SU30268A1

SU30268A1 - Method of separating hydrogen fluoride and silicon fluoride in the gas phase

Info

Publication number: SU30268A1
Application number: SU110079A
Authority: SU
Inventors: В.С. Ятлов
Original assignee: В.С. Ятлов
Priority date: 1932-05-29
Filing date: 1932-05-29
Publication date: 1933-05-31

Description

При разложении плавикового шпата серной кислотой нар ду с фтористым водородом выдел етс и фтористый кремний, образующийс за счет содержани в шпате кремнекислоты и вл ющийс вредной примесью , загр зн ющей фтористые соли кремнефтористьши сол ми. Дл получени чистых фтористых солей обычно производитс периодическа очистка получаемой абсорбцией газа водой, плавиковой кислоты от кремнефтористоводородной, путем осаждени последней содой. Последн операци вызывает большие потери плавиковой кислоты и создает крайне антигигиенические услови .During the decomposition of fluorspar with sulfuric acid, along with hydrogen fluoride, silicon fluoride is released, which is formed due to the content of silicic acid in the spar and is a harmful impurity that contaminates the fluorine salts of fluorosilicate. In order to obtain pure fluorine salts, periodic purification is usually carried out by obtaining the absorption of gas with water, hydrofluoric acid from hydrofluoric acid, by precipitating with a last soda. The latter operation causes a large loss of hydrofluoric acid and creates extremely anti-hygienic conditions.

Непрерывна очистка газа без предварительной абсорбции его дает возможность получени химически чистой плавиковой кислоты и чистых фтористых солей непосредственным взаимодействием газа с твердыми реагентами, например, с содой .Continuous purification of the gas without prior absorption allows gas to be obtained with chemically pure hydrofluoric acid and pure fluorine salts by directly reacting the gas with solid reagents, for example, with soda.

Предлагаемый cnoQo6 очистки газа основан на поглощении фтористого кремни твердым фтористым натрием при повышенной температуре. Он основан на том свойстве, что твердый фтористый натрий при воздействии на него смеси фтористого водорода и фтористого кремни при температуре выше 250°, присо189The proposed gas purification cnoQo6 is based on the absorption of fluorine-silicon by solid sodium fluoride at elevated temperature. It is based on the property that solid sodium fluoride, when exposed to a mixture of hydrogen fluoride and silicon fluoride at a temperature above 250 ° C, is added

един ет к себе лишь фтористый водород, образу кремнефтористый натрий. Замет/на упругость диссоциации последнего наблюдаетс лишь при 400°. Скорость реакцииonly hydrogen fluoride unites itself to form sodium silicofluoride. Note on the elasticity of dissociation of the latter is observed only at 400 °. Speed reaction

2NaF (твердый) SiF (газ) Na2SiF6 (твердый)2NaF (solid) SiF (gas) Na2SiF6 (solid)

резко возрастает с повышением температуры , достига значительной скорости уже при 300-350°.increases dramatically with increasing temperature, reaching a significant speed already at 300-350 °.

Способ состоит в том, что „плавиковый газ провод т над фторидом натри , при чем реакцию ведут при температуре свыше 200°.The method consists in the following: hydrofluoric gas is carried out over sodium fluoride, the reaction being carried out at a temperature above 200 °.

Способ может быть выполнен таким образом. Газ подогревают до температзры около 450° и пропускают через аппарат любого типа, например, типа насыщающих барабанов Газенклевера или полочной печи, с противоточным движением твердого фтористого натри . Превращение NaF в Na2SiF6 происходит почти полностью -образуетс 95%-ный кремнефтористый натрий. Не поглощенный в силу условий кинетики и статики {упругости и диссоциации NagSiFo) остаток SiEj, проход аппарат вместе с остальным газом , охлаждаетс до 300-350° и количественно поглощаетс вводимым в начале аппарата еще нергагировавшим фтористым натрием.The method can be performed in this way. The gas is heated to a temperature of about 450 ° and passed through an apparatus of any type, for example, the type of saturating Gazenklever drums or shelving furnace, with countercurrent movement of solid sodium fluoride. The conversion of NaF to Na2SiF6 occurs almost completely - 95% sodium fluorosilicate is formed. Unabsorbed due to the conditions of kinetics and statics {elasticity and dissociation NagSiFo), the SiEj residue, the passage of the apparatus along with the rest of the gas, is cooled to 300-350 ° and absorbed quantitatively by sodium fluoride, which is introduced at the beginning of the apparatus.

Полученна смесь, содержаща около 40% NaoSiFii, прокаливаетс при 600- 700° во вращающейс механической или муфельной печи. Фтористый натрий возвращаетс в очистной аппарат, а фтористый кремний поглощаетс водой с получением кремнефтористоводородной кислоты .The resulting mixture, containing about 40% NaoSiFii, is calcined at 600-700 ° in a rotating mechanical or muffle furnace. Sodium fluoride is returned to the treatment plant, and silicon fluoride is absorbed by water to produce hydrofluoric acid.

Предмет изобретени .The subject matter of the invention.

Способ разделени фтористого водорода и фтористого кремни в газовой фазе, отличающийс тем, что газообразные фтористый кремний и фтористый водород пропускают, в цел х выделени фтористого кремни , над твердым фтористым натрием при температуре от 200 до 500°.A method of separating hydrogen fluoride and silicon fluoride in a gas phase, characterized in that gaseous silicon fluoride and hydrogen fluoride are passed, in order to release silicon fluoride, over solid sodium fluoride at a temperature of 200 to 500 °.