SU1636195A1 - Method of vibratory plane-parallel lapping - Google Patents

Method of vibratory plane-parallel lapping Download PDF

Info

Publication number
SU1636195A1
SU1636195A1 SU884616055A SU4616055A SU1636195A1 SU 1636195 A1 SU1636195 A1 SU 1636195A1 SU 884616055 A SU884616055 A SU 884616055A SU 4616055 A SU4616055 A SU 4616055A SU 1636195 A1 SU1636195 A1 SU 1636195A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
carrier
circular
lapping
reversed
movements
Prior art date
Application number
SU884616055A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Владимир Александрович Повидайло
Виктор Яковлевич Стрижак
Раиса Ярославовна Сахно
Original Assignee
Львовский политехнический институт им.Ленинского комсомола
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Львовский политехнический институт им.Ленинского комсомола filed Critical Львовский политехнический институт им.Ленинского комсомола
Priority to SU884616055A priority Critical patent/SU1636195A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU1636195A1 publication Critical patent/SU1636195A1/en

Links

Abstract

Изобретение относитс  к абразивной обработке и может быть использовано дл  двухсторонней доводки монокристаллических тонких и хрупких пластин, примен емых в электронной промышленности, а также прецизионных деталей в машино- и приборостроении. Целью изобретени   вл етс  повышение качества доводки путем формировани  оптимального микрорельефа с равномерным распределением неровностей по спектру шагов. Дл  этого измен ют направление вращени  водила после каждого оборота на обратное. Одновременно реверсируют поступательные круговые антифазные движени  притирочных дисков и измер ют их амплитуду на величину, котора  зависит от числа оборотов водила за цикл обработки, радиуса во: дила, средней амплитуды поступательных круговых движений притирочных дисков и частоты их круговых движений. При этом каждое абразивное зерно может пройти только по эквидистантной сложной траектории , формиру  микрорельеф с равномерным распределением неровностей по спектру шагов. слThe invention relates to abrasive machining and can be used for two-sided finishing of single-crystal thin and brittle plates used in the electronics industry, as well as precision parts in machine building and instrument making. The aim of the invention is to improve the quality of refinement by forming an optimal microrelief with a uniform distribution of irregularities across the range of steps. For this, the direction of rotation of the carrier is reversed after each revolution. At the same time, the forward circular antiphase movements of the lapping discs are reversed and their amplitude is measured by an amount that depends on the number of revolutions of the carrier per treatment cycle, the radius during: diol, the average amplitude of the progressive circular motions of the lapping disks and the frequency of their circular movements. In addition, each abrasive grain can pass only along an equidistant complex trajectory, forming a micro-relief with a uniform distribution of irregularities along the spectrum of steps. cl

Description

Изобретение относитс  к абразивной обработке и может быть использовано дл  двухсторонней доводки монокристаллических тонких и хрупких пластин, примен емых в электронной промышленности.The invention relates to abrasive machining and can be used for two-sided finishing of single-crystal thin and brittle plates used in the electronics industry.

Целью изобретени   вл етс  повышение качества доводки тонких пластин путем формировани  оптимального микрорельефа с равномерным распределением неровностей по спектру шагов.The aim of the invention is to improve the quality of fine plate adjustment by forming an optimal microrelief with a uniform distribution of irregularities across the spectrum of steps.

Свойство обработанной поверхности зависит не только от величины шероховатости , определ емой параметром Ra, но и от формы микронеровностей, котора  характеризуетс  спектральным составом микрорельефа . Под оптимальным понимаетс  микрорельеф, имеющий наименьшую высоту микронеровностей, при отсутствии отдельных впадин и выступов и наиболее равномерное распределение неровностей по спектру шагов.The property of the treated surface depends not only on the size of the roughness, defined by the Ra parameter, but also on the shape of asperities, which is characterized by the spectral composition of the microrelief. By optimal is meant a microrelief that has the smallest height of micro unevenness, in the absence of separate cavities and protrusions and the most uniform distribution of irregularities along the spectrum of steps.

Способ осуществл ют следующим образом .The method is carried out as follows.

Подлежащие вибрационной плоскопараллельной доводке пластины размещают в водиле между притирочными дисками. Включением электромагнитного вибровозбудител  притирочным дискам сообщают поступательные круговые антифазные движени , а водилу и пластинам - вращательное движение вокруг центра их осей.Plates subject to vibratory plane-parallel adjustment are placed in a carrier between lapping discs. By switching on the electromagnetic vibration exciter, the lapping disks are informed by forward circular antiphase movements, and the carrier and the plates - by the rotational movement around the center of their axes.

После одного оборота водила измен ют направление его вращени , одновременно реверсиру  поступательные круговые антйо соAfter one turn of the carrier, the direction of its rotation is changed, and at the same time the reverse circular translational

оabout

ю слyou are

фазные движени  притирочных дисков и измен ют амплитуду поступательных круговых движений на величину ДА, определ емую из услови :phase movements of the lapping discs and change the amplitude of the translational circular motions by the value of YES, determined from the condition:

д. Амакс АминD. Amaks Amin

пP

где Амакс и А мин - диапазон амплитуд эффективной обработки,where Amaks and A min is the range of amplitudes of effective processing,

п - количество оборотов водила, определ емое по формулеn is the number of revolutions of the carrier, determined by the formula

п -- , tn -, t

где Т - врем  длительности цикла обработки ,where T is the duration of the processing cycle,

t - врем  одного оборота водила.t - time of one revolution drove.

При движении деталей совместно с водилом каждое абразивное зерно оставит на детали след в виде спирали шириной, равной двум амплитудам колебаний. На прот жении одного оборота водила на детали окажетс  сетка из спиралей одинаковой ширины, но образованных разными абразивными зернами ,When moving parts together with the carrier, each abrasive grain will leave a trace on the part in the form of a spiral with a width equal to two amplitudes of vibrations. During one turn of the carrier, the parts will have a grid of spirals of the same width, but formed by different abrasive grains,

Веро тность полного наложени  каких либо спиральных следов в этом случае близ- ка к нулю. При втором обороте водила существует веро тность попадани  абразивных зерен в свои Ьледы, а следовательно, образование более глубоких впадин. Если при втором обороте уменьшить амплитуду коле- баний, то все зерна опишут эквидистантные траектории со спиральным следом меньшей ширины, а веро тность совпадени  собственных следов будет равна нулю.The probability of the complete superposition of any spiral traces in this case is close to zero. In the second revolution of the carrier, there is a probability that the abrasive grains fall into their bleda, and, consequently, the formation of deeper depressions. If, during the second revolution, the amplitude of oscillations is reduced, then all the grains will describe equidistant trajectories with a spiral wake of smaller width, and the probability of coincidence of their own wakes will be zero.

При реверсировании колебаний прити- рочных дисков после каждого оборота в работу резани  вступают противоложные грани каждого абразивного зерна, что способствует самозатачиванию зерен и полностью исключает совпадение каких либо следов. Таким образом, будет сформирован микрорельеф с равномерно распределенным спектром и предельно низкими сглаженными неровност ми.When reversing vibrations of the grinding discs, after each turn, the cutting edges of each abrasive grain enter into the cutting work, which contributes to the self-sharpening of the grains and completely eliminates the coincidence of any traces. Thus, a microrelief will be formed with a uniformly distributed spectrum and extremely low smoothed irregularities.

Например, если цикл обработки Т со- ставл ет 5 оборотов водила, а диапазон амплитуд эффективной обработки находитс  в пределах 0,5-5 мм, то изменение амплитуды поступательных круговых движений дисков за один оборот водила составл ет: For example, if the processing cycle T is 5 rotations of the carrier, and the range of amplitudes of the effective processing is within 0.5–5 mm, then the change in the amplitude of the translational circular motions of the disks per revolution of the carrier is:

Амакс АМИН 5 - 0.5Amaks AMIN 5 - 0.5

п5p5

В случае, когда вращение водила осуществл етс  от колебаний притирочного диска , врем  одного оборота водила t определ етс  из услови In the case when the rotation of the carrier is carried out from oscillations of the lapping disk, the time of one revolution of the carrier t is determined from the condition

tt

ДА YES

0,9 мм.0.9 mm.

4 (Амакс Амин) .(Аиа4 (Amaks Amin). (Aiah

0-v0-v

где R - радиус водила; v- частота круговых движений Дисковwhere R is the radius of the carrier; v- frequency of circular movements of the disks

Амакс - АМИНAmaks - AMIN

-- - средн   амплитуда поступательных круговых движений притирочных дисков.- - The average amplitude of the translational circular movements of the grinding wheels.

Например, радиус водила R 250 мм, максимальна  амплитуда круговых движений дисков Амакс 5 мм, минимальна  АМин 0,5 мм, частота круговых движений дисков V- 25 Гц, тогда врем  t одного оборота водила составл ет 7 с.For example, the radius of the carrier R is 250 mm, the maximum amplitude of circular movements of Amax disks is 5 mm, the minimum AMin is 0.5 mm, the frequency of circular movements of disks is V-25 Hz, then the time t of one revolution of the carrier is 7 seconds.

Если цикл обработки Т 2 мин, то изменение амплитуды ДА поступательных круговых движений дисков за один оборот водила равно 0,26 мм.If the processing cycle is T 2 min, then the change in the amplitude YES of the translational circular motions of the disks in one revolution of the carrier is 0.26 mm.

При алмазной доводке монокристаллических пластин по предлагаемому способу зерно подвергаетс  воздействию усилий, быстро измен ющихс  во времени и по направлению , что исключает образование глубоких царапин на пластине, так как зерна не смогут находитьс  в закрепленном состо нии длительное врем . Поскольку каждое зерно абразива может пройти только по эквидистантной сложной траектории, то на поверхности пластин формируетс  оптимальный микрорельеф с равномерным распределением неровностей по спектру шагов.In the case of diamond finishing of single crystal plates by the proposed method, the grain is exposed to forces that change rapidly in time and direction, which prevents the formation of deep scratches on the plate, since the grains will not be able to stay in a fixed state for a long time. Since each grain of abrasive can pass only along an equidistant complex trajectory, an optimal microrelief is formed on the surface of the plates with a uniform distribution of irregularities along the spectrum of steps.

Производительность процесса несколько ниже за счет частичного снижени  амплитуд колебаний, но это снижение существенно перекрываетс  повышением достигаемого качества поверхности.The productivity of the process is somewhat lower due to a partial decrease in the amplitudes of the oscillations, but this decrease significantly overlaps with an increase in the surface quality achieved.

Claims (1)

Формула изобретени Invention Formula Способ вибрационной плоскопараллельной доводки тонких пластин, при которой их размещают во вращающемс  водиле между притирочными дисками, совершающими поступательные круговые антифазные движени , отличающийс  тем, что, с целью повышени  качества доводки путем формировани  оптимального микрорельефа с равномерным распределением неровностей по спектру шагов, направление вращательного движени  водила после каждого его оборота измен ют на обратное, одновременно реверсируют поступательные круговые антифазные движени  притирочных дисков и измен ют их амлитуду на величину ДА, определ емую по формулеThe method of vibrating plane-parallel fine-tuning of thin plates, in which they are placed in a rotating carrier between lapping discs, performing translational circular antiphase movements, characterized in that the direction of the rotational movement of the carrier is improved after each rotation, it is reversed, at the same time the progressive circular antiphase movements of lapping are reversed. disks and change their amplitude by an amount YES determined by the formula ДА YES где Амакс и Амин - диапазон амплитуд обработки;where Amaks and Amin is the range of processing amplitudes; п - количество оборотов водилаp - the number of revolutions drove
SU884616055A 1988-12-05 1988-12-05 Method of vibratory plane-parallel lapping SU1636195A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU884616055A SU1636195A1 (en) 1988-12-05 1988-12-05 Method of vibratory plane-parallel lapping

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU884616055A SU1636195A1 (en) 1988-12-05 1988-12-05 Method of vibratory plane-parallel lapping

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1636195A1 true SU1636195A1 (en) 1991-03-23

Family

ID=21413311

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU884616055A SU1636195A1 (en) 1988-12-05 1988-12-05 Method of vibratory plane-parallel lapping

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1636195A1 (en)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Повидайло В.А и Третько В.В, Исследование процесса плоскопараллельной доводки тонких и хрупких материалов. Алмазна и абразивна обработка деталей машин и инструмента - Сб.трудов, - Пензенский политехнический институт, 1985. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4663890A (en) Method for machining workpieces of brittle hard material into wafers
SU1636195A1 (en) Method of vibratory plane-parallel lapping
US4169713A (en) Machine for three-dimensional polishing of workpieces shaped as solids of revolution in a magnetic field using ferromagnetic abrasive powders
US2387140A (en) Method and apparatus for finish grinding piezoelectric crystals
JPS63306864A (en) Method of grinding cutting tool for separating disk from rod-shaped or block-shaped work and separation method
WO2000035630A1 (en) Polishing carrier, surface polishing device, and surface polishing method
CN115256233A (en) Disc surface finishing process of double-sided grinding machine table
US5432394A (en) Ultrasonic motor having a vibratory body and method of producing the same
US2387141A (en) Method of making piezoelectric crystal structures
SU1678584A1 (en) A method for straightening lapping tools
SU831561A1 (en) Method of controlling ball finishing process
JPH02224955A (en) Polishing device for convex
SU1684001A1 (en) Abrasive wheel straightener
RU2095222C1 (en) Method and abrasive disk for machining sides of plates
RU2065358C1 (en) Method of tooling of precious stones
JP2863809B2 (en) Dressing equipment
SU1523316A1 (en) Method of hardening parts with surface plastic deformation
JPH03251363A (en) Lapping work and double-face lapping machine
JP3804332B2 (en) Workpiece surface polishing apparatus and carrier used therefor
SU848318A1 (en) Apparatus for magnetic-abrasive working
SU1283052A1 (en) Grinding method
SU901043A1 (en) Abrasive tool
RU1815695C (en) Method of cutting grooves in semiconductor plates
RU2182072C2 (en) Method of end face grinding from two sides
JPH02145257A (en) Dressing device for grindstone in parallel plane honing machine