SU618617A1 - Радиоционна установка дл нагрева заготовок - Google Patents

Description

Изобретение относитс  к области машиностроени  и 1может быть применено дл  нагрева штучных заготовок, в частности при производстве крепежа из жаропрочных сталей и титановых сплавов методом тепловой или гор чей высадки при повторных технологических операци х.

Известна радиационна  установка дл  нагрева заготовок, в корпусе которой расположен рефлектор, состо пдий из блоков, имеющих отражательную поверхность в виде эллиптических цилиндров, в фокусах которых расположены инфракрасные лампы, фокальные оси ламп совпадают. Блоки рефлектора смонтированы по незамкнутому контуру камеры таким образом, что они образуют шелевой разъем по всей длине камеры или части ее, расположенный в зоне фокальной оси эллиптических поверхностей, а направл юш ,ие заготовок расположены вдоль щелевого разъема и выполнены в виде установленных под углом к фокальной оси камеры регулируемых вибропластин дл  обеспечени  поступательного и вращательного дпижени  заготовок.

Недостатком этой радиационной установки дл  нагрева заготовок  вл етс  то, что в ней отсутствует защита зеркально-отражающих поверхностей рефлекторов и обоих торцовых плоских отражателей от попадани  продуктов сгорани  (дыма, пыли, копоти), а также конденсации влаги.

Известна  установка не предусматривает возможности изменени , -при необходимости , спектрального состава и величины проход щего потока лучистой энергии в зависимости от нагреваемого материала и состо ни  его поверхности.

Известна также радиационна  установка дл  нагрева заготовок, в корпусе которой расположен рефлектор, с установленными в его верхнем ф кусе инфракрасными лампами , а в нижнем фокусе-направл ющей дл  перемещени  изделий, и размещенна  межДу фокусами экранирующа  кварцова  пластина 1.

Однако в этой установке невозможно провести местный нагрев заготовки из-за дефокусированного излучени , так как экранирующа  пластина предназначена дл  сведени  к минимуму концентрации лучистой энергии , исход щей от ламп.

Цель изобретени  - повышение эффективности местного прогрева заготовок.

Поставленна  цель достигаетс  выполпением экранирующей кварцевой пластины

с двусторонним диэлектрическим покрытием из окисиой пленки.

На фиг. 1 изображеиа радиациоииа  установка дл  нагрева заготовок, обидий вид с частичным разрезо.м; на фиг. 2 - разрез А-у фиг. 1; на фиг. 3 - частный случай применени  радиационной установки дл  .методического нагрева штучных заготовок.

В корпусе установки расположен рефлектор 2, вы;юлненный из блоков 3 с внутренни .ми полированными зеркально-отражающими поверхност ми в виде эллиитических цилиндров, образующих нагревательную камеру.

В фокусе рефлектора 2 расположены кварцевые инфракраснь е лампы накаливаки  4. Нагревательна  камера рефлектора 2 с торцов закрыта фланца.ми 5 и крышками 6. Внутренн   поверхность фланцев 5  вл етс  плоским отражателем 7. Фланцы 5 и крышки 6 имеют отверсти  8 дл  контактов и фиксации ламп 4.

В зоне фокальной оси 9 эллиптических поверхностей рефлектора корпус 1 имеет щелевидный разъем К). В камере рефлектора 2, выше фокальной оси 9,.вдоль щелевого разъема 10 и перпендикул рно вертикальной оси корпуса 1, в пазах на внутренней поверхности эллиптических цилиндров смонтирована экранирующа  сменна  кварцева  пластина 11 с двусторонним диэлектрически.м покрытием 12 из окг чой пленки, например двуокиси титана TiUj, фильтруюи1а  проход щее через iiee инфракрасное излучение. Покрытие изготовлено таким образом, что первый максимум отражени  ириходитс  на длину волн /. 1,2 мк, а первый .чиниму.м на л 0,58 мк. Данное двустороннее диэлектрическое покрытие обладает стражательной способностью дл  ближпего инфракрасного излучении около 40% при интегральной отражате.льной снособности в видимой области 8/,). В разъеме наход тс  две направл ющ.чс 13, в которых расноложены заготовки 14.

Дл  отвода тепла от блоков 3, фланцев 5. контактов ламп 4 и направл ющих 13 установка имеет систе.му вод ного охлаждени  15.

Радиационна  установка снабжена электромагнитом 16, наклонным лотком 17 дл  заготовок 14, бункерным устройство.м 18, фото .1ектрическим и.чи другим щрометро.м 19, тиристорной системой автоматического или ручного управлени  20, прерывателем 21, пружииами 22.

Установка работает с.гедующим образом.

Очищенные от загр знени  заготовки 14 с помощью бункерного устройства 18 и наклонного лотка 17 поступают на вибронаправл ющие 13. Электромагнит 16 через прерыватель 21 и пружины 22 приводит направл юн1 ,ие 13 в колебательное движение, тем самым осуществл   продвижение заготовок 14 по направл ющим в зону нагрева и вращение их вокруг своей оси.

Поток инфракрасного излучени  (стрелками на фиг. 2 показано нанравление светового потока), ироход  через экранирующую кварцевую пластину 11 с двусторонним диэлектрическим покрытием 12, фильтруетс  и надает на заготовки, нагрева  их.

Температура выход щей нагретой заготовки 14 контролируетс  пирометром 19.

При отклонении температуры заготовки 14 от заданной пирометр 19 дает команду на повышение или понижение те.мпературы, в зависимости от знака отклонени  ее, путем увеличени  или уменьшени  yivia открыти  тиристоров 20.

Данное изобретение нозвол ет осуществл ть местный нагрев штучных заготовок, регулирование ве;1ичииы и границ прохождени  лучистого истока, увеличивает КПД.

Claims (1)

1. Формула изобретени 

   Радиацио -ша  установка д.т  нагрева заготовок , содержаща  корпус, в котором расположен рефлектор с установленными в его верхне.м фокусе инфракрас 1ы.ми лампами, а в зоне нижнео фокуса - наг1рав„1 ющей дл  перемещени  изделий, и размещенную между фокусами экранирующую кварцевую пласти 1у, отличающа с  тем, чтс, с целью свыиини  эффективности местного прогрева заготовок, экранирующа  кварцева  пластина выполнена с двусторонним диэлектрическим покрытием из окиснсй пленки.

   Источники информации,прин тые во внимание при экспертизе:

   . Патент США Л 3627590, кл. 148 1,5, 1971..,