SU621801A1 - Способ нанесени металлических покрытий - Google Patents

Способ нанесени металлических покрытий

Info

Publication number
SU621801A1
SU621801A1 SU762416349A SU2416349A SU621801A1 SU 621801 A1 SU621801 A1 SU 621801A1 SU 762416349 A SU762416349 A SU 762416349A SU 2416349 A SU2416349 A SU 2416349A SU 621801 A1 SU621801 A1 SU 621801A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
coatings
metal
compounds
copper
coating
Prior art date
Application number
SU762416349A
Other languages
English (en)
Inventor
Владимир Ильич Ермолаев
Олег Николаевич Выдрин
Семен Владимирович Бабушкин
Original Assignee
Предприятие П/Я Г-4598
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я Г-4598 filed Critical Предприятие П/Я Г-4598
Priority to SU762416349A priority Critical patent/SU621801A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU621801A1 publication Critical patent/SU621801A1/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/06Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
    • C23C16/18Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material from metallo-organic compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Claims (2)

  1. Изобретение относитс  к области нанесени  металлических покрытий, в частности медных к никелевых,, термическим расположением металлоорганнческих соединений и может быть использовано в металлургии и электронике при изготовлении изделий с защитными, электропрГУВОДНЫМИ , па ными и другими покрыти ми. Известен способ получени  металлических покрытий, в частности медных, путем пиролиза формиатных соединений меди в вакууме при 35О-450 С ij. Однако испарение формиатов большинства металлов требует нагрева до тем ператур близких или более высоких по сравнению с температурой их разложени , что сопровождаетс  малой эффективностью использовани  металлсодержащего сырь . Наиболее близким к предложенному по технической сущности и достигаемому эффекту  вл етс  способ нанесени  металлических покрытий путем термического разл жени  паров металлоорганических соединений относительно термост ильных при температуре испарени , в частности ад тШ1ацето атвых и дпеннльных производшх, в восстайое тельнсхЗ атмосфере (водород на нагретой до 25O-SOO С поверхности изделий Га. Недостатками такга о способа  вл ютс : низка  чистота получаемых но1фытий (загр знение мета ла покрыти  попимерными продуктами пиролиза, окисными соединени ми и углеродом достнгает 6О%), взры воопасность процесса, обусловленна  использованием . дл  создани  воостановительн{ атмосферы. Цель изобретени  - повышение чистоты покрыти  и снижение варываемости процео са. Достигаетс  это тем, что восстановительную атмосферу создают при помощи паров муравьиной кислоты, которые подают непосредственно к покрываемсй поверлности при мольном соотношении к парам металлоорганическэго соединени  (h-3tt): ;1, где h - валентность металла. Процесс осуществл ют при пониженном давлении в системе. В качестве металлоорганических соединений используют. например, ацетилацетонаты ; и циклопентадиенилы металлов. Получают покрыти  толщиной ОД-Юмк со скоростью осаждени  до 2,5 мкм/ч. Неравномерность покрытий на полированной феррнтовой пластинке площадью 4 см не превышает 5-7%, адгези  к основе составл ет 15О-200 кг/см . Пример, Стекл нные подложки помещают в кварцевый сосуд, имеющий отвод -ДЛЯ вакуумной откачки, нагреватель ные печи и систему подачи паров исходных соединений. Нагревают подложки до 35№iO С, ввод т в сосуд адетилацетонат меди, испар емый при asoiiot, и непосредственно к поверхности покрываемых подложек подвод т пары муравьиной -дкислоты в мольном отношении к парам ацетилацетоната меди 2:1., Процесс ведут при давлении в системе рт. ст. содержание меди в полученном покрытии составл ет 06%, остальное - углерод. П р и м е р 2. Процесс осуществл ют по примеру 1, но в : качества металлсодержащего соединений берут бис-{циклопентадиенил ) никел , испар емый при 120 i 10 С. Содержание никел  в покры тии составл ет 58%, остальное - углерод Предложенный способ нанесени  металлических покрытий из паровой фазы по сравнению с существующим обеспечивает снижение содержани  примесей в покрыти х , что позвол ет повысить их па емость электропроводность и травимость, т. е. расшир ет область применени  в электронике . Формула изобретени  Способ нанесени  металлических покрытий путем термического разложени  паров металлоорганических соединений в восстановительной атмосфере на нагретой поверхности изделий, отличающийс   тем, что, с целью повыщени  чистоты покрыти  и снижени  взрывоопасности процесса, восстановительную атмосферу создают при помощи паров муравьиной кислоты, которые подают непосредственно к покрываемой поверхности при мольном отношении к парам металлоорганического соединени  ( h - 3 tt ): 1, где П - валентность металла. Источники информации, прин тые во внимание при . экспертизе: 1.Патент США № 2430520, кл. 117-35 , 1947.
  2. 2.Патент США N 3356527, кл. 117-102, 2 , 1967.
SU762416349A 1976-10-19 1976-10-19 Способ нанесени металлических покрытий SU621801A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762416349A SU621801A1 (ru) 1976-10-19 1976-10-19 Способ нанесени металлических покрытий

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762416349A SU621801A1 (ru) 1976-10-19 1976-10-19 Способ нанесени металлических покрытий

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU621801A1 true SU621801A1 (ru) 1978-07-21

Family

ID=20681399

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU762416349A SU621801A1 (ru) 1976-10-19 1976-10-19 Способ нанесени металлических покрытий

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU621801A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0368231A2 (en) * 1988-11-07 1990-05-16 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Process of producing copper plated resin article

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0368231A2 (en) * 1988-11-07 1990-05-16 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Process of producing copper plated resin article

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4992305A (en) Chemical vapor deposition of transistion metals
KR20010074855A (ko) 루테늄 및 산화루테늄의 화학 증착용 전구체 화합물
Puddephatt et al. Volatile organogold compounds [AuR (CNR1)]: Their potential for chemical vapour deposition of gold
KR920016609A (ko) 구리의 화학적 증착을 위한 휘발성 액상 전구체
US4915988A (en) Chemical vapor deposition of group IIA metals and precursors therefor
Brierley et al. The growth of ferroelectric oxides by MOCVD
KR890004997A (ko) 플로우트 유리(float glass)상에 산화 금속 코우팅 부착을 위한 장치 및 방법
FR2442669A1 (fr) Composition servant a former une pellicule d'oxyde metallique sur la surface chauffee d'un support et procede pour former cette pellicule
EP0920435A1 (en) Platinum source compositions for chemical vapor deposition of platinum
Basova et al. Chemistry of gold (I, III) complexes with organic ligands as potential MOCVD precursors for fabrication of thin metallic films and nanoparticles
JP2018090855A (ja) 化学蒸着用原料及びその製造方法、並びに該化学蒸着用原料を用いて形成されるインジウムを含有する酸化物の膜の製造方法
US6416814B1 (en) Volatile organometallic complexes of lowered reactivity suitable for use in chemical vapor deposition of metal oxide films
US4880670A (en) Chemical vapor deposition of Group IB metals
US3321337A (en) Process for preparing boron nitride coatings
US5441766A (en) Method for the production of highly pure copper thin films by chemical vapor deposition
WO1989007666A1 (en) Method of forming superconducting materials
SU621801A1 (ru) Способ нанесени металлических покрытий
US4882206A (en) Chemical vapor deposition of group IIIB metals
US2966427A (en) Gas plating of alloys
US3101280A (en) Method of preparing indium antimonide films
KR100298125B1 (ko) 구리의 화학 증착에 유용한 유기 구리 전구체
GB1136881A (en) Vapour growth of silicon crystals and apparatus for producing the same
KR100681797B1 (ko) 구리 화합물 및 이를 이용한 구리 박막의 제조 방법
US4885188A (en) Process for forming thin film of metal sulfides
JPS5547379A (en) Manufacture of boron nitride coated film by chemical vapor deposition