SU715609A1 - Solution for pickling crystalline quartz piezoelements - Google Patents

Solution for pickling crystalline quartz piezoelements Download PDF

Info

Publication number
SU715609A1
SU715609A1 SU782620167A SU2620167A SU715609A1 SU 715609 A1 SU715609 A1 SU 715609A1 SU 782620167 A SU782620167 A SU 782620167A SU 2620167 A SU2620167 A SU 2620167A SU 715609 A1 SU715609 A1 SU 715609A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
solution
crystalline quartz
piezoelements
pickling
hydrofluoric acid
Prior art date
Application number
SU782620167A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Марина Николаевна Данчевская
Нина Ивановна Корнеева
Сергей Николаевич Торбин
Нина Яковлевна Спивакова
Роальд Давыдович Эрлих
Original Assignee
Московский Ордена Ленина И Ордена Трудового Красного Знамени Государственный Университет Им.М.В.Ломоносова
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Московский Ордена Ленина И Ордена Трудового Красного Знамени Государственный Университет Им.М.В.Ломоносова filed Critical Московский Ордена Ленина И Ордена Трудового Красного Знамени Государственный Университет Им.М.В.Ломоносова
Priority to SU782620167A priority Critical patent/SU715609A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU715609A1 publication Critical patent/SU715609A1/en

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description

(54) РАСТВОР ДЛЯ ТРАВЛЕНИЯ ПЬЕЗОЭЛЕМЕНТОВ ИЗ КРИСТАЛЛИЧЕСКОГО КВАРЦА(54) SOLUTION FOR Etching PIEZO ELEMENTS FROM A CRYSTALLINE QUARTZ

,,J. ./., ..: :, 3 ;715609,, J. ./., ..::, 3; 715609

Пример у, В In воды раствор ют 00 г бифторида аммони . К полученному аствору добавл ют 1,53 л 45% плавиковой ислоты, 2,3 мл хинолина и 1,3 г каптакса. ри этом получают следующее соотношениеsExample y, In In water dissolve 00 g of ammonium bifluoride. To the resulting solution, 1.53 liters of 45% hydrofluoric acid, 2.3 ml of quinoline and 1.3 g of captax are added. At that, the following relations are obtained

омпонентов, вес.%:Components, wt.%:

Плавикова  кислота25Hydrofluoric acid25

Аммоний бифторид .25Ammonium bifluoride .25

ХинолинОДQuinolinOD

Каптакс0,0510Kaptaks0.0510

ВодаОстальноеWaterEverything

Скорость растворени  кварца в з азанном растворе 0,15 мкм/мин, врем  устойчивости мтадгослрйных покрытий в растворе 20 ч. Металлическое покрытие, сохранилось. Щели 15 протравились на ,150 мкм. Кра  четкие. Пример 2. Ъ1л воды раствор ют 540 г бифторида аммони . К полученному раствору доливают 640 мл 45% плавиковой кислоты и 2,1 мл хинолина. После чего до- 20 бавл ют 1,2 г каптакса. При этом получаетс  следующее соотношение компонентов, вес.%: Плавикова  кислота15The rate of dissolution of quartz in this solution is 0.15 µm / min, the stability time of the mixed coatings in the solution is 20 h. The metallic coating is preserved. Gaps 15 were etched on, 150 microns. Kra clear. Example 2. 540 g of ammonium bifluoride is dissolved in water. 640 ml of 45% hydrofluoric acid and 2.1 ml of quinoline are added to the resulting solution. After that, 1.2 g of captax are added. This gives the following ratio of components, wt.%: Hydrofluoric acid 15

Аммоний бифторид23,3Ammonium bifluoride23,3

Хинолин 0,125Quinoline 0.125

Каптакс0,05 . .Kaptaks0.05. .

ВодаIОстальное.Water is the rest.

Скорость растворени  кварца 0,067 мкм/мин, врем  устойчивости более 22 ч. Меуаллическое покрытие сохранилось. Щели протрави- 30 лись на 100 мкм. Кра  рисунка четкие.The dissolution rate of quartz is 0.067 µm / min, the stability time is more than 22 hours. The meuallic coating is preserved. The slits were treated with 100 μm. The edge of the picture is clear.

T asnewim подвергались кварцевые пластаны среза 2УВ/+5° размером 19,8x24x0,2 мм с нанесенным рисунком металлических электродов . Металлические покрыти  толщиной 35 нихром 0,05 мкм/серебро 0,2 мкм. После нанесени  электродов пластины покрывались гидрофобизующим веществом - фенилтрихлЬрсиланом и затем наносилась защитна  маска из позитивного кислотостойкого фоторезиста в форме группы пьезоэлементов.T asnewim were exposed to quartz sheets of a 2UV / + 5 ° slice with a size of 19.8x24x0.2 mm with a printed pattern of metal electrodes. Metallic coatings with a thickness of 35 microns of 0.05 microns / silver 0.2 microns. After applying the electrodes, the plates were coated with a hydrophobic substance — phenyl trichlorosilane — and then a protective mask of a positive acid resistant photoresist was applied in the form of a group of piezoelements.

Предлагаемый состав раствора дл  травлени  пьезоэлементов из кристаллического кварца позвол ет одновременно получать целую (Серию пьезоэлементов, обеспечивает гладкую границу среза пьезоэлемента, не разрушает нанесенные на пьезоэлемеНт метал лические электроды. Защитна  маска фоторезиста при использовании предлагаемого раствора сохран етс  на поверхности кварца 20-22 ч, и подтравливание кварца при- этом не наблюдаетс . Готовые издели  имеют заданные геометрические параметры с точностью до 2 мкм. Травление происходит при комнат ной температуре.The proposed composition of the etching solution of piezoelectric elements made of crystalline quartz allows you to simultaneously obtain a whole (series of piezoelectric elements, provides a smooth cut edge of the piezoelectric element, does not destroy the metallic electrodes deposited on the piezoelement. no quartz undercut is observed. Finished products have specified geometrical parameters with an accuracy of 2 µm. Etching occurs at room temperature temperature

Claims (1)

Формула изобретени Invention Formula Раствор дл  травлени  пьезоэлементо1в из Кристаллического кварца, содержащий плавиковую кислоту, бифторид аммони  и воду, отличающийс  тем, что, с целью повышени  скорости травлени  и снижени  агрессивности раствора, он дополнительно содержит ХИНОЛИН и каптакс при следующем соотношении компонентов, вес.%:A solution for etching piezoelement from crystalline quartz containing hydrofluoric acid, ammonium bifluoride and water, characterized in that, in order to increase the etching rate and reduce the aggressiveness of the solution, it additionally contains XYNOLIN and captax in the following ratio of components, wt.%: Плавикова  кислота15-25Hydrofluoric acid 15-25 Бифторид аммони  15-25Ammonium bifluoride 15-25 Хинолин0,05-0,1Quinoline 0.05-0.1 Каптакс 0,01-0,05Kaptaks 0.01-0.05 ВодаОстальноеWaterEverything Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1. Харивуло И. Г. и Литинска  Н. М., Алмазы, 1970, 3, № 4, 27-31 (прототип).Sources of information taken into account in the examination 1. Kharivulo I. G. and Litinska N. M., Almazy, 1970, 3, No. 4, 27-31 (prototype).
SU782620167A 1978-05-26 1978-05-26 Solution for pickling crystalline quartz piezoelements SU715609A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782620167A SU715609A1 (en) 1978-05-26 1978-05-26 Solution for pickling crystalline quartz piezoelements

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782620167A SU715609A1 (en) 1978-05-26 1978-05-26 Solution for pickling crystalline quartz piezoelements

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU715609A1 true SU715609A1 (en) 1980-02-15

Family

ID=20766555

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU782620167A SU715609A1 (en) 1978-05-26 1978-05-26 Solution for pickling crystalline quartz piezoelements

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU715609A1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5348617A (en) * 1991-12-23 1994-09-20 Iowa State University Research Foundation, Inc. Selective etching process
CN111992331A (en) * 2020-09-01 2020-11-27 安徽南玻石英材料有限公司 Continuous pickling production method and production equipment for quartz sand

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5348617A (en) * 1991-12-23 1994-09-20 Iowa State University Research Foundation, Inc. Selective etching process
CN111992331A (en) * 2020-09-01 2020-11-27 安徽南玻石英材料有限公司 Continuous pickling production method and production equipment for quartz sand
CN111992331B (en) * 2020-09-01 2022-03-01 安徽南玻石英材料有限公司 Continuous pickling production method and production equipment for quartz sand

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4554050A (en) Etching of titanium
DE68912351T2 (en) ETCH SOLUTION FOR METAL LAYER WITH PHOTO PAINT STRUCTURE.
CA1101765A (en) Process for etching holes
SE441878B (en) PLASMAETSNINGSFORFARANDE
SU715609A1 (en) Solution for pickling crystalline quartz piezoelements
KR970703280A (en) PROCESS FOR PREPARING PRECIPITATE OF METAL OXIDE
EP0022280A1 (en) Process for the chemical etching of silicon substrates
BR8402693A (en) PROCESS OF PREPARATION AND USE OF ELECTRODES
ES504762A0 (en) A METHOD FOR MANUFACTURING AN ELECTRODE FOR USE IN ELECTROLYTIC PROCEDURES
DE2635245C2 (en) Process for the production of electrically conductive indium oxide patterns on an insulating carrier and their use
US5451426A (en) Method for formation of barium titanate film
EP0168706B1 (en) Process for forming titane structures with precise dimensions
JP2003253482A (en) Method for removing titanium film and titanium oxide
JPS57196589A (en) Manufacture of nonlinear element
JPH0311093B2 (en)
JPS5923403B2 (en) Method for manufacturing transparent conductive film
SU1511229A1 (en) Etching composition
SU528631A1 (en) A method of manufacturing multi-point autoelectronic emitters
JPH01147077A (en) Etching solution
RU2016915C1 (en) Liquid for etching of refractory metals
JPS61148871A (en) Corrosion resisting comb shaped electrode
JPS5670966A (en) Ink jet head and production thereof
JPS5730816A (en) Liquid crystal electrode substrate
CH616708A5 (en) Etching fluid for aluminium or aluminium alloys.
JPS5613731A (en) Manufacture of semiconductor device