SU629447A1 - Устройство дл контрол радиусов кривизны и местных ошибок оптических поверхностей деталей - Google Patents

Description

Изобретение относитс  к контрольноизмерительной технике и может быть использовано , Б частности, при контроле ра-« анусов кривизны и местных ошибок оптичвских . поверхностей деталей больших ли нейных размеров и больших радиусов кривизны ..

Известно устройство дл  контрол  радиусов кривизны и местных ошибок оптических поверхностей деталей, содержащее беэаберрационные оптические элементы, что усложн ет испольж)вание такого устройства дл  контрол  оптических поверхностей больших радиусов кривизны и большюс линейных размеров.

Наиболее близким по технической сущности в достигаемому результату к изобретению  вл етс  устройство дл  контрол  радиусов кривизны и местных ошибок опт ческих поверхностей деталей, содержащвё расположенные последовательно источшис  злучев0 , осветительную систему, светоделитель, рассеивающую пластину, юстируемую платформу дл  креплени  конт рол рувмой детали и наблюдательную сиетему , установленную перед рассеивающей пластиной.

Б известном устройстве вместо беэаберрационных оптических элементов используетс  рассеивающа  пластина.

Контроль поверхности осуществл етс  по виду локализованной на рассеивающей пластине интерференционной картине, котора  возникает при интерференции двух лучей, один из которых сначала рассеива- етс  рассеивающей пластиной, а потом отражаетс  от контролируемой поверхности а другой луч сначала отражаетс  центральной частью контролируемой поверхности, а затем рассеиваетс  рассеивающей пластиной .

Claims (1)

1. Однако недостатком такого устройства  вл етс  то, НТО размер устройства не может быть меньше радиуса кривизны контролируемой оптической поверхности, что очень усложн ет применение известного устройства дл  контрол  поверзшостн с большим радиусом кривизны. Кроме того, устройством нельз  контролировать вы- , пуклые оптические поверхвостн. Дл  уменьшени  габаритов предлагаемое устройство снабжено эталогшым зеркалом , установленным ,жестко на платформе , обрашенным отражающей поверхлостью в сторону рассеивающей пластины и выполненным, например, в виде контрольного пробного стекла и пространственным модул тором излучени , установленным между наблюдательной системой и рассе- иваюшей пластиной. Введение еталонного зеркала и пространственного модул1Ггора излучени  в известное устройство дл  контрол  вогнутых оптических поверхиостей позвол ет сделать габариты устройства меньше радиуса кривизны контролируемой детали и осуществл ть контроль как вогнутых, так и выпуклых оптических поверхностей. На чертеже дана принципиальна  схема предла аемого устройства. OHD содержит источник 1 излучени , осветительную систему 2, юстируемую платформу 3 дл  креплени  контролируемой детали, эталонное зеркало 4, рассеивающую пластину 5, светоделитель 6, про странственный модул тор 7 излучени , наблюдательную систему 8. Индексом 9 обозначена контролируема  деталь. X, У, i - оси координат, где ось У перпендикул рна к плоскости чертежа. Устройство работает следующим образом . Излучение от источника 1 излучени  через осветительную систему 2, светоделитель 6 и рассеивающую пластину 5 одновременно освещает эталонное зеркало 4и контролируемую деталь 9, Предварительно получают пространственный модул тор 7 излучени  путем регистрации через рассеивающую пластину 5голограммы контролируемой детали 9 и эталонного зеркала 4. В качестве опор ного луча при регистрации голограммы ис пользуетс  луч, отраженный от светодели теле 6. Затеъ, юстируема  платформа 3, сдв гает а параллельно рассеивающей пласт№не 5, например, по оси У.При наблюдении через наблюдательную систему 8 видна система вквидистантных полос, перпендикулачных к оси У, локализованных на рас свивающей пластине 5 напротив отражающих поверхностей контролируемой детали 9 и эталонного зеркала 4. Интерференционные полосы возникают в результате интерференции излучени , о раженного от исследуемых поверхностей в исходном и сдвинутом состо ний. Велиина сдвига юстируемой платформы 3 выираетс  из соображений требуемой точости измерений в пределах 0,05-0,5 часи диаметра эталонного зеркала. Затем юстируема  платформа 3 повораиваетс  вокруг оси i , пока при наблюении через наблюдательную систему 8 на частке рассеивающей пластины 5, располоенной напротив эталонного зеркала 4, неисезнут интерференционные полосы (в.резуль- ате компенсации набега фаз, получившегос  , при сдвиге юстируемой пластформы 3 вдоль оси у). Радиус кривизны и местные ошибки контролируемой детали иалер ютс  путем сра.нени  волновых фроитов, отражш1ных от эталонного зеркала 4 и контролируемой д&тали 9. Ушстки контролируемой детали 9, расположенные за теми участками рассеива ющей пластины 5, на в результате сдвига и поворота юс ируемой платформы 3 исчезли интерференциоикые полосы, имеют тот же радиус кривизны, что и вта- лонное зеркало 4. Наличие интерференционных полос на участках рассеивающей пластины 5 перед контролируемой деталью 9, показывает отклонедие формы контролируемой детали 9 от известной формы эт« лонного зеркала 4. Использование изобретени  позволит значительно сокр атить площадь, занимаемую установкой. Формула изобретени  Устройство дл  контрол  радиусов кр - ВЕзны и местных ощибсж оптичвсЕнх поверхностей деталей, содержащее расположенные последовательно источник излуче-. ИИ2, осветительную систему, светоделитель , |}ассеивающую пластину, юстируемую Ш1ат1)юрму дл  креплени  контро/шрувмой детали и наблюдательную систему, установленную перед рассеивающей пластиной, отличающеес  тем, что, с ц&лью ума1ьщени  габаритов устройства, оно снабжено эталонным ркалом, установленным жестко на платформе, обращш1ным отражающей поверхностью в сторону рассеивающей пластины в выполненным, например , в виде контрольного пробного стекла , и пространственным модул тором излу«« |Ченн , установленным между наблюдательной системой и рассеивающей пластиной.

   g

   f /