. Формула изобретени  Устройство дл  подгонки ПЛОС-: ких пленочных резисторов в номинал, содержащее источник лазерного излучени , блок линейной развертки лазерного луча с фокусирующей системой, блок измерени  величины сопротивлени  резистора и блок управлени , отличающеес  тем, Мто, с целью упрощени  устройства и увеличени  его производительности при сохранении высокой точности подгонки , источник лазерного излучени  выполнен на лазере с модулированной добротностью и дискретно перестраиваемой в процессе.генерации длиной волны, а блок линейной развертки лазерного луча выполнен в виде оптического элемента, обладающего спектральнбй угловой дисперсией в плоскости линейной развертки. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1. Анохов С.П., Кравченко В.И. Твердотельные оптические квантовые свип-генераторы. Квантова  электроника , 1975, 6,9, с.12б-1«8.

   Ф((г,1