SU1067080A1 - Stabilizer of chemical copper-plating solutions - Google Patents

Stabilizer of chemical copper-plating solutions Download PDF

Info

Publication number
SU1067080A1
SU1067080A1 SU813326653A SU3326653A SU1067080A1 SU 1067080 A1 SU1067080 A1 SU 1067080A1 SU 813326653 A SU813326653 A SU 813326653A SU 3326653 A SU3326653 A SU 3326653A SU 1067080 A1 SU1067080 A1 SU 1067080A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
stabilizer
solution
copper
chemical copper
plating solutions
Prior art date
Application number
SU813326653A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Рая Самуиловна Подрячик
Виталия Эдмундо Смагрюнайте
Original Assignee
Предприятие П/Я Р-6856
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я Р-6856 filed Critical Предприятие П/Я Р-6856
Priority to SU813326653A priority Critical patent/SU1067080A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU1067080A1 publication Critical patent/SU1067080A1/en

Links

Landscapes

  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

Применение диаэолина общей формулы ;В качестве стабилизатора раство;|рюв дл  химического меднени .The use of a diaeolin of the general formula; As a stabilizer of a solution; | a ruve for chemical copper plating.

Description

9e

О 00 Изобретение относитс  к химичес кому меднению и может быть использовано при металлизации диэлектрико металлов и при изготовлении печатны плат. Известно применение стабилизатор производных пиридина, в частности 2,2 дипиридина в качестве стабилизатора растворов дл  химического меднени  диэлектриков, содержащего соль меди, комплексообразователь, гидроокись натри , углекислый натрий f17. Однако известный стабилизатор не обеспечивает получени  высокого качества медных осадков. Медь, восстановленна  из известного раствора темна , пориста , быстро окисл етс  на воздухе, имеет недостаточное сцепление с фольгой и с адгезивом. Известен многокомпонентный стабилизатор растворов дл  химического меднени , содержащий соединение дву валентной серы, ферроцианид кали  и алкиленамин f2J . Раствор с данн тм стабилизатором обеспечивает получение покрытий высокого качества при высокой скорости осаждени  меди (до 100 мкм/ч Цель изобретени  - изыскание стабилизаторов позвол кадих не тольк стабилизировать раствор дл  химичес кого меднени , но и упростить его состав и обеспечить получение плотных мелкокристаллических покрытий, не окисл ющихс  во времени. Указанна  цель достигаетс  применением диазолина {З-метил-Э-бейзил -1,2-3,4 тетрагидрокарболина-нафта ,лин-1,5 дисульфат) общей формулы /V- CHj ,H).l в качестве стабилизатора растворов дл  химического меднени . Диазолин  вл етс  известным веще ством и примен етс  в медицине в качестве противоаллергического пре парата 13 . Испытани  стабилизатора ведут в растворе дл  химического меднени . Предлагаемый стабилизатор опробуют в следующих растворах дл  химического меднени . Состав J. содержит: Соль меди (сернокисла  или азотнокисла ) 100 Гидроокись натри  80 Калий-натрий виннокислый200 Трилон Б30 Калий роданистый 0,4 Диазолин (З-метил-9бензил-1 ,2,3,4-тетрагидрокарболино нафталин-1 ,5-дисульфат) 0,08 Формалин 37%, мл 40 рН раствйра 13,0-13,5, рабоча  температура 18-25 С. Состав Я содержит: Соль меди (сернокисла  или азотнокисла ) 30 Гидроокись натри  30 Калий-натрий виннокислый120 Трилон Б15 Калий роданистый 0,1 Диазолин (З-метил-9бензил-1 ,2,3,4-тетрагидрокарболино нафталин-1 ,5-дисульфат) 0,03 ..,Формалин 37%, мл 15 рн раствора 12,4-13,0, рабоча  температура 18-25 С. При меднении в растворе состава скорость восстановлени  меди 1416 мкм/ч, стабильность раствора 10-12 ч, осадок плотный, интенсивно розовый, не окисл етс  во времени . При меднении в растворе состава скорость восстановлени  меди 23 мкм/ч, стабильность раствора 20-25 ч, осадок блест щий, интенсивно розовый, мелкокристаллический, плотный. Оптимальные результаты по скорости , стабильности и качеству осадка получают при следующем соотношении компонентов (состав ttO: Соль меди (сернокисла  или азотнокисла )г г/л 50 Гидроокись натри  60 Калий-натрий виннокислый170 Трилон Б20 Калий роданистый .0,2 Диазолин (З-метил-9бен зил-1,2,3,4 -тетра гидрокарболино нафталин1 ,5-дисульфат) 0,06 Формалин 37%, мл 20 рН раствора 12,4-13,2, температура 18-25с. Скорость восстановлени  меди 8-12 мкм/ч, стабильность в работе в течение 2-Д недель в.зависимости от загрузки. Плотность загрузки 3-4 дм на 1 л раствора. Корректировка производитс  концентратом. Дл  приготовлени  раствора указанные компоненты, за исключением трилона Б, в расчетном количестве раствор ют отдельно в небольших количествах воды. Трилон Б раствор ют в растворе гидроокиси натри , в него заливают раствор кали -натри  виннокислого , затем при перемешивании добавл ют растворы соли меди, кали  роданистого (или железносинеродистого) и стабилизатора (диазолина). Довод т водой до нужного объема. Формалин добавл ют перед началом работы, индукционный период составл ет 0,5-1O 00 The invention relates to chemical copper plating and can be used in the metallization of dielectric metals and in the manufacture of printed circuit boards. It is known to use a stabilizer of pyridine derivatives, in particular, 2.2 dipyridine as a stabilizer of solutions for chemical copper plating of dielectrics containing copper salt, complexing agent, sodium hydroxide, sodium carbonate f17. However, the known stabilizer does not provide high quality copper precipitation. Copper recovered from a known solution is dark, porous, rapidly oxidized in air, has insufficient adhesion to the foil and to the adhesive. A multicomponent stabilizer of solutions for chemical copper plating is known, containing a compound of divalent sulfur, potassium ferrocyanide and alkylene amine f2J. The solution with this stabilizer provides high quality coatings at a high copper deposition rate (up to 100 µm / h). The purpose of the invention is to find stabilizers that allow Qadim not only to stabilize the solution for chemical copper plating, but also to simplify its composition and to obtain dense crystalline coatings, not oxidized in time. This goal is achieved by using diazoline {3-methyl-U-basyl -1,2-3,4 tetrahydrocarboline-naphtha, ling-1.5 disulfate) of the general formula (V-CHj, H) .l solution stabilizer for chemical plating. Diazolin is a well-known substance and is used in medicine as an antiallergic drug 13. The stabilizer tests are carried out in a solution for chemical copper plating. The proposed stabilizer is tested in the following solutions for chemical copper plating. Composition J. contains: Copper salt (sulfuric acid or nitric acid) 100 Sodium hydroxide 80 Potassium-sodium tartrate 200 Trilon B30 Potassium rhodanate 0.4 Diazoline (3-methyl-9benzyl-1, 2,3,4-tetrahydrocarbolino naphthalene-1, 5- disulfate) 0.08 Formalin 37%, 40 ml pH of the solution 13.0-13.5, operating temperature 18-25 C. Composition I contains: Copper salt (sulfuric acid or nitric acid) 30 Sodium hydroxide 30 Potassium-sodium tartrate 120 Trilon B15 Potassium rhodium 0.1 Diazolin (Z-methyl-9benzyl-1, 2,3,4-tetrahydrocarbolino-naphthalene-1, 5-disulfate) 0.03 .., Formalin 37%, ml of pH 15.4 12.4-13.0 working tempera cheers 18-25 C. When a copper plating solution composition of speed reduction copper 1416 .mu.m / h, the solution stability of 10-12 hours, the precipitate is dense, intense pink, not oxidized over time. During the copper plating in the composition solution, the recovery rate of copper is 23 µm / h, the stability of the solution is 20–25 h, the precipitate is bright, intensely pink, fine-crystalline, dense. Optimal results on speed, stability and quality of the precipitate are obtained in the following ratio of components (composition ttO: Copper salt (sulfuric acid or nitric acid) g g / l 50 Sodium hydroxide 60 Potassium-sodium tartrate170 Trilon B20 Potassium is rhodanous .0,2 Diazolin (Z-methyl -9ben zil-1,2,3,4-tetra hydrocarbolino naphthalene 1, 5-disulfate) 0.06 Formalin 37%, ml 20 pH of solution 12.4-13.2, temperature 18-25 sec. Copper reduction rate 8-12 µm / h, stability in operation for 2-D weeks in. depending on the load. Loading density of 3-4 dm per 1 liter of solution. concentrate is prepared. To prepare the solution, these components, with the exception of Trilon B, are dissolved separately in small amounts of water in the calculated amount. Trilon B is dissolved in sodium hydroxide solution, potassium tartrate solution is poured into it, then salt solutions are added with stirring copper, potassium rhodanate (or iron-synergistic) and stabilizer (diazolin). Bring it with water to the desired volume. Formalin is added before starting work, the induction period is 0.5-1

мин. в прюцессе работы раствор кор ректируют по анализу на основные компоненты концентратом, который приготавливаетс  так же как и основной раствор, но концентраци  компонентов в нем увеличена в четыре раза. Формалин добавл етс  в ходе работы.min In the work process, the solution is corrected by analyzing the main components with a concentrate, which is prepared in the same way as the main solution, but the concentration of the components in it is increased four times. Formalin is added during the course of the work.

Благодар  применению известного в медицине антиаллергического препарата диаэолина в качестве стабилизатора раствора дл  химического меднени  получаемые покрыти  интенсивно розового цвета, блест щие, мелкозернистые, сплошные и р авномерные по толщине (козффйциент равномерности близок к единице). Эластичност осадка определ етс  числом гиб7перегибов и составл ет 4-5 перегибов.Due to the use of the anti-allergic drug diaeolin, which is well-known in medicine, as a solution stabilizer for chemical copper plating, the resulting coatings are intensely pink in color, glossy, fine-grained, solid and irregular in thickness (the uniformity coefficient is close to unity). The elasticity of the sludge is determined by the number of bends and is 4-5 bends.

Содержание меди в осадке составл ет 99,12-99,75%.The copper content in the sediment is 99.12-99.75%.

Электропроводность зависит от толщины осадка. Толщину меди в отверсти х печатных плат определ ют методом шлифа. Скорость осаждени  на медной фольге определ ют весовым методом. Адгезию покрыти  к диэлектрику определ ют на разрывной машине типа МИП-10, она составл ет 15002000 г/см. С медной фольги покрытие невозможно отделить, на изломе отслоений не наблюдаетс .The conductivity depends on the thickness of the sediment. The thickness of the copper in the holes of the printed circuit boards is determined by the thin section method. The deposition rate on the copper foil is determined by the gravimetric method. The adhesion of the coating to the dielectric is determined on a tensile testing machine of the MIP-10 type; it is 1,502,000 g / cm. With copper foil, the coating cannot be separated; no fracture is observed at the fracture.

Раствор с применением диазолина стабилен в работе, обеспечивает подучейне высококачественных осадков меди и может быть использован приThe diazoline solution is stable in operation, provides high quality copper precipitation and can be used for

.металлизации печатных плат, диэлектриков и пластмасс, позвол ет исключить гальваническое меднение.The metallization of printed circuit boards, dielectrics and plastics, makes it possible to avoid galvanic copper plating.

Claims (1)

Применение диазолина общей : формулы в качестве стабилизатора растворов для химического меднения.The use of diazolin general : formulas as a stabilizer of solutions for chemical copper plating.
SU813326653A 1981-06-11 1981-06-11 Stabilizer of chemical copper-plating solutions SU1067080A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU813326653A SU1067080A1 (en) 1981-06-11 1981-06-11 Stabilizer of chemical copper-plating solutions

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU813326653A SU1067080A1 (en) 1981-06-11 1981-06-11 Stabilizer of chemical copper-plating solutions

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1067080A1 true SU1067080A1 (en) 1984-01-15

Family

ID=20972608

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU813326653A SU1067080A1 (en) 1981-06-11 1981-06-11 Stabilizer of chemical copper-plating solutions

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1067080A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2671988C1 (en) * 2017-10-02 2018-11-08 Акционерное общество "Научно-исследовательский институт Приборостроения имени В.В. Тихомирова" Application process of drawing copper coating on polyetheretherketone

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1, Патеит US 4099974, kfl. С 23 С 3/02, опубЯИК. 1978. 2. Авторское бвйдётельстёо СССР I 664377, НЛ4 С 23 С 3/02, 1974. 3. Машкойск й И.Д. Лекарственнве| средства. Спра&очйику ч-. П. М.« МЕДЯцина, 1977, с..46 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2671988C1 (en) * 2017-10-02 2018-11-08 Акционерное общество "Научно-исследовательский институт Приборостроения имени В.В. Тихомирова" Application process of drawing copper coating on polyetheretherketone

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3428345C2 (en)
Nomura et al. Determination of micromolar concentrations of cyanide in solution with a piezoelectric detector
US8440555B2 (en) Method for analyzing electrolytic copper plating solution
US4222779A (en) Non-chromate conversion coatings
JPS5929118B2 (en) Palladium/nickel alloy plating liquid
US6117301A (en) Electrolyte for the galvanic deposition of low-stress, crack-resistant ruthenium layers
JPS61110799A (en) Controller of metal plating cell
SU1067080A1 (en) Stabilizer of chemical copper-plating solutions
US3661596A (en) Stabilized, chemical nickel plating bath
Ohno Electroless copper plating from an iminodiacetate bath
US4720404A (en) Aqueous alkaline bath for the chemical deposition of copper, nickel, cobalt and their alloys
WO2017142208A1 (en) Concentration indicator of metal component contained in plating solution, and plating method using same
JPH01501326A (en) A method of forming a dense copper plating essentially free of cracks on a substrate by electroless plating.
JPH0236676B2 (en)
Kuznetsov et al. Electrochemical study of the electroless copper plating process
SU697610A1 (en) Electrolyte for tin-bismuth alloy plating
SU1712469A1 (en) Electrolyte for depositing tin-bismuth alloy
SU379676A1 (en) METHOD OF ELECTROCHEMICAL DEPOSITION OF A SILVER-PALLADIUM ALLOY
CN115717258A (en) Leveling agent for pulse hole filling electroplating of printed circuit board and application thereof
JPH0336281A (en) Electroless copper plating method
JPS5848700A (en) Controlling method for concentration of metallic ions in electrolytic bath
KR830002335B1 (en) PH measurement electrode in aqueous solution
SU1199828A1 (en) Brass plating electrolyte
JPS5892948A (en) Measuring method for ph using copper oxide electrode
RU1781328C (en) Gold-plating electrolyte