SU1694695A1 - Aqueous solution for chemical copper plating - Google Patents
Aqueous solution for chemical copper plating Download PDFInfo
- Publication number
- SU1694695A1 SU1694695A1 SU884605818A SU4605818A SU1694695A1 SU 1694695 A1 SU1694695 A1 SU 1694695A1 SU 884605818 A SU884605818 A SU 884605818A SU 4605818 A SU4605818 A SU 4605818A SU 1694695 A1 SU1694695 A1 SU 1694695A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- coating
- solution
- increase
- nickel chloride
- adhesion
- Prior art date
Links
Landscapes
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к нанесению покрытий химическим способом, в частности медных, и может быть использовано в радиоэлектронной промышленности дл пайки металлизированных диэлектриков дл изготовлени элементов газоразр дных устройств, дл получени микросхем. Цель изобретени - снижение удельного электросопротивлени покрыти , повышени стойкости к окислению, скорости осаждени , адгезии покрыти к нитридной керамики и повышени стабильности раствора. Водный раствор содержит: сульфат меди п тиводный, Г 8-12; нитрилоуксусную кислоту (НТА), Г 20-25; хлорид никел (U), Г 3-5; гидроксид натри , Г 15-20; трилон Б, Г 20-25; диэтилдитиокарбонат натри , мг 3-6, формальдегид 40%-ный, мл 23-30; вода до 1 л. Введение НТА и хлорида никел позвол ют сохран ть раствор более 2 мес, получить скорость осаждени покрыти 7-8 мкм/ч; адгезию к нитридной подложке 60- 65 кг/см ; отсутствие окислени покрыти более 6 мес, удельное электросопротивление покрыти 1,7-1,9 -108 Ом- м. внешний вид покрыти розовое, равномерное, блест щее , без п тен. 2 табл. сл сThe invention relates to chemical coating, in particular, copper, and can be used in the electronics industry to solder metallized dielectrics for the manufacture of elements of gas discharge devices, to produce microchips. The purpose of the invention is to reduce the electrical resistivity of the coating, increase the resistance to oxidation, the deposition rate, adhesion of the coating to nitride ceramics and increase the stability of the solution. The aqueous solution contains: copper sulfate, hydrated, G 8-12; nitriloacetic acid (NTA), G 20-25; nickel chloride (U), D 3-5; sodium hydroxide, G 15-20; Trilon B, D 20-25; sodium diethyldithiocarbonate, mg 3-6, 40% formaldehyde, 23-30 ml; water up to 1 l. The introduction of NTA and nickel chloride allows to maintain the solution for more than 2 months, to obtain a coating deposition rate of 7-8 µm / h; adhesion to the nitride substrate 60-65 kg / cm; the absence of oxidation of the coating for more than 6 months, the specific electrical resistance of the coating 1.7-1.9-108 ohm-m. The appearance of the coating is pink, uniform, shiny, without spots. 2 tab. cl
Description
Изобретение относитс к нанесению покрытий химическим способом, в частности медных, и может быть использовано в радиоэлектронной промышленности дл пайки диэлектриков твердыми и м гкими припо ми, дл разработки нанесени медных покрытий элементов газоразр дных устройств .The invention relates to chemical coating, in particular, copper, and can be used in the electronics industry to solder dielectrics with hard and soft solders, to develop the application of copper coatings to elements of gas discharge devices.
Цель изобретени - снижение удельного электросопротивлени покрыти , повышение его стойкости к окислению скорости осаждени и адгезии покрыти к нитридной керамике, а также повышени стабильности раствора,The purpose of the invention is to reduce the electrical resistivity of the coating, increase its resistance to oxidation, the rate of deposition and adhesion of the coating to nitride ceramics, as well as increase the stability of the solution,
о Раствор химического меднени содержит:o The solution of chemical copper contains:
Сульфат меди (п тиводный), г формальдегид (40%-ный). мл диэтилдитиокарбонат натри ЩДК Ms 2), мг 36, гидроокись натри ,г трилон Б, г нитрилоуксусна кислота (НТА) гCopper sulphate (hydrated), g formaldehyde (40%). ml of sodium diethyldithiocarbonate (DMSC Ms 2), mg 36, sodium hydroxide, g Trilon B, g nitriloacetic acid (NTA) g
8-128-12
23-2023-20
15-20 20-2515-20 20-25
20-2520-25
ОABOUT
чэ NChe N
ON sQ СЛON sQ SL
хлористый никель, г3-5nickel chloride, g3-5
вода, лДо 1water ldo 1
Перед нанесением медного покрыти на образцы из нитридной керамики пр моугольной формы площадью 20±0,05 см2 их поверхность обезжириваетс в содовом растворе в течение 5 мин при 70-80°С, травитс в щелочном растворе с добавкой ОЭДФ при 80°С в течение 2-5 мин. Дл создани активных центров на поверхности образцы подвергаютс сенсибилизации в подкисленном растворе хлористого паллади олова (П) в течение 30 с и активации в подкисленном 0,5%-ном растворе хлористого паллади (30 с) при комнатной температуре . Растворы SnCl2 и PdCIa готов тс на основе 0,1 %-ного раствора ПАВ дл придани поверхности лучшей смачиваемости. Кажда из перечисленных операций заканчиваетс промывкой образцов в дистиллированной воде.Before applying a copper coating on rectangular-shaped nitride ceramic samples with an area of 20 ± 0.05 cm2, their surface is degreased in soda solution for 5 minutes at 70-80 ° C, etched in an alkaline solution with HEDP added at 80 ° C for 2 -5 minutes. To create active sites on the surface, the samples are sensitized in an acidified solution of palladium chloride (P) for 30 seconds and activated in an acidified 0.5% solution of palladium chloride (30 seconds) at room temperature. Solutions of SnCl2 and PdCIa are prepared on the basis of a 0.1% surfactant solution to give the surface a better wettability. Each of the listed operations ends with washing the samples in distilled water.
Электролит дл химической металлизации поверхности готовитс при введении солей металлов - (вз тых в виде порошков марки хч, осч, чда), предварительно растворенных в гор чей дистиллированной воде, в раствор комплексообразователей (трилона Б, НТМ) в присутствии щелочи.The electrolyte for chemical surface metallization is prepared by introducing metal salts (taken in the form of hch, osch, chd) powders, previously dissolved in hot distilled water, into a solution of complexing agents (trilon B, NTM) in the presence of alkali.
Формальдегид вводитс перед началом процесса. Режим восстановлени : рН 12,8- 13,0 обеспечиваетс добавлением концентрированного раствора едкого кали.Formaldehyde is injected before starting the process. Recovery mode: pH 12.8-1.0 is provided by the addition of a concentrated solution of potassium hydroxide.
Подготовленные образцы помещаютс в термостатированные стекл нные чейки, где при непрерывном перемешивании раствора , измерении-рН (ионометром ЭВ-74) осуществл етс металлизаци поверхности .The prepared samples are placed in thermostatic glass cells, where the surface is metallized with continuous stirring of the solution, measuring pH (with an EV-74 ion meter).
Примеры опробовани составов растворов приведены в табл.1. Температура всех электролитов была 25°С, рН растворов поддерживалось посто нной 12,8-13,0. Толщина покрыти во всех случа х посто нна и составл ет 10 мкм.Examples of testing the compositions of the solutions are given in Table 1. The temperature of all electrolytes was 25 ° C, the pH of the solutions was kept constant at 12.8-13.0. The thickness of the coating in all cases is constant and is 10 microns.
Свойства растворов, полученных из них покрытий, приведены в табл.2.The properties of the solutions obtained from these coatings are given in table 2.
Адгези химически осажденных металлических покрытий контролировали с помощью устройства дл отрыва под действием ст гивающей нагрузки на лабораторном адгезиометре. Скорость осаждени покрытий определ ли измерением толщины покрыти за определенный промежуток времени. Удельное сопротивление рассчитывалось по формуле: The adhesion of chemically precipitated metal coatings was monitored with a tear-off device under a tensile load on a laboratory adhesion meter. The deposition rate of the coatings was determined by measuring the thickness of the coating over a specific time period. The resistivity was calculated by the formula:
R - сопротивление (измер емое), I длина образца;R - resistance (measured), I is the length of the sample;
S - площадь сечени . Удельное объемное электрическое сопротивление покрыти составило дл известного раствора 9,9-14,2- 108 Ом-м дл изобретенного раствора 1,7-1,9 109 Ом-м. Получаемый осадок меди розового цвета, равномерный, блест щий, не окисл етс на воздухе в течение более 6 мин.S is the cross-sectional area. The specific volume electrical resistance of the coating was 9.9-14.2-108 Ω-m for the inventive solution 1.7-1.9 109 Ω-m for a known solution. The resulting precipitate of pink copper, uniform, shiny, does not oxidize in air for more than 6 minutes.
Раствор остаетс стабильным более 2 мес, а скорость осаждени покрыти получена 7-8 мкм/ч.The solution remains stable for more than 2 months, and the deposition rate of the coating is 7-8 µm / h.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU884605818A SU1694695A1 (en) | 1988-12-10 | 1988-12-10 | Aqueous solution for chemical copper plating |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU884605818A SU1694695A1 (en) | 1988-12-10 | 1988-12-10 | Aqueous solution for chemical copper plating |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1694695A1 true SU1694695A1 (en) | 1991-11-30 |
Family
ID=21409574
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU884605818A SU1694695A1 (en) | 1988-12-10 | 1988-12-10 | Aqueous solution for chemical copper plating |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1694695A1 (en) |
-
1988
- 1988-12-10 SU SU884605818A patent/SU1694695A1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР N 456050,кл. С 23 С 8/40, 1975. Свиридов В,В. Химическое осаждение металлов из водных растворов. Минск, 1987 , с. 70, табл.3.2. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4804559A (en) | Electroless gold plating solution | |
EP1322798B1 (en) | Bath and method of electroless plating of silver on metal surfaces | |
US4574094A (en) | Metallization of ceramics | |
US3075856A (en) | Copper plating process and solution | |
JPS5925965A (en) | Non-electrolytic copper deposition having rapid plating speed | |
US4695505A (en) | Ductile electroless copper | |
DE60220723T2 (en) | PROCESS FOR EXTREME SILICONE SEPARATION | |
SU1694695A1 (en) | Aqueous solution for chemical copper plating | |
US3396042A (en) | Chemical gold plating composition | |
Ohno | Electroless copper plating from an iminodiacetate bath | |
US4539044A (en) | Electroless copper plating | |
JP2005529241A (en) | Acidic solution for silver deposition and method for depositing a silver layer on a metal surface | |
US3582415A (en) | Method of etching cu with use of pb and sn layers as a mask | |
SU1763434A1 (en) | Method for treatment of dielectric before chemical copper-plating | |
JPS6143660B2 (en) | ||
SU1067080A1 (en) | Stabilizer of chemical copper-plating solutions | |
JP2005146372A (en) | Catalyst-imparting solution for electroless plating | |
JPH04350172A (en) | Electroless gold plating solution | |
JP3426817B2 (en) | Electroless gold plating solution | |
SU1357460A1 (en) | Solution for chemical application of nickel-boron alloy coatings | |
JPH07150363A (en) | Electroless ni-based plating solution for aln substrate | |
RU1798379C (en) | Method of bismuth coating preparation on dielectric backings | |
RU2041575C1 (en) | Process of preparation of combined copper-polyimide surface to formation of coating by chemical conversion | |
SU1712469A1 (en) | Electrolyte for depositing tin-bismuth alloy | |
JPH01180985A (en) | Electroless gold plating method |