SU1696602A1 - Способ изготовлени рельефных форм - Google Patents

Abstract

Изобретение относитс  к гальванопластике , в частности к изготовлению рельефных форм с разновысокими элементами. предназначенных дл  получени  изделий различного назначени . Цель изобретени  - расширение ассортимента получаемых изделий . На металлическую подложку нанос т фотополимеризующуюс  композицию. Экспонирование через фотошаблон соответствующего рельефа и про вление фотополимерного сло  на разную глубину в зависимости от требуемого рельефа издели  осуществл ют исход  из соотношени  С 2,3 а , где С - глубина про влени , а - минимальна  ширина непрозрачных элементов фотошаблона. После про влени  производ т гальваническое осаждение металла необходимой толщины и отделение полученной формы.

Description

Изобретение относитс  к гальванопластике и может быть использовано во всех отрасл х народного хоз йства, занимающихс  изготовлением рельефных форм, преимущественно формообразующих элементов технологической оснастки, предназначенных дл  формообразовани  изделий , имеющих разновысокие элементы (фактуры поверхностей, шрифты, эмблемы, товарные знаки и т.п.).

Цель изобретени  - расширение ассортимента получаемых изделий.

Пример 1. Изготовл ют рельефную форму (матрицу пресс-формы) дл  лить  под давлением изделий Ученический трафарет из полистирольного пластина марки ПСМД-А. Толщина издели  1.4 мм, при этом геометрические фигуры высотой 1,4 мм, надписи и цифры 0,30 мм, риски шкал линейки и транспортира 0,20 мм. Дл  того чтобы получить модели с такой высотой элементов , определ ют по формуле С .2,3 а2 минимальную ширину непрозрачных элементов фотошаблона а, необходимую дл  про влени  фотополимерного сло  на требуемую глубину (С). Дл  геометрических, фигур высотой 1,4 мм минимальна  ширина непрозрачного элемента-должна быть на фотошаблоне 0,79 мм; дл  надписей и цифр высотой 0,30 мм соответственно 0,35 мм, дл  рисок шкал линеек и транспортира высотой 0,15 мм соответственно 0,25 мм. Зна  соотношение глубины про влени  фотополимерного сло  модели и минимальной ширины непрозрачных элементов, изготовл ют фотошаблон. Металлическую подложку (основа - хромированна  жесть марки ХЛЖК) с термоотвержденным адгезионноп- ротивоореольным слоем (необходимым дл  св зи материала подложки и фотополимео о о о о ю

ризующейс  композиции и уменьшени  отражени  света от подложки) устанавливают на верхней полукассете (магнитной) установки экспонировани  ФЛЭ-66. а на нижнюю полукассету накладывают последовательно фотошаблон, ростовую ограничительную планку с толщиной 1,4 мм, полиэтилентерефталатную пленку, после чего включают вакуумный насос-компрес- сор и создают разрежение (до 1,0 мм рт.ст. - остаточное давление). При этом фиксируют положение фотошаблона, ростовой ограничительной планки на кварцевом стекле (основании нижней полукассеты). Затем опускают верхнюю полукассету на нижнюю (создают замкнутый объем с щелью 1,4 мм), обеспечив прижим полукассет давлением 10-12 МПа от гидросистемы установки.

В полученную полость заливают фото- полимеризующуюс  композицию на основе ненасыщенных полиэфиров (Ликофот--Т22), Состо щую из ненасыщенной полиэфирной Смолы ПН-37, фотоинициатора 2,2-диме- токси-2-фенилацетофенона, фотоингибитора N-нитрозодифениламина, вз тых при концентраци х соответственно 99,23 0,75 и 0,02%. Затем включают источник УФ-излу- чени  с длиной волны 320-400 нм (лампа ДРГТ-3000) и экспонируют изображение детали через фотошаблон, после чего разбирают установку и про вл ют (на машине вымывной ФВФ-55К) необлученные участки композиции водным раствором (10 г/л) кальцинированной соды.

После про влени  рельефа модели провод т зэдубливание ее светочувствительного сло  (дл  повышени  гальваностойкости) Дл  этого модели помещают в установку дополнительной обработки ФЛО-66, где одновременно провод т облучение УФ-из- лучением в течение 7 мин (лампа ЛУФ-80 мощностью 40 Вт, количество ламп в панели 12 шт.) и термообработку при 105-115°С. Полученную фотополимерную модель (дл  создани  жесткости) наклеивают клеем ПУ- 2 на пластину из оргстекла толщиной 8- 10 мм, Дл  придани  модели юкопровод щих свойств поверхность ее металлизируют сульфидом меди, Металлизаци  включает следующие операции (последовательно ): сорбцию поверхности модели в водном растворе, состо щем из сернокислой меди 10-100 г/л, сернокислого цинка 50-100 г/л, 25%-ного водного амми- ака-200 мл/л; гидролиз модели в холодной воде и сульфидмрование в водном растворе сернистого натри  концентрацией 10- 50 г/л. Подготовленные модели завешивают в гальваническую установку, где осаждают последовательно слой сплава никель-кобальта толщиной 2,0 мм и медь тол- 1 щиной 5-6 мм из сульфаминовокислых электролитов следующих составов, г/л:

Сульфаминовокислый электролит осаж- дени  сплава никель-кобальта Сульфаминовокислый никель330-340

Сульфаминовокислый кобал ьт15-20

0 Двухлористый никель2-4

Натрийлаурилсульфат0,7-1,0

Борна  кислота30-40

рН3,0-3,5

Катодна  плотность

5 тока, А/дм25,0

Температура электролита , °С40-55 Сульфаминовокислый электролит осаждени  меди 0 Сульфаминовокисла 

медь200-260

Серна  кислота80-100

Пирофосфорнокислый калий2,8-5,0

5рН0,3-0,8

Катодна  плотность тока, А/дм21-2

Температура электролита , °С25-30 0 После получени  требуемой толщины модель с гальванопластическим осадком извлекают из гальванопластической установки , обрабатывают осадок относительно базовой поверхности модели на металлоре- 5 жущем оборудовании и извлекают модель на ручном винтовом прессе. В полученных матрицах (после установки их в пресс-форму ) отливают пластмассовые издели  Ученический трафарет, прм этом качество 0 изделий (четкость рельефа) хорошее,

П р и м е р 2. Изготовл ют гальванопластикой рельефную форму (состо щую из двух симметричных полуматриц) дл  лить  изделий Расческа из этрола АПЦЭ- 5 15-5. Ручка расчески имела фактурирован- ную поверхность. Полумодели (лева  и права  в зеркальном отображении) получают из фотополимерной композиции Лико- фот-Т22. Толщина полумоделей (с учетом 0 технологического припуска) 2,4 мм. Высота рельефа фактуры на ручке 0,25 мм Тип фактуры крупный, номер 1593 по каталогу фактур поверхностей. Дл  того, чтобы получить полумодели с такой высотой элементов по« 5 формуле С 2,3 а , минимальна  ширина непрозрачных элементов на фотошаблоне дл  тела и зуба модели 1,02 мм, дл  фактуры 0,33 мм. Зна  соотношени  глубин про влени  фотополимерного сло  модели и минимальной ширины непрозрачных элементов,

изготовл ют фотошаблон. Композициюоснастки, включающий нанесение на метал Ликофот-Т22 заливают в полость установ-лическую подложку фотополимеризующейкиФЛЭ-л66сщелью2 ,4ммидалееизтотов-с  композиции, экспонирование через

л ют полумодели, а по ним полуматрйцы фотошаблон соответствующего рельефа,

гальванопластикой аналогично примеру 1.5 про вление фотополимерного сло  и послеВ полученной форме отливают издели дующее гальваническое осаждение метал Расческа . Издели  получают с четким про-лического сло , отличающийс  тем,

филем тела зубьев и фактуры на ручке.что, с целью расширени  ассортимента получаемых изделий, про вление фотополиФормула изобретени 10 мерного сло  осуществл ют на разную

глубину С в зависимости от минимальной

Способ изготовлени  рельефных форм,ширины непрозрачных элементов фотошабпреимущественно деталей технологическойлона а при их соотношении С 2,3 а2.

Claims (1)

1. Формулаизобретения

   Способ изготовления рельефных форм, преимущественно деталей технологической оснастки, включающий нанесение на металлическую подложку фотополимеризующейся композиции, экспонирование через фотошаблон соответствующего рельефа, проявление фотополимерного слоя и последующее гальваническое осаждение металлического слоя, отличающийся тем, что, с целью расширения ассортимента получаемых изделий, проявление фотополимерного слоя осуществляют на разную ^f глубину С в зависимости от минимальной' ширины непрозрачных элементов фотошаблона а при их соотношении С = 2,3 а².

   Составитель О.Лангин Редактор С.Патрушева Техред М.Моргентал Корректор Н.Ревская

   Заказ 4283 Тираж. Подписное

   ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

   Производственно-издательский комбинат Патент, г. Ужгород, ул.Гагарина, 101