SU1662967A1 - Способ электрохимической обработки стекла - Google Patents
Способ электрохимической обработки стекла Download PDFInfo
- Publication number
- SU1662967A1 SU1662967A1 SU884466389A SU4466389A SU1662967A1 SU 1662967 A1 SU1662967 A1 SU 1662967A1 SU 884466389 A SU884466389 A SU 884466389A SU 4466389 A SU4466389 A SU 4466389A SU 1662967 A1 SU1662967 A1 SU 1662967A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- glass
- electrochemical
- hydrogen
- tin
- layer
- Prior art date
Links
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к процессам электрохимической обработки ленты стекла, формуемого на расплаве олова. Цель изобретени - интенсификаци процесса электрохимической обработки. Дл этого в способе электрохимической обработки стекла в процессе его производства по поверхности расплавленного олова путем электрохимического внедрени ионов модифицирующего металла в верхнюю поверхность стекла в качестве источника модифицирующего металла используют систему палладий - металл, через которую под избыточным давлением к стеклу подают водород. 2 ил.
Description
Изобретение относитс к производству преимущественно листового стекла на стекольных заводах, относ щихс к промышленности строительных материалов.
Целью изобретени вл етс интенсификаци процесса электрохимической обработки .
На фиг. 1 показана электрохимическа чейка, наход ща с в зоне защитно-восстановительной газовой среды, содержащей 8-14 об.% Hz (остальное азот), поперечный разрез; на фиг. 2 - схема чейки с подачей На в полый ограничительный элемент.
Лента стекла 1 размещена на расплаве олова 2. Над стеклом 1 находитс сплошной ограничительный элемент 3, нижн поверхность которого покрыта слоем паллади 4 (фиг. 1). На палладий возможно также нанесение тонкого сло другого металла 5, который легко смачиваетс расплавом металла 6.
Полый ограничительный элемент 3 (фиг, 2) имеет внутреннюю полость 7, котора соединена с трубопроводом 8 высокого давлени дл подачи -в нее водорода. Нижн часть ограничительного элемента имеет по всей ее поверхности отверсти 9 малого диаметра (0,05 - 0,35 мм). На ограничительный элемент нанесен (с помощью СВЧ-плазмот- рона, магнетрона или другим способом) слой Pd (паллади ) так, чтобы закрылись все отверсти 9 и не было их пробо от высокого давлени (максимально до 150 кгс/см ), подаваемого в полость 7 водорода. Ограничительный элемент соединен с положительным, а олово - с отрицательным полюсом источника электрического тока (не показан).
Способ электрохимической обработки стекла реализуют следующим образом.
В зазор, образуемый между нижней поверхностью ограничительного элемента и расплавом олова 2, заливают слой (толщиной 3-4 мм) расплавленного металла 6,
О
ч
о J
например свинца. Дл лучшего смачивани ограничительного элемента на слой паллади 4 нанос т тонкий слой, например, олова ,
Свинец не смачивает стекло 1, но удерживаетс на ограничительном элементе за счет сил смачивани (адгезии), При подаче на электрохимическую чейку при 600 - 900°С (ограничительный элемент - расплав металла - стекло - расплав олова) электрического напр жени происходит внедрение в стекло Н+ и РЬ2+ (РЬ4). При этом водород попадает в чейку за счет диффузии в пал- ладиевую пластину 4 (фиг. 1) с боковых сторон . Однако интенсивность процесса диффузии невелика, да и содержание водорода в газовой среде, окружающей ограничительный элемент, не высоко (8- 14%). Дл повышени интенсивности процесса электрохимической обработки стекла использу- юг другую схему (фиг, 2). В полость 7 ограничительного элемента 3 под давлением пор дка 1 - 20 кгс/см подают очищенный (от воды, кислорода и механических примесей) водород.
Пример 1. Отформованна лента стекла 1 обычного химического состава (содержит в том числе до 14 мас.% N320) толщиной 5 мм и шириной 1200 мм двигаетс по расплаву олова 2 в зоне защитно-восстановительной газовой смеси N2(92 - 86%) и Н2(8 - 14%) со скоростью Vc 200 м/ч. Ограничительный (полый) элемент 3 длиной 1100 мм и шириной 30 мм размещают над стеклом на рассто нии 3,5 ± 0,1 мм в зоне 700°С. Нижн часть ограничительного элемента покрыта слоем (пластина) Pd толщиной до 21 мм, перекрывающим сетку отверстий 9, диаметр которых 0,2 мм (шаг между отверсти ми 1-3 мм), На слой (пластину ) паллади нанесен тонкий (0,05 - 0,1 мм) слой другого металла (или оксида), например олова. Под ограничительным элементом размещают расплав висмута (BI), который весьма слабо (электрохимически) раствор етс в стекле, хот , как известно, потенциал ионизации В (7,287 эВ) существенно больше, чем у водорода (14,6 эВ).
По трубопроводу 8 подают чистый водород ( 100%), который под давлением 21 кгс/см2 легко раствор етс в палладии: атомное отношение до H/Pd 0,4, что соответствует примерно концентрации 4000 см3 На/100 г Pd.Така громадна концентраци водорода с одной стороны пластины заставл ет диффундировать его в сторону расплава висмута. Висмут не раствор ет водород ни в каком виде, однако поддействмем электрического пол Н - Н+ + е, и ионы Н4
(протоны) легко проникают в висмут, внедр ютс в верхний слой стекла 1 на глубину, пропорциональную приложенному на чейку напр жению. При напр жении на клем- мах (ограничительный элемент 3 соединен со знаком +, т.е. вл етс анодом, а расплав олова 2 - со знаком - катод) источника тока U 5 В через элементы электрохимической чейки проходит ток силой 5,5 А (16,6 0 мА/см2). В результате ионы Na смещаютс вглубь стекла (к катоду), а их место замещают протоны Н+ (ионный обмен). Толщина модифицированного таким образом сло стекла составл ет величину пор дка 5-15 5 мкм.
Дл повышени толщины указанного сло (до 100 мкм и более) можно повышать электрическое напр жение или по ходу ленты стекла ставить несколько таких чеек, В 0 таком случае механическа прочность стекла (стеклоизделий) на изгиб может быть повышена до 2 - 2,5 раз по сравнению с исходным (отожженным) стеклом, а химическую устойчивость, например к воде (кип - 5 чение в воде), можно увеличить в 10-20 раз и больше.
Пример 2. Технологические параметры формовани стекла оставл ют согласно примеру 1, но в качестве расплава 6 исполь- 0 зуют олово. В ограничительный элемент подают HЈ под избыточным давлением Р 1,05 кгс/см2 при 800°С.
Содержание водорода в палладиевой пластине 4 (расплаве 6) составл ет 75 5 см3/100 г паллади . При U 20 В в стекло внедр ютс ионы Н+, Sn2+ и Sn4+ на глубину 20 мкм, в результате чего совершенно измен етс структура модифицированного обес- щелоченного сло стекла. В силу малых 0 радиусов замещающих Na+ ионов Н+, Sn и Sn T в стекле возникает уплотнение, т.е. по вл ютс напр жени сжати , повышающие твердость и механическую прочность (химстойкость) стекла. Регулируема комби- 5 наци ионов Н+, Sn2+ и Sn позвол ет изме- н ть состав и вли ние этих ионов на кремнийкислородную сетку стекла, измен также его оптические свойства.
Пример 3. Технологические парамет- 0 ры остаютс как в примере 1, но в качестве ограничительного элемента 3 используют медный брус с размерами в плане 40x1100 мм, имеющий на длине I 100 мм (в общем случае В, где В - ширина ограничитель- 5 ного элемента) только слой 5, состо щий из олова толщиной 0,1 мм (фиг. 1). В этом случае при использовании в качестве расплава 6 свинца в стекло внедр ютс ионы Н+, Си+ (Си2+) и РЬ24(РЬ4), которые после их восстановлени водородом окружающей газовой
среды (8-14 об. % N2) измен ют оптическую плотность стекла и цвет (от серого до бронзового ).
Так, например, при U 10 В, температуре 650°С, плотности тока i 33 мА/см сае- топропускание в видимой области спектра (400 - 750 нм) не превышает 4%. Стекло пригодно дл изготовлени фотошаблонов. Слой Pd (пластина 4 на фиг. 1) поглощает водород, который далее попадает в расплав РЬ и восстанавливает оксиды типа РЬО и РЬ20з, образующиес в расплаве при гидролизе стекла (выделение кислорода при U 3 В). Таким образом повышаетс качество модифицированного стекла за счет снижени полосности в окраске электрохимически обработанной поверхности и снижени
царапин на стекле (оксиды могут кристаллизоватьс на кра х ограничительного элемента при отсутствии восстановлени их водородом.
Claims (1)
- Формула изобретениСпособ электрохимической обработки стекла з процессе его производства по поверхности расплавленного олова путем электрохимического внедрени ионов модифицирующего металла в верхнюю поверхность стекла, отличающийс тем, что, с целью интенсификации процесса электрохимической обработки, в качестве источника модифицирующего металла используютсистему палладий - металл, через которую под избыточным давлением к стеклу подают водород,0 + С-)ЈМ+)Фиг.1+ Н-(+;
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU884466389A SU1662967A1 (ru) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | Способ электрохимической обработки стекла |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU884466389A SU1662967A1 (ru) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | Способ электрохимической обработки стекла |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1662967A1 true SU1662967A1 (ru) | 1991-07-15 |
Family
ID=21392249
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU884466389A SU1662967A1 (ru) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | Способ электрохимической обработки стекла |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1662967A1 (ru) |
-
1988
- 1988-07-27 SU SU884466389A patent/SU1662967A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Патен - СССР N 380012, кл. С 03 С 21/00. 1969. Патент СССР №320105. кл. С 03 В 18/02, 1966. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0715358A2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Solarzelle mit Chalkopyrit-Absorberschicht und so hergestellte Solarzelle | |
CA2234882A1 (en) | Method and apparatus for reducing tin defects in float glass | |
DE2125827B2 (de) | Verfahren zum Aufstäuben eines elektrisch leitenden Metalloxidüberzuges | |
US4294811A (en) | Process for manufacturing Si useful for semiconductor components from quartz sand | |
US4824458A (en) | Deionization of glass by corona discharge | |
DE112011101802B4 (de) | Verfahren für die Herstellung eines Quarzglastiegels mit transparenter Innenschicht aus synthetisch erzeugtem Quarzglas | |
SU1662967A1 (ru) | Способ электрохимической обработки стекла | |
US3902882A (en) | Electrically modified float glass manufacturing methods | |
US3505048A (en) | Process and apparatus for electrochemical modification of glass | |
PT78754B (fr) | Procede de fabrication d'une electrode pour procedes electrochimiques et cathode pour la production electrolytique d'hydrogene | |
US4836888A (en) | Method of chemically etching semiconductor substrate | |
DE69015991T2 (de) | Anlaufverfahren für Brennstoffzellen mit geschmolzenen Karbonaten. | |
DE69112474T2 (de) | Verfahren zur oberflächlichen Entionisierung von Glasbändern, Vorrichtung dafür und erhaltene entionisierte Produkte. | |
US3632322A (en) | Method and apparatus for producing glass having a metallic surface finish | |
US3658504A (en) | Float glass manufacture apparatus | |
EP1862563B1 (de) | Sputterabscheidung von Molybdänschichten | |
EP0001837A2 (de) | Verfahren zur Entspiegelung von Gläsern sowie Vorrichtung zur Durchführung eines solchen Verfahrens | |
US3755111A (en) | Elimination of floating slime during electrolytic refining of copper | |
EP0098858A1 (de) | Stromeinführungsleitung, insbesondere für vakuumtechnische geräte und verfahren zu deren herstellung. | |
US3762898A (en) | Manufacture of glass having desired surface characteristics | |
DE1596752C (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Ober flachenbehandlung von Glasgegenstanden durch Ionendiffusion im elektrischen Feld | |
JPS5486481A (en) | Production of metal oxide film | |
SU1731747A2 (ru) | Способ электрохимической обработки стекла | |
GB2259098A (en) | Electrochemical preparation of single phase lead telluride | |
RU2104974C1 (ru) | Способ электрохимической обработки ленты листового стекла |