SU1067080A1 - Stabilizer of chemical copper-plating solutions - Google Patents
Stabilizer of chemical copper-plating solutions Download PDFInfo
- Publication number
- SU1067080A1 SU1067080A1 SU813326653A SU3326653A SU1067080A1 SU 1067080 A1 SU1067080 A1 SU 1067080A1 SU 813326653 A SU813326653 A SU 813326653A SU 3326653 A SU3326653 A SU 3326653A SU 1067080 A1 SU1067080 A1 SU 1067080A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- stabilizer
- solution
- copper
- chemical copper
- plating solutions
- Prior art date
Links
Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
Применение диаэолина общей формулы ;В качестве стабилизатора раство;|рюв дл химического меднени .The use of a diaeolin of the general formula; As a stabilizer of a solution; | a ruve for chemical copper plating.
Description
9д 9e
О 00 Изобретение относитс к химичес кому меднению и может быть использовано при металлизации диэлектрико металлов и при изготовлении печатны плат. Известно применение стабилизатор производных пиридина, в частности 2,2 дипиридина в качестве стабилизатора растворов дл химического меднени диэлектриков, содержащего соль меди, комплексообразователь, гидроокись натри , углекислый натрий f17. Однако известный стабилизатор не обеспечивает получени высокого качества медных осадков. Медь, восстановленна из известного раствора темна , пориста , быстро окисл етс на воздухе, имеет недостаточное сцепление с фольгой и с адгезивом. Известен многокомпонентный стабилизатор растворов дл химического меднени , содержащий соединение дву валентной серы, ферроцианид кали и алкиленамин f2J . Раствор с данн тм стабилизатором обеспечивает получение покрытий высокого качества при высокой скорости осаждени меди (до 100 мкм/ч Цель изобретени - изыскание стабилизаторов позвол кадих не тольк стабилизировать раствор дл химичес кого меднени , но и упростить его состав и обеспечить получение плотных мелкокристаллических покрытий, не окисл ющихс во времени. Указанна цель достигаетс применением диазолина {З-метил-Э-бейзил -1,2-3,4 тетрагидрокарболина-нафта ,лин-1,5 дисульфат) общей формулы /V- CHj ,H).l в качестве стабилизатора растворов дл химического меднени . Диазолин вл етс известным веще ством и примен етс в медицине в качестве противоаллергического пре парата 13 . Испытани стабилизатора ведут в растворе дл химического меднени . Предлагаемый стабилизатор опробуют в следующих растворах дл химического меднени . Состав J. содержит: Соль меди (сернокисла или азотнокисла ) 100 Гидроокись натри 80 Калий-натрий виннокислый200 Трилон Б30 Калий роданистый 0,4 Диазолин (З-метил-9бензил-1 ,2,3,4-тетрагидрокарболино нафталин-1 ,5-дисульфат) 0,08 Формалин 37%, мл 40 рН раствйра 13,0-13,5, рабоча температура 18-25 С. Состав Я содержит: Соль меди (сернокисла или азотнокисла ) 30 Гидроокись натри 30 Калий-натрий виннокислый120 Трилон Б15 Калий роданистый 0,1 Диазолин (З-метил-9бензил-1 ,2,3,4-тетрагидрокарболино нафталин-1 ,5-дисульфат) 0,03 ..,Формалин 37%, мл 15 рн раствора 12,4-13,0, рабоча температура 18-25 С. При меднении в растворе состава скорость восстановлени меди 1416 мкм/ч, стабильность раствора 10-12 ч, осадок плотный, интенсивно розовый, не окисл етс во времени . При меднении в растворе состава скорость восстановлени меди 23 мкм/ч, стабильность раствора 20-25 ч, осадок блест щий, интенсивно розовый, мелкокристаллический, плотный. Оптимальные результаты по скорости , стабильности и качеству осадка получают при следующем соотношении компонентов (состав ttO: Соль меди (сернокисла или азотнокисла )г г/л 50 Гидроокись натри 60 Калий-натрий виннокислый170 Трилон Б20 Калий роданистый .0,2 Диазолин (З-метил-9бен зил-1,2,3,4 -тетра гидрокарболино нафталин1 ,5-дисульфат) 0,06 Формалин 37%, мл 20 рН раствора 12,4-13,2, температура 18-25с. Скорость восстановлени меди 8-12 мкм/ч, стабильность в работе в течение 2-Д недель в.зависимости от загрузки. Плотность загрузки 3-4 дм на 1 л раствора. Корректировка производитс концентратом. Дл приготовлени раствора указанные компоненты, за исключением трилона Б, в расчетном количестве раствор ют отдельно в небольших количествах воды. Трилон Б раствор ют в растворе гидроокиси натри , в него заливают раствор кали -натри виннокислого , затем при перемешивании добавл ют растворы соли меди, кали роданистого (или железносинеродистого) и стабилизатора (диазолина). Довод т водой до нужного объема. Формалин добавл ют перед началом работы, индукционный период составл ет 0,5-1O 00 The invention relates to chemical copper plating and can be used in the metallization of dielectric metals and in the manufacture of printed circuit boards. It is known to use a stabilizer of pyridine derivatives, in particular, 2.2 dipyridine as a stabilizer of solutions for chemical copper plating of dielectrics containing copper salt, complexing agent, sodium hydroxide, sodium carbonate f17. However, the known stabilizer does not provide high quality copper precipitation. Copper recovered from a known solution is dark, porous, rapidly oxidized in air, has insufficient adhesion to the foil and to the adhesive. A multicomponent stabilizer of solutions for chemical copper plating is known, containing a compound of divalent sulfur, potassium ferrocyanide and alkylene amine f2J. The solution with this stabilizer provides high quality coatings at a high copper deposition rate (up to 100 µm / h). The purpose of the invention is to find stabilizers that allow Qadim not only to stabilize the solution for chemical copper plating, but also to simplify its composition and to obtain dense crystalline coatings, not oxidized in time. This goal is achieved by using diazoline {3-methyl-U-basyl -1,2-3,4 tetrahydrocarboline-naphtha, ling-1.5 disulfate) of the general formula (V-CHj, H) .l solution stabilizer for chemical plating. Diazolin is a well-known substance and is used in medicine as an antiallergic drug 13. The stabilizer tests are carried out in a solution for chemical copper plating. The proposed stabilizer is tested in the following solutions for chemical copper plating. Composition J. contains: Copper salt (sulfuric acid or nitric acid) 100 Sodium hydroxide 80 Potassium-sodium tartrate 200 Trilon B30 Potassium rhodanate 0.4 Diazoline (3-methyl-9benzyl-1, 2,3,4-tetrahydrocarbolino naphthalene-1, 5- disulfate) 0.08 Formalin 37%, 40 ml pH of the solution 13.0-13.5, operating temperature 18-25 C. Composition I contains: Copper salt (sulfuric acid or nitric acid) 30 Sodium hydroxide 30 Potassium-sodium tartrate 120 Trilon B15 Potassium rhodium 0.1 Diazolin (Z-methyl-9benzyl-1, 2,3,4-tetrahydrocarbolino-naphthalene-1, 5-disulfate) 0.03 .., Formalin 37%, ml of pH 15.4 12.4-13.0 working tempera cheers 18-25 C. When a copper plating solution composition of speed reduction copper 1416 .mu.m / h, the solution stability of 10-12 hours, the precipitate is dense, intense pink, not oxidized over time. During the copper plating in the composition solution, the recovery rate of copper is 23 µm / h, the stability of the solution is 20–25 h, the precipitate is bright, intensely pink, fine-crystalline, dense. Optimal results on speed, stability and quality of the precipitate are obtained in the following ratio of components (composition ttO: Copper salt (sulfuric acid or nitric acid) g g / l 50 Sodium hydroxide 60 Potassium-sodium tartrate170 Trilon B20 Potassium is rhodanous .0,2 Diazolin (Z-methyl -9ben zil-1,2,3,4-tetra hydrocarbolino naphthalene 1, 5-disulfate) 0.06 Formalin 37%, ml 20 pH of solution 12.4-13.2, temperature 18-25 sec. Copper reduction rate 8-12 µm / h, stability in operation for 2-D weeks in. depending on the load. Loading density of 3-4 dm per 1 liter of solution. concentrate is prepared. To prepare the solution, these components, with the exception of Trilon B, are dissolved separately in small amounts of water in the calculated amount. Trilon B is dissolved in sodium hydroxide solution, potassium tartrate solution is poured into it, then salt solutions are added with stirring copper, potassium rhodanate (or iron-synergistic) and stabilizer (diazolin). Bring it with water to the desired volume. Formalin is added before starting work, the induction period is 0.5-1
мин. в прюцессе работы раствор кор ректируют по анализу на основные компоненты концентратом, который приготавливаетс так же как и основной раствор, но концентраци компонентов в нем увеличена в четыре раза. Формалин добавл етс в ходе работы.min In the work process, the solution is corrected by analyzing the main components with a concentrate, which is prepared in the same way as the main solution, but the concentration of the components in it is increased four times. Formalin is added during the course of the work.
Благодар применению известного в медицине антиаллергического препарата диаэолина в качестве стабилизатора раствора дл химического меднени получаемые покрыти интенсивно розового цвета, блест щие, мелкозернистые, сплошные и р авномерные по толщине (козффйциент равномерности близок к единице). Эластичност осадка определ етс числом гиб7перегибов и составл ет 4-5 перегибов.Due to the use of the anti-allergic drug diaeolin, which is well-known in medicine, as a solution stabilizer for chemical copper plating, the resulting coatings are intensely pink in color, glossy, fine-grained, solid and irregular in thickness (the uniformity coefficient is close to unity). The elasticity of the sludge is determined by the number of bends and is 4-5 bends.
Содержание меди в осадке составл ет 99,12-99,75%.The copper content in the sediment is 99.12-99.75%.
Электропроводность зависит от толщины осадка. Толщину меди в отверсти х печатных плат определ ют методом шлифа. Скорость осаждени на медной фольге определ ют весовым методом. Адгезию покрыти к диэлектрику определ ют на разрывной машине типа МИП-10, она составл ет 15002000 г/см. С медной фольги покрытие невозможно отделить, на изломе отслоений не наблюдаетс .The conductivity depends on the thickness of the sediment. The thickness of the copper in the holes of the printed circuit boards is determined by the thin section method. The deposition rate on the copper foil is determined by the gravimetric method. The adhesion of the coating to the dielectric is determined on a tensile testing machine of the MIP-10 type; it is 1,502,000 g / cm. With copper foil, the coating cannot be separated; no fracture is observed at the fracture.
Раствор с применением диазолина стабилен в работе, обеспечивает подучейне высококачественных осадков меди и может быть использован приThe diazoline solution is stable in operation, provides high quality copper precipitation and can be used for
.металлизации печатных плат, диэлектриков и пластмасс, позвол ет исключить гальваническое меднение.The metallization of printed circuit boards, dielectrics and plastics, makes it possible to avoid galvanic copper plating.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU813326653A SU1067080A1 (en) | 1981-06-11 | 1981-06-11 | Stabilizer of chemical copper-plating solutions |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU813326653A SU1067080A1 (en) | 1981-06-11 | 1981-06-11 | Stabilizer of chemical copper-plating solutions |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1067080A1 true SU1067080A1 (en) | 1984-01-15 |
Family
ID=20972608
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU813326653A SU1067080A1 (en) | 1981-06-11 | 1981-06-11 | Stabilizer of chemical copper-plating solutions |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1067080A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2671988C1 (en) * | 2017-10-02 | 2018-11-08 | Акционерное общество "Научно-исследовательский институт Приборостроения имени В.В. Тихомирова" | Application process of drawing copper coating on polyetheretherketone |
-
1981
- 1981-06-11 SU SU813326653A patent/SU1067080A1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
1, Патеит US 4099974, kfl. С 23 С 3/02, опубЯИК. 1978. 2. Авторское бвйдётельстёо СССР I 664377, НЛ4 С 23 С 3/02, 1974. 3. Машкойск й И.Д. Лекарственнве| средства. Спра&очйику ч-. П. М.« МЕДЯцина, 1977, с..46 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2671988C1 (en) * | 2017-10-02 | 2018-11-08 | Акционерное общество "Научно-исследовательский институт Приборостроения имени В.В. Тихомирова" | Application process of drawing copper coating on polyetheretherketone |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3428345C2 (en) | ||
Nomura et al. | Determination of micromolar concentrations of cyanide in solution with a piezoelectric detector | |
US8440555B2 (en) | Method for analyzing electrolytic copper plating solution | |
US4222779A (en) | Non-chromate conversion coatings | |
JPS5929118B2 (en) | Palladium/nickel alloy plating liquid | |
US6117301A (en) | Electrolyte for the galvanic deposition of low-stress, crack-resistant ruthenium layers | |
JPS61110799A (en) | Controller of metal plating cell | |
SU1067080A1 (en) | Stabilizer of chemical copper-plating solutions | |
US3661596A (en) | Stabilized, chemical nickel plating bath | |
Ohno | Electroless copper plating from an iminodiacetate bath | |
US4720404A (en) | Aqueous alkaline bath for the chemical deposition of copper, nickel, cobalt and their alloys | |
WO2017142208A1 (en) | Concentration indicator of metal component contained in plating solution, and plating method using same | |
JPH01501326A (en) | A method of forming a dense copper plating essentially free of cracks on a substrate by electroless plating. | |
JPH0236676B2 (en) | ||
Kuznetsov et al. | Electrochemical study of the electroless copper plating process | |
SU697610A1 (en) | Electrolyte for tin-bismuth alloy plating | |
SU1712469A1 (en) | Electrolyte for depositing tin-bismuth alloy | |
SU379676A1 (en) | METHOD OF ELECTROCHEMICAL DEPOSITION OF A SILVER-PALLADIUM ALLOY | |
CN115717258A (en) | Leveling agent for pulse hole filling electroplating of printed circuit board and application thereof | |
JPH0336281A (en) | Electroless copper plating method | |
JPS5848700A (en) | Controlling method for concentration of metallic ions in electrolytic bath | |
KR830002335B1 (en) | PH measurement electrode in aqueous solution | |
SU1199828A1 (en) | Brass plating electrolyte | |
JPS5892948A (en) | Measuring method for ph using copper oxide electrode | |
RU1781328C (en) | Gold-plating electrolyte |