SU419575A1

SU419575A1 - Способ электролитического осаждения сплава цинк-никель

Info

Publication number: SU419575A1
Application number: SU1723615A
Authority: SU
Original assignee: А. И. Епанешннков , Т. А. Ситникова
Priority date: 1971-12-13
Filing date: 1971-12-13
Publication date: 1974-03-15

Description

1

Изобретение относитс к способам электроосаждени сплавов, в частности, сплава цннкн-икель .

Известен способ электроосаждени сплава цинК-пикель из электролита, содержащего окись цинка, хлористый аммоний, борную кислоту и никель хлористый.

Однако этот электролит не позвол ет использовать при электроосаждении повышенные плотности тока.

Дл интенсификации процесса предлагаетс способ, по которому в качестве соли цинка используют монофосфат цинка и в электролит ввод т серную кислоту, декстрин п глицерип при следующем соотпошении компонентов, г/л:

Монофосфат цинка60-160

Хлористый аммоний100-250

Борна кислота20-30

Соль никел (в пересчете иа

металл)

0,5--2 Серна кислота 5-10 Декстрин 6-10 Глицерин

0,2-0,5

нри плотности тока 3-7 а/дм, рН 1,8и температуре 18-25°С.

Процесс ведут с цинковыми анодами марки

цо, Ц1.

По описываемому способу получают светлые , хоропю сцепленные с основой осадки сплава с содержанием никел до 7%.

Микротвердость сплава 190-200 кг/мм. Электролит прост в приготовлении и стабилен в работе.

Способ может быть проиллюстрирован следующими примерами.

Пример 1. Качественные, плотные, прочно сцепленные с основой покрыти сплавом цинк-никель получают из электролита, содержащего , г/л;

Монофосфат цинка

120

Хлористый аммоний 200 30

Борна кислота

Хлористый никель

4,4

Серна кислота 10 10

Декстрин

при температуре 20°С, плотпости тока 7 а/г7.1(2 и рН 2,3.

Пример 2. Светлые, мелкокристаллические осадки сплава цинк-никель получают из электролита, содержащего, г/л:

Монофосфат цинка

80 X л о р и ст ы и а м м о н и ii

120 Борна кислота

20 Сернокислый никель

1,3 Серна кислота

5 Декстрин

6 Глицерин

0,2

54

при температуре 20°C, плотности тока 3 а/дм и глицерин при следующем соотношении рН 1,9.понентов, г/л:

Предмет изобретени Хлористый аммоний100-250

Способ электролитического осаждени Соль никел (в пересчете на

сплава цинк-никель из элeктpoлитJa, содержа-металл)0,5-2

щего соли цинка и никел , хлористый аммонийСерна кислота5-10

и борную кислоту, отличающийс тем, что, сДекстрин6-10

целью интенсификации процесса, в качестве 10 Глицерин0,2-0,5

соли цинка используют монофосфат цинка и и процесс ведут при плотности тока 3-7 а/дм, в электролит ввод т серную кислоту, декстрин рН 1,8-2,5 и температуре 18-25°С.

419575 l ,

Монофосфат цинка60-160

5 Борна кислота20-30