SU1650786A1 - Electrolyte for copper plating - Google Patents
Electrolyte for copper plating Download PDFInfo
- Publication number
- SU1650786A1 SU1650786A1 SU874275197A SU4275197A SU1650786A1 SU 1650786 A1 SU1650786 A1 SU 1650786A1 SU 874275197 A SU874275197 A SU 874275197A SU 4275197 A SU4275197 A SU 4275197A SU 1650786 A1 SU1650786 A1 SU 1650786A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- copper
- thiourea
- internal stresses
- plasticity
- electrolyte
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к гальваностегии , а именно к серно-кислым электролитам меднени , и может быть использовано дл электрохимического меднени стальной поверхности без дополнительного подсло другого металла. Цель - снижение внутренних напр жений и повышение пластичности осадков меди. Электролит меднени содержит , г/л: серно-кисла медь п тиводна 200-300, серна кислота 70- 100, хромовый ангидрид 0,7 - 1,2, тиомочевина 0,02 - 0,2 и вода. Дополнительное введение тиомочеви- ны позвол ет снизить внутренние напр жени и повысить пластичность осадков меди за счет повышени их чистоты. 2 табл.The invention relates to electroplating, namely to sulfuric acid electrolytes of copper plating, and can be used for electrochemical copper plating of a steel surface without an additional sublayer of another metal. The goal is to reduce internal stresses and increase the plasticity of copper deposits. Copper electrolyte contains, g / l: sulfuric-acid copper 200-300, sulfuric acid 70-100, chromic anhydride 0.7-1.2, thiourea 0.02-0.2 and water. The addition of thiourea further reduces internal stresses and increases the plasticity of copper deposits by increasing their purity. 2 tab.
Description
Изобретение относитс к гальваностегии , а именно к серно-кислым электролитам меднени , и может быть использовано дл электрохимического меднени стальной поверхности без дополнительного подсло другого металла.The invention relates to electroplating, namely to sulfuric acid electrolytes of copper plating, and can be used for electrochemical copper plating of a steel surface without an additional sublayer of another metal.
Цель изобретени - снижение внутренних напр жений и повышение пластичности осадков меди.The purpose of the invention is to reduce internal stresses and increase the plasticity of copper deposits.
Электролит меднени содержит, г/л: серно-кисла медь п тиводна 200 - 300; серна кислота 70 - 100; хромовый ангидрид 0,7 - 1,2; тиомочевина 0,02 - 0,2 и вода.Copper electrolyte contains, g / l: sulfuric acid copper in water 200 - 300; sulfuric acid 70-100; chromic anhydride 0.7 - 1.2; thiourea 0.02 - 0.2 and water.
Совместное действие двух добавок св зано с образованием прикатодного комплекса , способствующего подавлению контактного выделени меди на стальной поверхности, и обеспечивает качественное сцепление медного осадка с поверхностью металла. Восстановление ионов меди идет через приэлектродную пленку по мостико- вому механизму без участи продуктов промежуточного восстановлени тиомочевины, вследствие чего получаемые осадки имеют большую чистоту и, как следствие, повышенную пастичность и малые внутренние напр жени .The combined effect of the two additives is associated with the formation of a cathode complex, which helps to suppress the contact release of copper on the steel surface, and provides high-quality adhesion of the copper sediment to the metal surface. The recovery of copper ions proceeds through the near-electrode film along a bridge mechanism without the fate of products of intermediate reduction of thiourea, as a result of which the precipitates obtained have a higher purity and, as a result, increased pastille and small internal stresses.
Вместе с этим использование комбинации тиомочевины с хромовым ангидридом позвол ет вести процесс не с графитовым анодом, как в прототипе, а с растворимыми медными, которые в ходе эксплуатации электролита автоматически восполн ют убыль ионов меди при их восстановлении на катоде, так как катодный и анодный выходы по току равны между собой (100%). В отсутствии тиомочевины ионы хрома (III), образующиес на катоде, не могут быть окислены на аноде из мели, так как вводима дополнительно тиомочевина св зывает ионы хрома в прикатодном поверхностном комплексе. При этом отпадает необходимость окислени ионов хрома (III) до шестио ел оAt the same time, using a combination of thiourea with chromic anhydride allows the process not with a graphite anode, as in the prototype, but with soluble copper, which during electrolyte operation automatically compensates for the loss of copper ions during their recovery at the cathode, since the cathode and anode outputs current equal to each other (100%). In the absence of thiourea, chromium (III) ions formed on the cathode cannot be oxidized on the anode from the chalk, since the addition of thiourea additionally binds chromium ions in the cathode surface complex. This eliminates the need for the oxidation of chromium (III) ions to six o
vj 00 Оvj 00 About
валентного состо ни как это требуетс в известном электролите.valence state as required in a known electrolyte.
Электролит готов т следующим способом . В водный раствор серно-кислой меди ввод т серную кислоту, хромовый ангидрид и тиомочевину. Каждый новый компонент ввод т после полного растворени предыдущего . Затем электролит довод т до нужного объема.The electrolyte is prepared as follows. Sulfuric acid, chromic anhydride and thiourea are introduced into an aqueous solution of sulfuric acid copper. Each new component is introduced after the previous one has completely dissolved. The electrolyte is then made up to the desired volume.
Получаемые гальванические осадки ме- ди на стальной основе обладают хорошим сцеплением, имеют светлую поверхность розового цвета. Дл получени равномерного по всей поверхности покрыти деталь погружают в электролит под током.The resulting galvanic deposits of copper on a steel base have good adhesion, have a light pink surface. To obtain a uniform coating over the entire surface, the part is immersed in the electrolyte under current.
Составы электролитов, включа граничные составы компонентов и режимы осаждени , характеристики покрытий приведены в таблице.The electrolyte compositions, including the boundary composition of the components and deposition modes, the characteristics of the coatings are given in the table.
Осадки, полученные из предлагаемого электролита в диапазоне плотностей тока от 1 до 6 А/дм , получаютс разовыми полублест щими с малыми значени ми шероховатости и хорошим сцеплением стальной поверхности, чему способствует введение тиомочевины, без которой получаютс хрупкие осадки меди. Без добавок хромового ангидрида и тиомочевины нельз получить качественного компактного осадка.The precipitates obtained from the proposed electrolyte in the current density range from 1 to 6 A / dm are obtained by one-time semi-brightest with low roughness and good adhesion of the steel surface, which is facilitated by the introduction of thiourea, without which brittle copper precipitates are obtained. Without the addition of chromic anhydride and thiourea, it is not possible to obtain a qualitative compact sediment.
В табл. 1 приведены составы опробо- ванных электролитов; в табл. 2 - данные сравнительных испытаний медных покрытий на определение величины их внутренних напр жений и пластичности.In tab. 1 shows the compositions of tested electrolytes; in tab. 2 - data of comparative tests of copper coatings to determine the value of their internal stresses and plasticity.
Процесс получени покрытий провод т при температуре 23 ± 1°С. Величину внутренних напр жений измер ют при достижении толщины осадка 25 мкм.The process of obtaining coatings is carried out at a temperature of 23 ± 1 ° C. The magnitude of the internal stresses is measured when the thickness of the precipitate is 25 microns.
Величину внутренних напр жений измер ют по смещению отожженного проволочного катода толщиной 0.5 мм. фиксируемого механотроном.The magnitude of the internal stresses is measured by the displacement of an annealed wire cathode with a thickness of 0.5 mm. fixed by mechanotron.
Значени пластичности получаемых покрытий оценивают по доле пластических деформаций при сжатии медных покрытий толщиной 25 мкм, до нагрузки 8 МПа.The plasticity values of the resulting coatings are estimated by the proportion of plastic deformations during compression of copper coatings 25 μm thick, to a load of 8 MPa.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU874275197A SU1650786A1 (en) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | Electrolyte for copper plating |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU874275197A SU1650786A1 (en) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | Electrolyte for copper plating |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1650786A1 true SU1650786A1 (en) | 1991-05-23 |
Family
ID=21315935
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU874275197A SU1650786A1 (en) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | Electrolyte for copper plating |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1650786A1 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1197586A3 (en) * | 2000-10-13 | 2002-09-25 | Shipley Company LLC | Electrolyte |
US6679983B2 (en) | 2000-10-13 | 2004-01-20 | Shipley Company, L.L.C. | Method of electrodepositing copper |
US6797146B2 (en) | 2000-11-02 | 2004-09-28 | Shipley Company, L.L.C. | Seed layer repair |
-
1987
- 1987-05-19 SU SU874275197A patent/SU1650786A1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Блест щие электролитические покрыти ./ Под ред. Ю.Матулиса, Вильнюс, 1969, с.366, 373 и 389. Хамаев В.А. и др. Структура и свойства осадков меди, полученных из серно-кисло- го электролита с добавкой хромового ангидрида. - Извести вузов. Хими и химическа технологи , 1985, т.28. М 1, с.74 - 77. * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1197586A3 (en) * | 2000-10-13 | 2002-09-25 | Shipley Company LLC | Electrolyte |
US6679983B2 (en) | 2000-10-13 | 2004-01-20 | Shipley Company, L.L.C. | Method of electrodepositing copper |
US6797146B2 (en) | 2000-11-02 | 2004-09-28 | Shipley Company, L.L.C. | Seed layer repair |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5002838A (en) | Aluminum plating substance for anodizing | |
SU1650786A1 (en) | Electrolyte for copper plating | |
JPS5814518B2 (en) | Aluminum metal fittings | |
US3793162A (en) | Electrodeposition of ruthenium | |
US3729396A (en) | Rhodium plating composition and method for plating rhodium | |
US4345987A (en) | Coated electrode and a method of its production | |
US3920527A (en) | Self-regulating plating bath and method for electrodepositing chromium | |
SU560000A1 (en) | Zinc Molybdenum Alloy Deposition Solution | |
RU2784143C1 (en) | Electrolyte for copper plating of anodized aluminum and its alloys | |
SU865997A1 (en) | Electrolyte for precipitating tin-indium alloy costings | |
Rao et al. | The electrodeposition of copper on film-covered metal surfaces | |
SU601324A1 (en) | Gallium-plating electrolyte | |
SU1079701A1 (en) | Copper-plating electrolyte | |
Reid | Some experimental and practical aspects of heavy Rhodium plating | |
SU1432093A1 (en) | Electrolyte for producing nickel-base coatings | |
SU540946A1 (en) | Electrolyte for steel plating | |
Spooner et al. | Phosphoric acid anodizing of aluminium and its application to electroplating | |
RU2130091C1 (en) | Process of electrodeposition of coats by chromium-cobalt alloy | |
SU1177400A1 (en) | Electrolyte for depositing coatings from copper and zinc-base alloy | |
RU2814771C1 (en) | Method of electroplating chromium coatings from electrolyte based on hexahydrate of chromium (iii) sulphate and sodium formate | |
SU1177398A1 (en) | Method of chromium-plating in trivalent chromium sulfate-base electrolyte | |
SU1303632A1 (en) | Steel copper plating electrolyte | |
SU1737025A1 (en) | Electrolyte for bright nickel plating | |
SU1583475A1 (en) | Method of producing electroplating aluminium and its alloys | |
SU711182A1 (en) | Broze-plating electrolyte |