SU1440636A1 - Method of electrochemical machining of metals with bipolar current - Google Patents
Method of electrochemical machining of metals with bipolar current Download PDFInfo
- Publication number
- SU1440636A1 SU1440636A1 SU874175239A SU4175239A SU1440636A1 SU 1440636 A1 SU1440636 A1 SU 1440636A1 SU 874175239 A SU874175239 A SU 874175239A SU 4175239 A SU4175239 A SU 4175239A SU 1440636 A1 SU1440636 A1 SU 1440636A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- pause
- duration
- depassivation
- pulse
- during
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H2300/00—Power source circuits or energization
- B23H2300/10—Pulsed electrochemical machining
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H2300/00—Power source circuits or energization
- B23H2300/10—Pulsed electrochemical machining
- B23H2300/12—Positive and negative pulsed electrochemical machining
Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к-маши- .ностроению, в частности к электрохимическим методам обработки бипол рным током. Целью изобретени вл - . етс снижение шероховатости обрабатываемой поверхности путем улучшени условий депассивации. За врем действи анодного импульса происходит растворение металла с одновременным возникновением пассивирующих слоев. В период катодного импульса происходит депассиваци обрабатываемой поверхности и за счет вьщелени водорода в приэлектродном слое - подще- лачивание электролита, что способ- ствует процессу депассивации. После окончани действи катодного импульса до подачи следующего анодного выдерживают паузу, за врем которой происходит дальнейша и полна депассиваци поверхности. Длительность паузы выбирают в пределах от О, 5 до ,с 2 длительности катодного импульса. S сл сThe invention relates to machine engineering, in particular, to electrochemical methods of treatment with bipolar current. The aim of the invention is -. reduction of the surface roughness by improving the depassivation conditions. During the time of action of the anode pulse, the metal dissolves with the simultaneous occurrence of passivating layers. During the period of the cathode pulse, depassivation of the surface to be treated occurs and electrolyte alkalization occurs due to the release of hydrogen in the near electrode layer, which contributes to the depassivation process. After the termination of the cathode pulse, a pause is maintained for the next anode feed, during which further and complete depassivation of the surface takes place. The duration of the pause is chosen in the range from 0 to 5, with 2 the duration of the cathode pulse. S cl c
Description
4ii lil4ii lil
О Од 00 О)About Od 00 O)
Изобретение относитс к электрохимическим методам обработки и-может быть использовано при обработке металлов и сплавов, склонных к пассивации .The invention relates to electrochemical processing methods and can be used in the processing of metals and alloys prone to passivation.
Цель изобретени - повышение производительности процесса и снижение шероховатости обрабатываемой поверхности путем депассиваций за счет использовани эффекта подщелачива- ни межэлектродного промежутка.The purpose of the invention is to increase the productivity of the process and reduce the roughness of the treated surface by depassivating by using the effect of alkalizing the interelectrode gap.
Реализуетс предлагаемый способ следующим образом.The proposed method is implemented as follows.
За врем действи анодного импульса происходит растворение металла с одновременным возникновением пассивирующих слоев. После анодного импульса поверхность подвергаетс воздействию катодного импульса и про исходит депассиваци обрабатываемой поверхности. В это же врем в.результате выделени водорода электролит в приэлектродном слое подщела чи- влетс . После окончани действи катодного импульса до подачи следующего анодного выдерживают паузу, за врем которой происходит дальнейша и полна депассивауи поверхуости.During the time of action of the anode pulse, the metal dissolves with the simultaneous appearance of passivating layers. After the anode pulse, the surface is exposed to the cathode pulse and depassivation of the treated surface occurs. At the same time, as a result of the evolution of hydrogen, the electrolyte in the electrode layer was capped. After the termination of the action of the cathode pulse, a pause is maintained until the next anode is supplied, during which time the surface is further and complete depassivei.
Благодар высоким значени м рН осуществл етс реакци и происходит химическое растворение пассивирующей пленки в течение паузы между катодным и анодным импульсами. Чем выше значение амплитуды катодного импульса и его длительность, тем большее значение рН достигаетс в приэлектродном слое и тем за меньший промежуток времени произойдет растворение пассивирующей пленки.Due to the high pH values, the reaction is carried out and the passivation film chemically dissolves during the pause between the cathode and anode pulses. The higher the amplitude of the cathode pulse and its duration, the greater the pH value is reached in the near electrode layer and the less time it takes for the passivation film to dissolve.
Благодар полному освобождению обрабатываемой поверхности от пасси- вирую цей пленки, больша часть энергии последующего анодного импульса идет на непосредственное растворение металла, что повышает производительность процесса и качество получаемой поверхности. Как следствие химического растворени пассивирующей плен ки во врем паузы, можно уменьшить энергию катодного импульса, что позволит снизить растворение катода- инструмента и повысить точность формообразовани . IDue to the complete release of the treated surface from the passivation of the film, most of the energy of the subsequent anodic impulse goes to the direct dissolution of the metal, which increases the productivity of the process and the quality of the surface. As a result of chemical dissolution of the passivating film during the pause, it is possible to reduce the energy of the cathode pulse, which will reduce the dissolution of the cathode-tool and improve the shaping accuracy. I
Поэтому величина нижнего предела длительности паузы выбираетс -из соображений, что за врем ее действи при использовании катодных им- пульгог; чначительпых амплитуд происTherefore, the value of the lower limit of the pause duration is chosen from - considerations that during its operation when using cathodic pulps; The first amplitudes are
ходит подщелачивание электролита до рН, достаточных дл растворени пассивирующих пленок. При использовании катодных импульсов небольших амплитуд длительность паузы должна быть увеличена до верхнего предела, т..е. до 2. длительностей катодного импульса.alkalization of the electrolyte to a pH sufficient to dissolve the passivating films proceeds. When using cathode pulses of small amplitudes, the duration of the pause should be increased to the upper limit, i.e. to 2. durations of the cathode pulse.
Пример 1. Проводили обработку вольфрама в растворе хлорида натри концентрации 100 г/л. Амплитуда напр жени анодных и катодных импульсов тока 25 В, длительность их по 2 мс. Пауза между катодным и анодным импульсом отсутствовала. Скорость съема составила 0,15 мг/Кл, а шероховатость 25 мкм.Example 1. Tungsten was treated in a solution of sodium chloride at a concentration of 100 g / l. The voltage amplitude of the anodic and cathodic current pulses is 25 V, the duration of which is 2 ms each. There was no pause between the cathode and anode pulses. The removal rate was 0.15 mg / Kl, and the roughness was 25 μm.
поверхности surface
2020
2525
30thirty
3535
4040
4545
5050
5555
поверхности R surface r
Пример 2. Проводили обработку вольфрама в растворе хлорида натри концентрации 100 г/л. Амплитуда напр жени анодных импульсов 50 В, катодных - 15 В. Длительность анодных и катодных импульсов составила 4 мс, длительность паузы - 2 мс.Example 2. Tungsten was treated in a solution of sodium chloride at a concentration of 100 g / l. The voltage amplitude of the anodic pulses is 50 V, the cathodic voltage is 15 V. The duration of the anodic and cathodic pulses is 4 ms, the duration of the pause is 2 ms.
Скорость съема при этом 0,18 мг/Кл, а шероховатость 15 мкм.The removal rate while 0.18 mg / Kl, and the roughness of 15 microns.
Пример 3. Проводили обработку вольфрама в растворе хлорида натри концентрации 100 г/л. Амплитуда напр жени анодных импульсов 50-В, катодных - 15 В. Длительность импульсов составила 4 мс, а длительность паузы 8 мс. Скорость съема при этом 0,205 мг/Кп, а шероховатость поверхности R 0,2 мкм.Example 3. Tungsten was treated in a solution of sodium chloride at a concentration of 100 g / l. The amplitude of the voltage of the anodic pulses is 50 V, the cathodic voltage is 15 V. The pulse duration was 4 ms, and the pause duration was 8 ms. The removal rate at the same time 0.205 mg / Kp, and the surface roughness R 0.2 microns.
Пример 4. Проводили обработку вольфрама в растворе хлорида натри концентрации 100 г/л. Амплитуда напр жени анодных импульсов 50 В, катодных - 15 В. Длительность импульсов составила 4 мс, а длительность паузы 10 мс. Скорость съема при этом 0,197 мг/Кп, а шероховатость поверхности R 0,23 мкм.Example 4. Tungsten was treated in a sodium chloride solution with a concentration of 100 g / l. The voltage amplitude of the anode pulses is 50 V, the cathode voltage is 15 V. The pulse duration was 4 ms, and the pause duration was 10 ms. The removal rate while 0.197 mg / KP, and the surface roughness of R 0.23 microns.
Формула р:зобретени Formula P: Acquisition
Способ электрохимической обработки металлов бипол рным током, при котором после катодного импульса организуют паузу, отличающий- с тем, что, с целью повышени производительности и повышени качества обработки, длительность паузы выбирают в пределах 0,5-2 длительности катодного импульса.The method of electrochemical treatment of metals with a bipolar current, in which a pause is organized after the cathode pulse, in order to increase productivity and improve the quality of processing, the duration of the pause is chosen within 0.5-2 of the cathode pulse duration.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU874175239A SU1440636A1 (en) | 1987-01-05 | 1987-01-05 | Method of electrochemical machining of metals with bipolar current |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU874175239A SU1440636A1 (en) | 1987-01-05 | 1987-01-05 | Method of electrochemical machining of metals with bipolar current |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1440636A1 true SU1440636A1 (en) | 1988-11-30 |
Family
ID=21278079
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU874175239A SU1440636A1 (en) | 1987-01-05 | 1987-01-05 | Method of electrochemical machining of metals with bipolar current |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1440636A1 (en) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5833835A (en) * | 1995-07-18 | 1998-11-10 | U.S. Philips Corporation | Method and apparatus for electrochemical machining by bipolar current pulses |
US6402931B1 (en) | 1998-05-18 | 2002-06-11 | Faraday Technology Marketing Group, Llc | Electrochemical machining using modulated reverse electric fields |
US7022216B2 (en) * | 2002-06-12 | 2006-04-04 | Faraday Technology Marketing Group, Llc | Electrolytic etching of metal layers |
US7128821B2 (en) * | 2004-01-20 | 2006-10-31 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Electropolishing method for removing particles from wafer surface |
US7153411B2 (en) * | 2003-12-30 | 2006-12-26 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Method for cleaning and polishing metallic alloys and articles cleaned or polished thereby |
MD231Z (en) * | 2009-06-04 | 2011-01-31 | Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы | Method for identifying the structure of the binding phase of pseudoalloys based on tungsten |
MD336Z (en) * | 2010-03-03 | 2011-09-30 | Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы | Process for thermochemical machining of metal articles |
MD416Z (en) * | 2011-01-18 | 2012-04-30 | Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы | Method for electrochemical activation of the surface of the tungsten-containing hard alloys for soldering (variants) |
-
1987
- 1987-01-05 SU SU874175239A patent/SU1440636A1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР №673412, кл. В 23 Н 3/00, 1979. * |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5833835A (en) * | 1995-07-18 | 1998-11-10 | U.S. Philips Corporation | Method and apparatus for electrochemical machining by bipolar current pulses |
US6402931B1 (en) | 1998-05-18 | 2002-06-11 | Faraday Technology Marketing Group, Llc | Electrochemical machining using modulated reverse electric fields |
US7022216B2 (en) * | 2002-06-12 | 2006-04-04 | Faraday Technology Marketing Group, Llc | Electrolytic etching of metal layers |
US7153411B2 (en) * | 2003-12-30 | 2006-12-26 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Method for cleaning and polishing metallic alloys and articles cleaned or polished thereby |
US7128821B2 (en) * | 2004-01-20 | 2006-10-31 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Electropolishing method for removing particles from wafer surface |
MD231Z (en) * | 2009-06-04 | 2011-01-31 | Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы | Method for identifying the structure of the binding phase of pseudoalloys based on tungsten |
MD336Z (en) * | 2010-03-03 | 2011-09-30 | Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы | Process for thermochemical machining of metal articles |
MD416Z (en) * | 2011-01-18 | 2012-04-30 | Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы | Method for electrochemical activation of the surface of the tungsten-containing hard alloys for soldering (variants) |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SU1440636A1 (en) | Method of electrochemical machining of metals with bipolar current | |
GB1522535A (en) | Method of surface treatment of a steel component | |
US3775267A (en) | Electrodeposition of rhodium | |
SU1544846A1 (en) | Method of electrolytic deposition of nickel coatings with titanium oxide inclusions | |
CA1117467A (en) | Preparation of anodes by nickel plating and activation in a nickel sulphate and thiosulphate bath | |
SU1191216A1 (en) | Electrolyte for electrochemical working | |
CN113046812A (en) | Anodic oxidation liquid for titanium alloy dental abutment system and preparation method and application thereof | |
SU1006145A1 (en) | Method of electro-erosion working of metals by pulse current | |
RU2201851C2 (en) | Method for electrochemical finishing shaping of loom healds | |
SU621520A1 (en) | Method of dimensional electrochemical working | |
JPH0699178A (en) | Electrolytical treating method for waste chemical plating liquid | |
US3668090A (en) | Method for the electrolytic removal of drawing or rolling lubricants on steel strands | |
DE2728650A1 (en) | METHOD OF PRE-TREATMENT OF STEEL SURFACES | |
SU751550A1 (en) | Method of electrochemical dimensional working | |
SU410907A1 (en) | ||
RU2258768C1 (en) | Method of extraction of gold and silver from polymetallic raw material | |
SU602611A1 (en) | Method of extracting heavy non-ferrous metals by electrolysis | |
SU425980A1 (en) | METHOD FOR TREATING POROUS NICKEL ELECTRODES | |
RU2082837C1 (en) | Method of treating surface of aluminium and aluminium alloy parts before applying galvanic coatings | |
SU387026A1 (en) | METHOD OF ELECTROCHEMICAL DEPOSITION AND METAL REFINING | |
GB1390709A (en) | Continuous electrolytic etching or forming of metal strip | |
RU2184801C2 (en) | Process of pulse electrochemical glazing of gold and its alloys | |
US3689385A (en) | Method for the surface treatment of aluminum electrodes for the electrolytic production of zinc,and electrodes thus treated | |
CN115652386A (en) | Pretreatment method for electrochemical deposition of calcium phosphate coating on medical titanium or titanium alloy | |
SU1433663A1 (en) | Method of three-dimensional electromechanical machining |