SU588901A1 - Способ получени высокотемпературной плазмы - Google Patents

Description

(54) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ПЛАЗМЫ

1

Изобретение относитс  к области физики плазмы и проблеме управл емого термо дерного синтеза и может быть использовано дл  импульсного получени  высокотемпературной плазмы, а также в качестве импульсного источника нейтронов.

Известен способ получени  плазмы, использующий пространственно-временную фокусировку потоков зар женных частиц. По этому способу с поверхности сферы внутрь по радиусам инжектируют потоки электронов и ионов с одинаковыми плотност ми и с одинаковой скоростью частиц, завис щей от времёни так, чтобы частицы, испущенные с поверхности сферы в разные моменты времени, пришли в центр сферы одновременно (1) .

Недостатком этого способа  вл етс  сложность его осуществлени , обусловленна  необходимостью получени  расчетной формы ускор ющего импульса со степенью точности (0,1%), обеспечивающей услови  временной фокусировки .

с цепью упрощени  способа путем обеспечени  возможности использовани  ускор ющего импульса пр моуголь,ной формы по предлагаемому способу

-на шаровой слой плазмы накладывают пр моугольный импульс напр жени  с таким распределением потенциала по толщине сло  плазмы, чтобы ионь1, стартовавшие в момент приложени  импульса из любой точки сло , приходили в центр сферы одновременно.

Пусть поверхность сферы радиуса R окружена шаровым слоем плазмы, образованной , например, с помощью высокочастотного разр да, в некоторый начальный момент времени к слою прикладывают пр моугольный импульс напр жени  (например, с помощью погруженных в плазму прозрачных сеток). Распределение потенциала импульса по толщине сло  должно быть подобрано таким образс и, чтобы врем  пролета любого иона сло , начавшего свое движение в момент приложени  импульса, до центра сферы было одинаково:

f .. 1 const,(i

t

itr) Vuif 4

im-m}

координата точки старта; текуща  координата; искома  функцн  распределени  потенциала импульса в слое.

Claims (1)

1. Формула изобретения

   Способ получения высокотемпературной плазмы путем пространственновременной фокусировки ионов в центре сферического плазменного слоя с нейтрализованным объемным зарядом, отличающийся тем, что, с целью упрощения способа путем обеспечения возможности использования ускоряющего импульса прямоугольной формы, к плазменному слою, окружающему дрейтфовое пространство, прикладывают электрическое поле, распределение потенциала которого по радиусу выбрано таким, чтобы выполнялось соотношение:

   й 2 7Г f U(B) ¹ 71 ^S [ ² 1ЛГ) J ’ где U(г) - распределение потенциала по радиусу, U(R) — значение потенциала на границе плазма - дрейфовое пространство, обеспечивающее одновременный приход всех ускоряемых ионов в центр области дрейфа.