SU1432001A1 - Способ получени чистого газообразного фтора - Google Patents

Способ получени чистого газообразного фтора Download PDF

Info

Publication number
SU1432001A1
SU1432001A1 SU864145869A SU4145869A SU1432001A1 SU 1432001 A1 SU1432001 A1 SU 1432001A1 SU 864145869 A SU864145869 A SU 864145869A SU 4145869 A SU4145869 A SU 4145869A SU 1432001 A1 SU1432001 A1 SU 1432001A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
fluorine
manganese
tetrafluoride
producing pure
gaseous fluorine
Prior art date
Application number
SU864145869A
Other languages
English (en)
Inventor
Эдуард Григорьевич Раков
Станислав Васильевич Хаустов
Владимир Васильевич Остропиков
Original Assignee
Московский химико-технологический институт им.Д.И.Менделеева
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Московский химико-технологический институт им.Д.И.Менделеева filed Critical Московский химико-технологический институт им.Д.И.Менделеева
Priority to SU864145869A priority Critical patent/SU1432001A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1432001A1 publication Critical patent/SU1432001A1/ru

Links

Landscapes

  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к способам получени  чистого газообразного фтора. Изобретение позвол ет повысить чистоту получаемого фтора. Технический фтор взаимодействует с три- фторидом марганца при температуре 450-650 С. Образующийс  в результате взаимодействи  газообразный при этих услови х тетрафторид марганца конденсируют при температуре ниже 70 с. Разложение тетрафторида провод т при температуре 70-300 С. Образующийс  при этом трифторид марганца может быть вновь использован в процессе очистки фтора. 1 з.п. ф-лы. (Л

Description

Изобретение относитс  к области технологии фтора, примен емого при получении неорганических фторидов и органических фторпроизводных.
Цель изобретени  - повышение чистоты получаемого фтора.
Пример 1, В реактор, имеющий две зоны с температурой 450 и 25 С, в гор чую зону помещают навеску трифтприда марганца массой 5 г и при атмосферном давлении подают технический фтор, содержащий 85 об.% Fj, 10 об.% HF и примеси кислорода, азота, СО и др. Через 30 мин из хо- лодной зоны реактора извлекают 4,7 г тетрафторида марганца. Тетрафторид марганца вакуумиру}от при О С в течение 10 мин, после чего нагревают до . В результате получают 0,2 г фтора. Чистота получаемого фтора, измеренна  с точностью 0,01% по результатам трех анализов, составила 99,98, 99,98; 99,97%.
Пример 2.В реактор с температурами зон 500 и в гор чую зону помещают 8 г трифторида марганца и подают технический фтор того же состава, как и в npi-iMepe 1. Через 20 мин из холодной зоны реактора извлекают 7,6 г тетрафторида марганца Тетрафторид марганца вакуумируют при 0°С в течение 10 мин, после чего нагревают до 180°С. В результате полу- .чают 0,89 г фтора. Чистота фтора по результатам трех анализов составила .99,96; 99,97; 99,97%.
Пример 3. В реактьр с температурами зон 650 и в гор чую зону помещают 10 г трифторида марганца и подают технический фтор того же состава, как и в примере 1. Через 15 мин из холодной зоны реактора извлекают 9,5 г тетрафторида марганца, Тетрафторид марганца вакуумируют при в течение 10 мин, после чего нагревают до . В результате получают 1,37 г фтора. Чистота полученного фтора по данным трех анализов составила 99,95, 99,95V 99,94%.
Предлагаемый способ позвол ет повысить чистоту получаемого фтора до 99,98% по сравнению с известным (99,90%).
15

Claims (2)

1.Способ получени  чистого газообразного фтора,включающий взаимодействие технического фтора с фторидами металлов при нагревании с последующим разложением образовавшихс  выс- щих фторидов при нагревании, о т - ли чающийс  тем, что, с целью повышени  чистоты газообразного фтора, в качестве фторида металла используют трифторид марганца, образующийс  Тетрафторид конденсируют при температуре ниже , а разложение ведут при ВО-ЗОО С.
2.Способ по П.1, о т л и ч а ю- щ и и с   тем, что взаимодействие провод т при 450-.650 С.
SU864145869A 1986-11-12 1986-11-12 Способ получени чистого газообразного фтора SU1432001A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU864145869A SU1432001A1 (ru) 1986-11-12 1986-11-12 Способ получени чистого газообразного фтора

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU864145869A SU1432001A1 (ru) 1986-11-12 1986-11-12 Способ получени чистого газообразного фтора

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1432001A1 true SU1432001A1 (ru) 1988-10-23

Family

ID=21267051

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU864145869A SU1432001A1 (ru) 1986-11-12 1986-11-12 Способ получени чистого газообразного фтора

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1432001A1 (ru)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004056700A1 (fr) * 2002-12-20 2004-07-08 Zakrytoye Aktsionernoye Obschestvo 'astor Electronics' Procede de production de fluor
US7524480B2 (en) 2004-09-10 2009-04-28 Show A Denko K.K. Process for producing manganese fluoride
US7572428B2 (en) 2004-09-24 2009-08-11 Showa Denko K.K. Process for producing fluorine gas

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Патент CHIA № 3989808, кл. С 01 В 7/20, 1976. *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004056700A1 (fr) * 2002-12-20 2004-07-08 Zakrytoye Aktsionernoye Obschestvo 'astor Electronics' Procede de production de fluor
US7524480B2 (en) 2004-09-10 2009-04-28 Show A Denko K.K. Process for producing manganese fluoride
US7572428B2 (en) 2004-09-24 2009-08-11 Showa Denko K.K. Process for producing fluorine gas
TWI385121B (zh) * 2004-09-24 2013-02-11 Showa Denko Kk Production method of fluorine gas

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3616648B2 (ja) 高純度の弗化水素を製造する方法
US4032621A (en) Preparation of hydrogen fluoride with low levels of arsenic, iron and sulfite
Schack et al. Chlorine monofluoride. Reactions with sulfur oxides
US4083941A (en) Purification of anhydrous hydrogen fluoride
US4515762A (en) Process for processing waste gases resulting during the production of silicon
US3467493A (en) Method for removal of impurities in rare gases
SU1432001A1 (ru) Способ получени чистого газообразного фтора
EP0370480B1 (en) Process for the production of high purity zirconium tetrafluoride and other fluorides
SU1519762A1 (ru) Способ получени смеси хлористоводородной и фтористоводородной кислот из отход щих газов
Paulik et al. Investigation on the thermal behaviour of Mg (NO 3) 2· 6H 2 O I. The decomposition behaviour
US3053637A (en) Production of pure phosphorus
Pastor et al. Crystal growth of alkaline earth fluorides in a reactive atmosphere. Part II
US3996029A (en) Purification of gases containing hydrogen fluoride impurity
US3084025A (en) Process for preparing chlorodi-fluoromaine
US2999736A (en) High purity silicon
US4125596A (en) Method of producing sulphuric acid
US3047366A (en) Production of pure arsenic and phosphorus
JP3043741B1 (ja) 高純度リン酸の製造方法
US3341293A (en) Preparation of fluoro compounds
US4528080A (en) Photochemical method for the separation of mixtures of xenon and krypton
US3109711A (en) Method of preparing difluorodiazine
GB1263505A (en) Process for the production of substantially impurity-free high percent hydrofluoric acid
JP3529479B2 (ja) 弗素樹脂の精製方法及び装置
US3092459A (en) Process for preparing nitronium hexafluorophosphate and nitryl fluoride
Ingle et al. Silicon Purification Process