<p>Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для бесконтактного измерения линейных размеров изделий, в частности диаметра малых отверстий. Цель изобретения - повышение точности измерения за счет того, что сиг-</p></li></ul>
<p>нал регистрирующего устройства зависит от регистрации светового потока только в пределах первого дифракционного максимума. Пучок излучения от лазера 1 направляют сначала на изделия с эталонными отверстиями и регистрируют дифракционную картину на экране, расположенном так, чтобы диаметр первого дифракционного максимума был меньше диаметра входного окна регистрирующего устройства. Затем вместо экрана устанавливают регистрирующее устройство 2 и определяют зависимость сигнала регистрирующего устройства 2 от диаметра эталонных отверстий. После этого излучение лазера 1 пропускают через изделие с измеряемым отверстием 3 и определяют его диаметр по полученной зависимости. 2 ил.</p>
<p>8и .... 1458701</p>
<p>1</p>
<p>1458701</p>
<p>2</p>
<p>Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для бесконтактного измерения линейных размеров изделий (в частности, диаметра отверстия поперечного размера проволоки, волокна, щели и т.п.) в процессе производства в диапазоне от единиц до десятков микрон.</p>
<p>Цель изобретения - повышение точности измерения за счет того, что сигнал регистрирующего устройства зависит от регистрации светового потока только в пределах первого дифракционного максимума.</p>
<p>На фиг.1 изображено устройство для осуществления предлагаемого'способа, на фиг.2 - зависимость сигнала регистрирующего устройства от радиуса эталонных отверстий.</p>
<p>Устройство содержит газовый Не-Ые лазер 1 и регистрирующее устройство 2, например фотоприемник.</p>
<p>Способ осуществляют следующим, образом.</p>
<p>Излучение газового Не-Νε лазера 1 направляют на измеряемое отверстие 3, а затем - на регистрирующее устройство 2. Вместо регистрирующего устройства 2 предварительно располагают экран (не показан) так, чтобы при пропускании излучения лазера 1 через изделие с минимальным эталонным отверстием диаметр первого дифракционного максимума был меньше диаметра входного окна регистрирующего устройства 2. Затем на место экрана устанавливают регистрирующее устройство 2 и, дискретно увеличивая диаметр эталонных отверстий, определяют зависимость сигнала регистрирующего устройства 2 от диаметра эталонных отверстий. Затем пропускают излучение лазера 1 через изделие с измеряемым отверстием 3 и по сигналу с регистрирующего устройства 2 по полученной зависимости определяют диаметр измеряемого отверстия.</p>
<p>Энергия излучения, попадающего в центральное пятно дифракции Е(г<sub>0</sub>), определяют по формуле</p>
<p>=1-1*</p>
<p>Е<sub>о</sub> 1’1</p>
<p>где I и I, - функции Бесселя нулевого и первого аргумента) ' </p>
<p>г<sub>о</sub> - расстояние от центра дифракционной картины до произвольной точки/ а - радиус отверстия;<sup>1</sup></p>
<p>2Т</p>
<p>К = -- волновое число;</p>
<p>1 - расстояние от центра дифракционной картины до центра отверстия;’</p>
<p>Е - энергия излучения, проО .</p>
<p>шедшего через отверстие радиуса а(Е<sub>0</sub>а<sup>2</sup>), Е(г<sub>0</sub>) - энергия в центральном пятне дифракции.</p>
<p>При регистрации дифракционной картины минимального эталонного отверстия поверхность экрана располагают так, чтобы рабочая поверхность регистрирующего устройства 2 была больше первого дифракционного максимума. При этом с увеличением диаметра эталонных отверстий пятно первого дифракционного максимума будет уменьшаться, поэтому величина 1 будет постоянной для всего диапазона эталонных отверстий. Доля энергии, падающей в центральное пятно дифракции, растет примерно пропорционально радиусу отверстия, а вся энергия в. первом дифракционном максимуме Е(г<sub>о</sub>) растет пропорционально а <sup>3</sup>. Это происходит за счет того,· что с ростом радиуса отверстия увеличивается не только количество энергии, прошедшей через отверстие, но и осуществляется перераспределение этой энергии между дифракционными максимумами с концентрацией ее в первом дифракционном максимуме. Поскольку сигнал регистрирующего устройства 2 зависит от энергии излучения, прошедшей через измеряемое отверстие 3, то с регистрацией светового потока только в пределах первого дифракционного максимума (регистрируют энергию, пропорциональную а<sup>5</sup>), точность измерения отверстий увеличивается.</p>