SU857305A1 - Palladium-plating electrolyte - Google Patents
Palladium-plating electrolyte Download PDFInfo
- Publication number
- SU857305A1 SU857305A1 SU792851686A SU2851686A SU857305A1 SU 857305 A1 SU857305 A1 SU 857305A1 SU 792851686 A SU792851686 A SU 792851686A SU 2851686 A SU2851686 A SU 2851686A SU 857305 A1 SU857305 A1 SU 857305A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- coatings
- electrolyte
- palladium
- saccharin
- ammonium
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Изобретение относитс к ггшьваностегии , в частности к электролитичес кЬму осаждению палладиевых покрытий. Известны амминохлоридные электролиты Псшладировани дл получени матовых покрытий, содержащие хлористый палладий, сол ную кислоту, аммиа сернокислый гилмоний и хлористы аммоний . С целью получени малопористы покрытий в этот электролит ввод т сульфит натри i и 2. Однако эти электролиты не позвол ют получать качественные пешладиевые покрыти толщиной более 5 мкм. Наиболее близким по технической сувдности вл етс электролит, содержащий хлористый палладий, сернокислый аммоний, гидроксид аммони и сахарин t-. Из известного электролита при теМ пературе 20-60 С в интервале катодны плотностей тока от 0,6 до 1,6 А/дм можно осаждать полублест щие осадки паллгщи толщиной до 20 мкм, минимальна пористость котоЕ лх составл ет 0,05%, а степень блеска не превышает 18S. При толщинах более 20 мк в покрыти х возникают микротрещины. Цель изобретени - повышение качества покрыти . Поставленна цель достигаетс тем, что известный электролит дополнительно содержит динатриевую соль 1-карбокси-8-гептадецен-11-ил серной кислоты при следующем соотношении компонентов, г/л: Хлористый палладий 20-40 Сернокислый арФтоний 20-30 Сол на кислота15-25 Гидроксид аммони 150-250 Сахарин0,2-0,6 Динатриева соль 1-каЕ бокси-8-гептадецен-11-ил серной кислоты0,2-0,4 Указанное соединение (C aH- NajOg S) вл етс поверхностно-активным веществом , хорошо смачивающим паллс1дий и не разлагающимс в процессе электролиза . Введение этого соединени в электролит палладировани обеспечивает возможность получени толстослойных (до 60 мкм), высокоблерт щих, практически беспористых покрытий. Процесс осаждени рекомендуют провод 1ть при рН электролита 8,5-9,5, катодной плотности тока от 0,5 до 2,0 А/дм, температуре 15-30 С, желательно анодную область отдел ть отThe invention relates to gsvanostegii, in particular to electrolytic deposition of palladium coatings. Amino chloride electrolytes Psshladirovany to obtain matte coatings containing palladium chloride, hydrochloric acid, ammonium ammonium sulphate and ammonium chloride are known. In order to obtain low-porous coatings, sodium i and 2 sulfite are injected into this electrolyte. However, these electrolytes do not allow to obtain high-quality Peshladium coatings with a thickness of more than 5 microns. The closest in technical grade is an electrolyte containing palladium chloride, ammonium sulphate, ammonium hydroxide and saccharin t-. From a known electrolyte with a temperature of 20–60 ° C, in the cathode range of current densities from 0.6 to 1.6 A / dm, it is possible to precipitate semi-bright precipitates with thicknesses up to 20 µm, the minimum porosity of which is 0.05%. gloss does not exceed 18S. At thicknesses greater than 20 microns, microcracks occur in the coatings. The purpose of the invention is to improve the quality of the coating. The goal is achieved by the fact that the known electrolyte additionally contains 1-carboxy-8-heptadecene-11-yl disodium salt of sulfuric acid in the following ratio of components, g / l: palladium chloride 20-40 ArFtonium sulfate 20-30 Sol per acid15-25 Hydroxide ammonium 150-250 saccharin 0.2-0.6 disodium salt 1-ka boxy-8-heptadecen-11-yl sulfuric acid 0.2-0.4 The said compound (C aH-NajOg S) is a surfactant, good wetting palls and non-degradable during electrolysis. The introduction of this compound into the palladating electrolyte makes it possible to obtain thick-layer (up to 60 µm), high-bleed, almost porous coatings. The deposition process is recommended by wire 1t at an electrolyte pH of 8.5-9.5, cathode current density from 0.5 to 2.0 A / dm, temperature 15-30 ° C, preferably the anodic region is separated from
катодной микропористой диафрагмой. В этом случае анолитом может служить раствор, соедин ющий 150 мл/л 25%-ного раствора аммиака и 30 г/л сульфата аммони . Корректирование электролита производ т добавлением расчетного количества диаминдихлорпаллади после уменьшени его концентрации на 30%. ,Сульфат аммони добавл етс один раз ,в мес ц. Содержание сахарина и динатриевой соли 1-карбокси-8-гептадецен-11-ил серной кислоты не анализируетс , а эти добавки пополн ютс после пропускани каждых 3,0 А|Ч/л электролита в количестве по О,1 г/л и 0,4 г/л соответственно. АгФ1иак добавл ют периодически после уменьшени рН электролита до 8,5 в коли4ectBe , обеспечивающем величину РН 9,2. .cathode microporous diaphragm. In this case, the solution connecting 150 ml / l of a 25% ammonia solution and 30 g / l of ammonium sulfate can serve as an anolyte. The correction of the electrolyte is made by adding the calculated amount of diamine dichloropalladium after decreasing its concentration by 30%. Ammonium sulphate is added once per month. The content of saccharin and disodium salt of 1-carboxy-8-heptadecen-11-yl sulfuric acid is not analyzed, and these additives are replenished after passing every 3.0 A | H / l electrolyte in the amount of O, 1 g / l and 0, 4 g / l, respectively. AgF1aac is added periodically after reducing the pH of the electrolyte to 8.5 in the amount of BeB, providing a pH value of 9.2. .
Дл одного литра электролита в конической круглодонной колбе емкостью 1,5 л, содержащий 200 МП 4%-ого раствора сол ной кислоты , раствор ют 30 г хлорида паллади при нагревании. В этот раствор постепенно вливают 500 мл 10%-ого аммиака, подогревают до температуры . Вначале выпадает осадок розового цвета, который при перемешивании в течение одного часа полностью раствор етс Затем, в электролит прибавл ют 20 г сульфата аммони . После этого добавл ют 0,5 г сахарина и 15 мл 2%-ого раствора динатриевой соли 1-карбокси-8-гепталецен-11-ил серной кислоты, растворенной в 0,1 н. растворе едкого кали . Долчэзают дистиллированной водой до объема 1 л и получают готовый электролит палладировани .For one liter of electrolyte in a 1.5 liter conical round-bottomed flask containing 200 MP of a 4% hydrochloric acid solution, 30 g of palladium chloride are dissolved when heated. 500 ml of 10% ammonia is gradually poured into this solution, heated to temperature. First, a pink precipitate is formed, which, with stirring, is completely dissolved for one hour. Then, 20 g of ammonium sulfate is added to the electrolyte. Then, 0.5 g of saccharin and 15 ml of a 2% solution of 1-carboxy-8-heptalene-11-yl disodium salt of sulfuric acid dissolved in 0.1 N are added. potassium hydroxide solution. Dilute with distilled water to a volume of 1 l and get ready palladium electrolyte.
Электролит стабилен во времени. При хранении его в открытом виде происходит медленное понижение рН электролита, первичное значение его легко достигаетс введением в электролит небольшого количества аммиака.Electrolyte is stable in time. When it is stored in open form, the pH of the electrolyte is slowly lowered; its primary value is easily achieved by introducing a small amount of ammonia into the electrolyte.
Изобретение иллюстрируетс примерами , приведенными в таблице, оThe invention is illustrated by the examples given in the table,
Динатриева соль 1-карбокси-8-гептадец-11-ил серной кислотыDisodium salt of 1-carboxy-8-heptadec-11-yl sulfuric acid
рН электролитаelectrolyte pH
2 плотность тока. А/дм 2 current density. A / dm
Температура,°СTemperature, ° С
Выход по току, %Current output,%
Скорость осаждени ,Deposition rate
мкм/чµm / h
Отражательна способность , %Reflectance,%
Максимальна -толщина пдкрыти до по влени М1|1кротрещин, мкм Maximum thickness of the cover until the appearance of M1 | 1 crack, microns
Пористость, %Porosity,%
г Твердость, кг/мм g Hardness, kg / mm
Рассеивающа способность электролита по Хитлею, % Electrolyte dispersing ability according to Heathleys,%
0,2 0,2 0,3 0,4 0,40.2 0.2 0.3 0.4 0.4
8,5 9,0 9,0 9,3 9,58.5 9.0 9.0 9.3 9.5
0,5 1,0 1,5 1,5 2,00.5 1.0 1.5 1.5 2.0
18-25 18-25 28-25 18-25 18-2518-25 18-25 28-25 18-25 18-25
98,5 98,7 98,4 98,5 9898.5 98.7 98.4 98.5 98
3232
2525
2525
16sixteen
5858
55 До 60 До 65 До 6455 To 60 To 65 To 64
60 6060 60
55 60 6055 60 60
0,01 0,0150.01 0.015
0,01 0,01 0,020.01 0.01 0.02
340 340340 340
330 340 340330 340 340
7777
7676
8080
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU792851686A SU857305A1 (en) | 1979-12-13 | 1979-12-13 | Palladium-plating electrolyte |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU792851686A SU857305A1 (en) | 1979-12-13 | 1979-12-13 | Palladium-plating electrolyte |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU857305A1 true SU857305A1 (en) | 1981-08-23 |
Family
ID=20864453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU792851686A SU857305A1 (en) | 1979-12-13 | 1979-12-13 | Palladium-plating electrolyte |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU857305A1 (en) |
-
1979
- 1979-12-13 SU SU792851686A patent/SU857305A1/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1045075A (en) | Bright tin-nickel alloy plating electrolyte | |
JPH11152596A (en) | Electrolyte for electroplating low stress crack resistant ruthenium layer, its production, and utilization of pyridine and n-alkylated pyridium salt as electrolyte additive | |
JPS6229514B2 (en) | ||
US3793162A (en) | Electrodeposition of ruthenium | |
SU857305A1 (en) | Palladium-plating electrolyte | |
US4543167A (en) | Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath | |
JPS6131195B2 (en) | ||
US4673471A (en) | Method of electrodepositing a chromium alloy deposit | |
EP0088192B1 (en) | Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath | |
US2577365A (en) | Rhodium plating | |
US4411744A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
SU1344816A1 (en) | Indium-plating electrolyte | |
SU1201354A1 (en) | Silvering electrolyte | |
JPS6056234B2 (en) | Manufacturing method of active anode | |
RU2211887C2 (en) | Method for zinc electrodeposition | |
SU732412A1 (en) | Method of platinum-plating of metals | |
RU2071996C1 (en) | Aqueous electrolyte for bright nickel-plating, its variant | |
RU1788096C (en) | Electrolyte for gilding | |
SU973673A1 (en) | Electrolyte for bright nickel plating | |
SU150726A1 (en) | Copper-tin alloy plating method | |
SU885364A1 (en) | Electrolyte for precipitating nickel-iron alloy coatings | |
SU956629A1 (en) | Electrolyte for depositing coatings from nickel=iron alloy | |
SU1071668A1 (en) | Electrolyte for depositing coatings of zinc-nickel alloys | |
SU876797A1 (en) | Chrome-plating electrolyte | |
SU1761820A1 (en) | Electrolyte for copper plating |