SU874231A1

SU874231A1 - Method of cleaning parts

Info

Publication number: SU874231A1
Application number: SU782666153A
Authority: SU
Inventors: Мирза Ага Аюб Оглы Багиров; Виктор Алексеевич Осколонов; Валерий Павлович Малин; Евгений Борисович Василевский
Original assignee: Сектор Радиационных Исследований Ан Азербайджанской Сср
Priority date: 1978-09-12
Filing date: 1978-09-12
Publication date: 1981-10-23

Description

(54) СПОСОБ ОЧИСТКИ ДЕТАЛЕЙ(54) METHOD FOR CLEANING PARTS

1one

Изобретение относитс к очистке поверхностей и может быть использовано дл очистки деталей и узлов вакуумных систем.The invention relates to the cleaning of surfaces and can be used to clean parts and assemblies of vacuum systems.

Известен способ очистки деталей с помощью травлени высокочастотной кислородной плазмой 1.A known method of cleaning parts by etching with high-frequency oxygen plasma 1.

К недостаткам этого способа относ тс необходимость использовани ВЧ генератора и большое врем очистки.The disadvantages of this method include the need to use an RF generator and a long cleaning time.

Наиболее близким к изрбретенйю . вл етс способ очистки деталей, вклю чающий обработку их поверхности .газообразной кислородсодержащей средой и вакуумирование 2 .The closest to Izbrbtenyu. is a method of cleaning parts, including surface treatment with a gaseous oxygen-containing medium and vacuum 2.

Недостаток способа состоит в том, что на очищаемую деталь оказывают действие электроны и ионы, что существенно ограничивает область применени способа и снижает качество очистки.The disadvantage of the method is that electrons and ions have an effect on the part being cleaned, which significantly limits the scope of application of the method and reduces the quality of cleaning.

Целью изобретени вл етс повьаиение качества очистки.The aim of the invention is to improve the quality of cleaning.

Поставленна цель достигаетс т,ем, что обработку поверхности деталей производ т струей активированного кислорода при давлении 0,1-10 ммрт.ст,The goal is achieved by the fact that the surface treatment of the parts is produced by a jet of activated oxygen at a pressure of 0.1-10 mmHg,

Диссоциированный (атомарный) кисло род получают с помощью тлеющего разр да в трубке Вуда,в которую с Dissociated (atomic) oxygen is obtained using a glow discharge in the Wood tube, in which

объемной скоростью подают кислород с небольшой примесью паров вОды дл увеличени выхода атомов кислорода. Из трубки Вуда частично диссоциированный кислород откачивают из разр дной зоны через диафрагму в виде сопла в рабочую камеру, где перпендикул рно оси сопла располагаетс очищенна , деталь. Сопло служит дл сведе10 ни к минимуму электронно- ионносоставл ющей плазмы и формировани струи активированного кислорода.the bulk velocity is supplied with oxygen with a small admixture of water vapor to increase the yield of oxygen atoms. From the Wood tube, the partially dissociated oxygen is pumped out from the discharge zone through the orifice plate in the form of a nozzle into the working chamber, where there is a cleaned part perpendicular to the axis of the nozzle. The nozzle serves to minimize the electron-ion component of the plasma and form a jet of activated oxygen.

Атомарный кислород вызывает полное и быстрое удаление всех органичес15 ких соединений в результате химического взаимодействи с ними, при этом единственными продуктами реакции вл ютс углекислый газ и пары воды, которые легко удалйютс в процессе Atomic oxygen causes the complete and rapid removal of all organic compounds as a result of chemical interaction with them, with the only reaction products being carbon dioxide and water vapor, which are easily removed in the process.

20 самой очистки путем откачки. Активированный кислород способен очищать детали самой сложной конфигурации с отверсти ми самого малого диаметра.20 most cleaning by pumping. Activated oxygen is able to clean parts of the most complex configuration with holes of the smallest diameter.

Пример. Вакуумна система, Example. Vacuum system

25 предназ|1аченна дл обработки интегральных схем/ состо ща из стекл нного колпака, винйпластового резервуара и соединительных трубок общим объемом 25 л., откачивалась с помощью насоса РВИ-20 (максимально25 prednazhennaya for processing integrated circuits / consisting of a glass cap, viniplast reservoir and connecting tubes with a total volume of 25 liters, was pumped out using an RVI-20 pump (

Claims

30 achievable vacuum at idle 510 mm Hg) for 15 days. as a result, it was possible to reach a vacuum of 6 10 mm Hg. After treatment with activated oxygen for 2 hours, the vacuum was raised to rt. Art., i.e., a practically possible vacuum has been reached. During the treatment, the oxygen pressure was 1 mm / m., The oxygen consumption was 10 l / h, the density of oxygen atoms at the nozzle exit, measured by catalytic recombination on platinum, was 10 atoms / cm-s. The method of cleaning parts with a jet of activated oxygen has the following advantages in comparison with the known methods: simplifying the cleaning process, avoiding the use of substances harmful to the human body, relieving complicated equipment, and preventing damage to the surface of parts by electron-ion bombardment. Claims of the method for cleaning parts, including treating their surface with an oxygen-containing gaseous medium and vacuuming, characterized in that, in order to improve the quality of cleaning, the surface treatment of parts is jetted with activated oxygen at a pressure of 0.1-10 mm Hg. Sources of information taken into account in the examination 1. US patent 3,723,289, cl. H 01 T 19/00, 1973.

2.Dugdale R.A. Thin Solid Films, 1977, 45, 3, 541-552.