SU565272A1 - Оптическа система - Google Patents
Оптическа системаInfo
- Publication number
- SU565272A1 SU565272A1 SU7502097067A SU2097067A SU565272A1 SU 565272 A1 SU565272 A1 SU 565272A1 SU 7502097067 A SU7502097067 A SU 7502097067A SU 2097067 A SU2097067 A SU 2097067A SU 565272 A1 SU565272 A1 SU 565272A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- lenses
- lens
- image
- author
- components
- Prior art date
Links
Landscapes
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
1
Изобретение относитс к проекциоилым системам, в частности, дл проекции изображени фотошаблона на полупроводниковую пластину при производстве микроэлектрониых схем.
Известны проекционные систе мы, в которых осуществл етс одновремеппый перенос изображений всех элементов фотошаблона на полупроводни;ковую пластину с высоким разрешением по всему полю зрени системы 1. Однако вследствие недостаточной глубины резкости таких систем возможность исиользовали их дл проекции изображеиий обьектоз на поверхность со значительными отступлени ми от плоскости, например поверхность полупроводвиковой пластины, ограничена.
Дл уменьшени вли ни неплоскостности фоточувствптельной поверхиост} полупроводни-ковой пластины используют системы с автоматической фокусировкой 2, В этих системах при одновременном переменхе 1и.и фотошаблона и полупроводниковой пластины соблюдение посто нства масштаба в процессе зкспонировани обеспечиваетс за счет выполнени системы из двух одинаковых объективов , что, в свою очередь, приводит к уве-. личению рассто ни между предметом и изображением, дл уменьшени которого требуетс изло.м оптической оси.
Системой, в которой учтены указанные
выше треоовани , вл етс проекционна система 3, 4, 5 с увеличением «+1, содержаща два одинаковых объектива с вогнутым зеркалом в каждом из них, размещенную между ними полевую диафрагму и установленные соответственно перед первым и за вторым объективами плоские отражатели, наклоненные к их оптическим ос м на 45. Однако эта система имеет поле зрени малых размеров из-за чего снижаетс производительность процесса изготовлени микросхем. В предлагаемой системе дл увеличении нол изображени каждый из объективов выполнен не менее, чем из двух компонентов,
крайние из которых жестко скреплены соответственно с вогнутым зеркалом и с плоским отражателем, а рассто ние между оптическими ос ми объективов равно удвоенному рассто нию от центра диафрагмы до оптической
оси одного из них.
Описываема система, показанна на чертеже , служит дл проекции изображени части фотошаблона 1 :на параллельную ему полупроводниковую пластину 2 в однократном
Claims (5)
- масштабе без оборачивани . Система содержит два одинаковых объектива, каждый из которых составлен из двух компонентов 3 н 4 (первый объектив) и 5 и 6 (второй объектив ), при этом с компонентами 3 н 5 соответственно жестко св заны отражатели 7 и 8, наклоненные на 45° к оптическим ос м объективов , а е компонентами 4 и 6 - вогнутые зеркала 9 и 10. Изображение части фотошаблона 1 отражателем 7, первым объективом из элементов 3, 4, 9 формируетс в плоскости полевой диафрагмы 11, совпадающей с плоскостью предмета второго объектива из элементов 5. б, 10, оптическа ось 12 которого смеисена от целтра диафрагмы 11 на половину рассто ни этой оси до оптической оси 13 первого объектива . Благодар компенсации аберраций объективов за счет параллельиого сменкни их оитических осей в оииса.циой .схеме увеличено поле изображени . Формула изобретен и Оптическа система с увеличением «плюс единица, иапри1мер, дл проекции изображени фотошаблона на параллельную ему полупроводннковую пластину, содержаща два одинаковых объектива с вогнутым зеркалом в каждом из них, размещеииую между ними полевую диафрагму и установленные соответственно перед первым и за вторым объективами нлоские отражатели, иаклоненнь е к их оптическим ос м на 45°, отличающа с тем, что, с целью увеличени нол изображени , каждый из объективов выполнен не менее , чем из дв)х комионентов, крайние из которых жестко скреплены соответственно с погнутым зеркалом и е плоским отражателем, а рассто ние между оптическими ос ми объективов равно удвоенному рассто нию от центра диафрагмы до оптической оси одного из них. Источники информации, прин тые во внимание при экспертиле 1.Авторское свидетельство № 310585, G 02В 17/08, 1970.
- 2.Авторское свидетельство 254815, G 02В 11/34, 1969.
- 3.Авторское свидетельство № 354389, G 02В 21/02, 1972.
- 4.Авторское свидетельство № 439778, G 02В 17/08, 1974.
- 5.«Solid Stale Technology, June 1974, 50-53 (прототип). р
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU7502097067A SU565272A1 (ru) | 1975-01-13 | 1975-01-13 | Оптическа система |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU7502097067A SU565272A1 (ru) | 1975-01-13 | 1975-01-13 | Оптическа система |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU565272A1 true SU565272A1 (ru) | 1977-07-15 |
Family
ID=20607556
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU7502097067A SU565272A1 (ru) | 1975-01-13 | 1975-01-13 | Оптическа система |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU565272A1 (ru) |
-
1975
- 1975-01-13 SU SU7502097067A patent/SU565272A1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Offner | New concepts in projection mask aligners | |
JP3991166B2 (ja) | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 | |
JP2655465B2 (ja) | 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置 | |
US6903801B2 (en) | Illumination optical system for use in projection exposure apparatus | |
US9280054B2 (en) | Illumination optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing device | |
JPH0378607B2 (ru) | ||
JPS5949514A (ja) | 環状照明装置 | |
US3922085A (en) | Illuminator for microphotography | |
SU565272A1 (ru) | Оптическа система | |
JPS559549A (en) | Projector | |
US5003345A (en) | Apparatus and method for aligning and focusing an image of a reticle onto a semiconductor wafer | |
US3815993A (en) | Light projection apparatus and method for photoprinting | |
JPS58215621A (ja) | 1「あ」1プロジエクシヨンアライナ | |
US6055039A (en) | Illumination system and exposure apparatus using the same | |
JPH05333269A (ja) | アフォーカル光学系 | |
KR19990062768A (ko) | 조명광학계와 노광장치 및 반도체 디바이스의 제조방법 | |
US4274721A (en) | Metering device of a camera | |
RU2123713C1 (ru) | Светосильный широкоугольный объектив | |
JP2603835B2 (ja) | 写真製版システム | |
JPS57200029A (en) | Exposing device | |
SU1539716A1 (ru) | Проекционный объектив с увеличением - 1/30 @ | |
JP2909621B2 (ja) | 半導体製造方法及び半導体製造装置 | |
SU993186A1 (ru) | Фотографический объектив (его варианты) | |
JPH04367213A (ja) | 投影型露光装置 | |
JP3271827B2 (ja) | 画像読取装置 |