SU621801A1 - Способ нанесени металлических покрытий - Google Patents
Способ нанесени металлических покрытийInfo
- Publication number
- SU621801A1 SU621801A1 SU762416349A SU2416349A SU621801A1 SU 621801 A1 SU621801 A1 SU 621801A1 SU 762416349 A SU762416349 A SU 762416349A SU 2416349 A SU2416349 A SU 2416349A SU 621801 A1 SU621801 A1 SU 621801A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- coatings
- metal
- compounds
- copper
- coating
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/06—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
- C23C16/18—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material from metallo-organic compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Claims (2)
- Изобретение относитс к области нанесени металлических покрытий, в частности медных к никелевых,, термическим расположением металлоорганнческих соединений и может быть использовано в металлургии и электронике при изготовлении изделий с защитными, электропрГУВОДНЫМИ , па ными и другими покрыти ми. Известен способ получени металлических покрытий, в частности медных, путем пиролиза формиатных соединений меди в вакууме при 35О-450 С ij. Однако испарение формиатов большинства металлов требует нагрева до тем ператур близких или более высоких по сравнению с температурой их разложени , что сопровождаетс малой эффективностью использовани металлсодержащего сырь . Наиболее близким к предложенному по технической сущности и достигаемому эффекту вл етс способ нанесени металлических покрытий путем термического разл жени паров металлоорганических соединений относительно термост ильных при температуре испарени , в частности ад тШ1ацето атвых и дпеннльных производшх, в восстайое тельнсхЗ атмосфере (водород на нагретой до 25O-SOO С поверхности изделий Га. Недостатками такга о способа вл ютс : низка чистота получаемых но1фытий (загр знение мета ла покрыти попимерными продуктами пиролиза, окисными соединени ми и углеродом достнгает 6О%), взры воопасность процесса, обусловленна использованием . дл создани воостановительн{ атмосферы. Цель изобретени - повышение чистоты покрыти и снижение варываемости процео са. Достигаетс это тем, что восстановительную атмосферу создают при помощи паров муравьиной кислоты, которые подают непосредственно к покрываемсй поверлности при мольном соотношении к парам металлоорганическэго соединени (h-3tt): ;1, где h - валентность металла. Процесс осуществл ют при пониженном давлении в системе. В качестве металлоорганических соединений используют. например, ацетилацетонаты ; и циклопентадиенилы металлов. Получают покрыти толщиной ОД-Юмк со скоростью осаждени до 2,5 мкм/ч. Неравномерность покрытий на полированной феррнтовой пластинке площадью 4 см не превышает 5-7%, адгези к основе составл ет 15О-200 кг/см . Пример, Стекл нные подложки помещают в кварцевый сосуд, имеющий отвод -ДЛЯ вакуумной откачки, нагреватель ные печи и систему подачи паров исходных соединений. Нагревают подложки до 35№iO С, ввод т в сосуд адетилацетонат меди, испар емый при asoiiot, и непосредственно к поверхности покрываемых подложек подвод т пары муравьиной -дкислоты в мольном отношении к парам ацетилацетоната меди 2:1., Процесс ведут при давлении в системе рт. ст. содержание меди в полученном покрытии составл ет 06%, остальное - углерод. П р и м е р 2. Процесс осуществл ют по примеру 1, но в : качества металлсодержащего соединений берут бис-{циклопентадиенил ) никел , испар емый при 120 i 10 С. Содержание никел в покры тии составл ет 58%, остальное - углерод Предложенный способ нанесени металлических покрытий из паровой фазы по сравнению с существующим обеспечивает снижение содержани примесей в покрыти х , что позвол ет повысить их па емость электропроводность и травимость, т. е. расшир ет область применени в электронике . Формула изобретени Способ нанесени металлических покрытий путем термического разложени паров металлоорганических соединений в восстановительной атмосфере на нагретой поверхности изделий, отличающийс тем, что, с целью повыщени чистоты покрыти и снижени взрывоопасности процесса, восстановительную атмосферу создают при помощи паров муравьиной кислоты, которые подают непосредственно к покрываемой поверхности при мольном отношении к парам металлоорганического соединени ( h - 3 tt ): 1, где П - валентность металла. Источники информации, прин тые во внимание при . экспертизе: 1.Патент США № 2430520, кл. 117-35 , 1947.
- 2.Патент США N 3356527, кл. 117-102, 2 , 1967.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762416349A SU621801A1 (ru) | 1976-10-19 | 1976-10-19 | Способ нанесени металлических покрытий |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762416349A SU621801A1 (ru) | 1976-10-19 | 1976-10-19 | Способ нанесени металлических покрытий |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU621801A1 true SU621801A1 (ru) | 1978-07-21 |
Family
ID=20681399
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU762416349A SU621801A1 (ru) | 1976-10-19 | 1976-10-19 | Способ нанесени металлических покрытий |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU621801A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0368231A2 (en) * | 1988-11-07 | 1990-05-16 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process of producing copper plated resin article |
-
1976
- 1976-10-19 SU SU762416349A patent/SU621801A1/ru active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0368231A2 (en) * | 1988-11-07 | 1990-05-16 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process of producing copper plated resin article |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4992305A (en) | Chemical vapor deposition of transistion metals | |
KR20010074855A (ko) | 루테늄 및 산화루테늄의 화학 증착용 전구체 화합물 | |
Puddephatt et al. | Volatile organogold compounds [AuR (CNR1)]: Their potential for chemical vapour deposition of gold | |
KR920016609A (ko) | 구리의 화학적 증착을 위한 휘발성 액상 전구체 | |
US4915988A (en) | Chemical vapor deposition of group IIA metals and precursors therefor | |
Brierley et al. | The growth of ferroelectric oxides by MOCVD | |
KR890004997A (ko) | 플로우트 유리(float glass)상에 산화 금속 코우팅 부착을 위한 장치 및 방법 | |
FR2442669A1 (fr) | Composition servant a former une pellicule d'oxyde metallique sur la surface chauffee d'un support et procede pour former cette pellicule | |
EP0920435A1 (en) | Platinum source compositions for chemical vapor deposition of platinum | |
Basova et al. | Chemistry of gold (I, III) complexes with organic ligands as potential MOCVD precursors for fabrication of thin metallic films and nanoparticles | |
JP2018090855A (ja) | 化学蒸着用原料及びその製造方法、並びに該化学蒸着用原料を用いて形成されるインジウムを含有する酸化物の膜の製造方法 | |
US6416814B1 (en) | Volatile organometallic complexes of lowered reactivity suitable for use in chemical vapor deposition of metal oxide films | |
US4880670A (en) | Chemical vapor deposition of Group IB metals | |
US3321337A (en) | Process for preparing boron nitride coatings | |
US5441766A (en) | Method for the production of highly pure copper thin films by chemical vapor deposition | |
WO1989007666A1 (en) | Method of forming superconducting materials | |
SU621801A1 (ru) | Способ нанесени металлических покрытий | |
US4882206A (en) | Chemical vapor deposition of group IIIB metals | |
US2966427A (en) | Gas plating of alloys | |
US3101280A (en) | Method of preparing indium antimonide films | |
KR100298125B1 (ko) | 구리의 화학 증착에 유용한 유기 구리 전구체 | |
GB1136881A (en) | Vapour growth of silicon crystals and apparatus for producing the same | |
KR100681797B1 (ko) | 구리 화합물 및 이를 이용한 구리 박막의 제조 방법 | |
US4885188A (en) | Process for forming thin film of metal sulfides | |
JPS5547379A (en) | Manufacture of boron nitride coated film by chemical vapor deposition |