SU1555400A1 - Устройство дл получени монокристаллических слоев - Google Patents
Устройство дл получени монокристаллических слоев Download PDFInfo
- Publication number
- SU1555400A1 SU1555400A1 SU884379865A SU4379865A SU1555400A1 SU 1555400 A1 SU1555400 A1 SU 1555400A1 SU 884379865 A SU884379865 A SU 884379865A SU 4379865 A SU4379865 A SU 4379865A SU 1555400 A1 SU1555400 A1 SU 1555400A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- evaporator
- substrate
- deflectors
- thermal
- layers
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
Изобретение может быть использовано дл создани полупроводниковых приборов и обеспечивает получение слоев с идентичными параметрами на двух противоположных сторонах подложки. Устройство содержит вакуумную камеру с испарителем. Над испарителем размещены два тепловых дефлектора, соединенные с испарителем паропроводами. Между собой паропроводы соединены горизонтальной трубкой, в которой размещена подложка. Дефлекторы закреплены шарнирно с возможностью изменени угла наклона в вертикальной и горизонтальной плоскост х. 1 ил.
Description
Изобретение относитс к полупроводниковой технике и может быть использовано дл создани полупроводниковых приборов.
Целью изобретени вл етс получение слоев с идентичными параметрами на двух противоположных сторонах подложки .
На чертеже представлено устройство , общий вид.
Устройство содержит несущее основание 1, на котором закреплена рамка 2 из измерительной стали, Рамка 2 выполнена раздвижной в вертикальном и горизонтальном направлени х и служит дл изменени относительного расположени и креплени на ней узлов устройства . На основании 1 установлен испаритель 3 с испар емым веществом, подогреваемый спиралью 4. Устройство снабжено двум тепловыми дефлекторами 5, соединенными с испарителем 3 при помощи паропроводов 6. Последние соединены между собой горизонтальной
трубкой 7, в которой на равном pact- сто нии от дефлекторов 5 размещена подложка 8, снабженна нагревателем 9. Трубка 7 имеет индивидуальный нагрев. Каждый тепловой дефлектор 5 имеет сферическую отражающую поверхность,. выполненную из пластины, спираль 10, котировочные И и фиксирующие 12 винты . Креп т дефлекторы парнирно в верхней части рамки 2 с возможностью изменени угла наклона при помощи котировочных винтов 11 как в вертикал ьнрй, так и в горизонтальной плоскост х , что позвол ет ориентировать поток частиц испар емого вещества в нужном направлении. Угловую ориентацию дефлекторов 5 осуществл ют юс- тировочными винтами 11. Рассто ние между дефлектором 5 и подложкой 8 30 мм, от испарител 3 до центра отражающей поверхности теплового дефлектора 5 60 мм. Рассто ние между элементами устройства регулируют с помощью рамки 2.
(Л
СП СП СП
Устройство работает следующим образом .
Напыл емое вещество - селен помещают в испаритель 3. Верхн сть испарител 3 закрыта заслонкой (не показана), Все устройство помещено в вакуумную камеру (не показана), которую откачивают до давлени остаточных газов 510 -10 мм рт.ст. Одновре- менно с откачкой производ т нагрев испарител 3 до 250°С дл удалени газов, содержащихс в селене, тепловых дефлекторов 5 до 230-250°С, паропровода 6 и трубки 7 до 225°С, под- ложки 3 до 180-190°С. Температуру каждого дефлектора контролируют индивидуальными термопарами и в процессе напылени корректируют. Подложка 8 экранирована от теплового пол труб- ки 7. После установлени указанных режимов температуру испарител 3 уменьшают до 220°С и открывают заслонку , начинаетс процесс напылени .
Поток молекул и частиц испар емо- го вещества, покида поверхность расплава , поступает по паропроводу б к дефлекторам 5, тепловое поле которых приводит к перераспределению собственной э.нергии частиц и позвол ет по- лучить усредненный по энергии и скорости молекул рный поток и направл ет его к подложке 8. Собственную энергию частиц испар емого вещества, попавших в тепловое поле дефлектора 5, можно
выразить через коэффициент аккомодации , описывающий поведение молекул рного газа вблизи нагретой поверхности Тепловым полем дефлекторов 5 можно измен ть не только энергию частиц, но и управл ть скоростью роста пленки и концентрацией молекул рного пучка и, как следствие этого, увеличивать получени качественного, однородного по толщине монокристаллического сло . Это дает возможность использовать предлагаемое устройство дл серийного напылени монокристаллических слоев селена при изготовлении приборов с двум идентичными рабочими поверхност ми . Качество монокристаллических слоев контролируют электронограммами.
Claims (1)
- Формула изобретениУстройство дл получени монокрис- таллических слоев, включающее вакуумную камеру, размещенный в ней испаритель и установленную над ним подложку , снабженную нагревателем, о т- личающеес тем, что, с целью получени слоев с идентичными параметрами на двух противоположных сторонах подложки, устройство снабжено двум тепловыми дефлекторами, соединенными с испарителем паропроводами и между собой горизонтальной трубкой, в которой размещена подложка на одинаковом рассто нии от дефлекторов .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU884379865A SU1555400A1 (ru) | 1988-02-19 | 1988-02-19 | Устройство дл получени монокристаллических слоев |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU884379865A SU1555400A1 (ru) | 1988-02-19 | 1988-02-19 | Устройство дл получени монокристаллических слоев |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1555400A1 true SU1555400A1 (ru) | 1990-04-07 |
Family
ID=21356234
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU884379865A SU1555400A1 (ru) | 1988-02-19 | 1988-02-19 | Устройство дл получени монокристаллических слоев |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1555400A1 (ru) |
-
1988
- 1988-02-19 SU SU884379865A patent/SU1555400A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Данилин B.C. Вакуумна техника в производстве интегральных схем,- М.: Энерги , 1972, с. 111. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20180138142A (ko) | 반도체 처리 장치 및 반도체 처리 장치를 미세 조정하기 위한 방법 | |
JP4108748B2 (ja) | コールドウォール気相成長法 | |
JP4048329B2 (ja) | 内部支持部材を有するプロセスチャンバ | |
KR100998011B1 (ko) | 화학기상 증착장치 | |
JPH10501099A (ja) | 化学蒸着装置及び方法 | |
KR20090005385A (ko) | 프로세스 챔버에서 기판의 표면 온도를 제어하기 위한 장치및 방법 | |
JPH04505347A (ja) | 制御された放射エネルギによる加熱及び反応ガス流分布機能を備えた反応室 | |
JPWO2011074551A1 (ja) | 真空蒸着方法及び装置 | |
CN102787299A (zh) | 一种真空镀膜装置、真空镀膜控制系统及控制方法 | |
CN101055433B (zh) | 加热处理装置 | |
SU1555400A1 (ru) | Устройство дл получени монокристаллических слоев | |
US8986454B2 (en) | Window assembly for use in substrate processing systems | |
US4848272A (en) | Apparatus for forming thin films | |
KR100468319B1 (ko) | 파릴렌 고분자막 코팅 장치 | |
US20110045182A1 (en) | Substrate processing apparatus, trap device, control method for substrate processing apparatus, and control method for trap device | |
JPH0382765A (ja) | 微粒および/または等軸粒組織のコーティングを有する物品 | |
KR20210013335A (ko) | 입자 생성 감소를 위한 가스 확산기 지지 구조 | |
CN111394698A (zh) | 一种均匀镀膜的方法 | |
KR20170019244A (ko) | 화학 기상 증착 장치 | |
US7098157B2 (en) | Method and apparatus for thermally treating disk-shaped substrates | |
JPH11180796A (ja) | 気相成長方法およびその方法を適用した気相成長装置 | |
JPS5936927A (ja) | 半導体気相成長装置 | |
JPS59207622A (ja) | 半導体薄膜気相成長装置 | |
JP2008514819A (ja) | エピタキシャル・リアクターの冷却方法およびそれによって冷却されるリアクター | |
KR102405332B1 (ko) | 수직형 화학 증착기 |