SU1227606A1 - Method of cleaning glass surface - Google Patents
Method of cleaning glass surface Download PDFInfo
- Publication number
- SU1227606A1 SU1227606A1 SU833631579A SU3631579A SU1227606A1 SU 1227606 A1 SU1227606 A1 SU 1227606A1 SU 833631579 A SU833631579 A SU 833631579A SU 3631579 A SU3631579 A SU 3631579A SU 1227606 A1 SU1227606 A1 SU 1227606A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- glass
- cleaning
- glass surface
- sodium
- potassium
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0075—Cleaning of glass
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
Изобретение откоситс к технологии подготовки поверхности стекл нных пластин и подложек дл процессов вакуумного нанесени пленок и может быть использовано в производстве приборов электронной техники, таких как вакуумные люминесцентные индикаторы, жидкогсристаплические индикаторы, фотошаблоны , ипи других изделий, например зеркалThe invention advances to the technology of preparing the surface of glass plates and substrates for vacuum film deposition processes and can be used in the manufacture of electronic devices, such as vacuum luminescent indicators, liquid crystal indicators, photo masks, or other products, such as mirrors.
Целью изобретени вл етс повыЕие ние годных изделий«The aim of the invention is the enhancement of suitable products
Исходна поверхность стекла перед очисткой карактеризуетс Нсшичием на ней различного рода частиц с размерами 0,1-1,0 мкм, которые по химической природе вл ютс , главн-ым образом , продуктами взаимодействи компонент сте сп нной матрицы с адсорбированными из атмосферы газами типа COgJ НjO и дрв При отмьшке в водном растворе с ПАВ частицы и загр зн ющие пленки с поверхности удал ютс и вы вл етс поверхность стекла с рыхльт рельефом разрушенного сло . Дальнейша обработка пластин в актив ной трав 1л,ей среде приводит к растворению разрушенного сло и образованию бесструктурной поверхности стекл нной матри;цы.The initial surface of the glass before cleaning is characterized by the use of various types of particles with sizes of 0.1-1.0 µm on it, which by chemical nature are mainly the products of interaction of the components of the matrix of a matrix with COgJ НjO adsorbed from the atmosphere and drv. When you remove a surfactant in an aqueous solution with particles and contaminating films from the surface, the glass surface with a loose relief of the destroyed layer is revealed. Further processing of the plates in the active grass of 1 liter, to its medium leads to the dissolution of the destroyed layer and the formation of the structureless surface of the glass matrix;
Кроме того, показателем качества очистки вл етс элементный состав поверхностр.In addition, an indicator of the quality of cleaning is the elemental composition of the surface.
При обработгсе в растворах силикатов щелочных ;у ета-ллов за счет равновесных условий протекани : -реакц ли растворени .н близости химической природы растворител и матрицы на стекле осаждаетс тонкий с:юй двуоки сн кремни 3 к оторьзй пасс1-1вирует по- зерхностЬр снижа ее адсорбционную активноетье.When processed in alkali silicate solutions, in ethells, due to the equilibrium flow conditions: -dissolution or dissociation of the proximity of the chemical nature of the solvent and the matrix, thin c is deposited on the glass to remove pass1-1 surface that reduces it adsorption active.
По этой причине нар ду со значительно меньшей скоростью растворени в щелочко -силикатном растворе н происход т растравливани г;ефектов поверхности стеклаFor this reason, along with a significantly lower rate of dissolution in the alkali-silicate solution, etching of the glass surface
7.акш4 обра омр щелочно-силикатна обработка позвол ет избежать сепек- тивного травлени поверхностных дефектов попдожек и5 следовательно3 7.Ax4 Omr Alkali-silicate treatment allows to avoid the sepa- tive etching of surface defects of popdoozhki and 5 therefore 3
7о ()Ь27o () b2
;1,1 ;11анить ее микроморфологию, эффек- тинно очищает поверхность от загр зн ющих элементов и одновременно пассивирует ее и, наконец, полностью удал ет разруи.енный слой и продукты Т идролиза стекла.; 1,1; 11anit its micromorphology, effectively cleans the surface of contaminating elements and at the same time passivates it and, finally, completely removes the damaged layer and the products T and the glass is removed.
OO
ОABOUT
Пример 1 , По;щожки изготовл лись из плоского оконного стекла производства Лисичанского завода следующего состава,%: SiO 72; Al,0j 2; .., 0,2; CaO 6,6; 4; 13,7; КО 1,5, Очистку осуществл ли на полуавтомате химической очистки и сушки стекл нных пластин. Операцию отмьюки в водном растворе ПАВ (моющее средство Прогресс) с концентрацией О ,,5% провод т при 80 С. Суп су подложек провод т центрифугированием при 180°С 5 мин.Example 1, For; Al, 0j 2; .., 0,2; CaO 6.6; four; 13.7; KO 1.5, Cleaning was carried out on a semi-automatic chemical cleaning and drying glass plates. The operation of otmyuki in an aqueous solution of surfactants (detergent Progress) with a concentration of O ,, 5% is carried out at 80 C. The su soup of the substrates is carried out by centrifugation at 180 ° C for 5 minutes.
Критерием качества очистки служит процент выхода годных подложек В, определ емый как В (В, В) 100%, г д.е В, - выход годных плат непосредственно после очистки, оцениваемый оптическигм способом в косом освещении по наличию на поверхности п тен или растравленных дефектов; , В выход годных плат по адгезии пленок, напыл емых в вакууме на установке типа УВН73-П2.The quality criterion of cleaning is the percentage of yield of substrates B, defined as B (B, B) 100%, d e e B, is the yield of cards immediately after cleaning, measured by the optical method in oblique lighting by the presence of spot or etched on the surface defects; , In the output of suitable boards for the adhesion of films deposited in vacuum on an installation of the type UVH73-P2.
Изобретение по сн етс на конкретных примерах, которые приведены н таблице.The invention is illustrated by specific examples, which are listed in the table.
Таким образом, предложенньш способ позвол ет увеличить процент выхода годньж изделий за счет уменьшени брака по качеству адгезии ва- хЗ умпонапыленных пленок V-A , а также параметрического брака, св занного с качеством металлизации; удешевить процесс очистки стекл нных подложек за счет использовани менее дорогосто щих и дефицитных реактивов; существенно уменьшить энергоемкость процесса га счет исключени операции термообработки подложек .Thus, the proposed method allows an increase in the percentage of the yield of suitable products by reducing the defect in the quality of adhesion of wa-S of deposited V-A films, as well as the parametric defect associated with the quality of metallization; cheapening the process of cleaning glass substrates by using less expensive and scarce reagents; to substantially reduce the energy intensity of the process by eliminating the operation of heat treatment of the substrates.
Эк О1 омический эффект составит 2 5 8 fuHH , руб в год ,Ek O1 ohmic effect will be 2 5 8 fuHH, rubles per year,
Согласно прототипу Раствор жидкого стекла в воде: According to the prototype A solution of liquid glass in water:
калиевого, рН 14potassium, pH 14
натриевого, рН 14sodium, pH 14
калиевого, рН 12potassium, pH 12
натриевого, рН 2sodium pH 2
калиевого, рН 10potassium, pH 10
натриевого, рН 10sodium, pH 10
Смешанный раствор калиевого и натриевого 1(идкого стекла в воде с соотношением компонентов :A mixed solution of potassium and sodium 1 (liquid glass in water with a ratio of components:
же (калиевое) ЖС (натриевое): Н jO 1 :1 : I , рН 14the same (potassium) JS (sodium): H jO 1: 1: I, pH 14
же (калиевое): ЖС (натриевое):same (potassium): ls (sodium):
Н 0 1 :1 : 2, рН 1 2H 0 1: 1: 2, pH 1 2
же (калиевое): ЖС (натриевое):same (potassium): ls (sodium):
- 1 :1 :2,5, рН Ц) - 1: 1: 2.5, pH C)
Редактор Н.ГорватEditor N.Gorvat
Составитель О.Самохина Техред И.ВересCompiled by O. Samokhina Tehred I. Veres
Заказ 2259/25Тираж 457ПодписноеOrder 2259/25 Circulation 457 Subscription
ВНИИ11И Государственного комитета СССРVNII11I State Committee of the USSR
по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушска наб., д.4/5for inventions and discoveries 113035, Moscow, Zh-35, Raushsk nab., 4/5
Производственно-полиграфическое предпри тие, г.Ужгород, ул.Проектна , 4Production and printing company, Uzhgorod, Projecto st., 4
0,6 0,870.6 0.87
0,83 0,92 0,83 0,92 0,80 0,870.83 0.92 0.83 0.92 0.80 0.87
0,94 0,98 0,94 0,98 0,91 0,950.94 0.98 0.94 0.98 0.91 0.95
5252
78 90 78 90 73 8378 90 78 90 73 83
80 0,90 0,98 9080 0.90 0.98 90
80 0,91 0,98 9080 0.91 0.98 90
80 0,85 0,95 8180 0.85 0.95 81
Корректор Г.РешетникProofreader G. Reshetnik
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU833631579A SU1227606A1 (en) | 1983-08-02 | 1983-08-02 | Method of cleaning glass surface |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU833631579A SU1227606A1 (en) | 1983-08-02 | 1983-08-02 | Method of cleaning glass surface |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1227606A1 true SU1227606A1 (en) | 1986-04-30 |
Family
ID=21077904
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU833631579A SU1227606A1 (en) | 1983-08-02 | 1983-08-02 | Method of cleaning glass surface |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1227606A1 (en) |
-
1983
- 1983-08-02 SU SU833631579A patent/SU1227606A1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
За вка JP № 50-130973, кл. 21 В 32, опублик. 1975. За вка JP № 52-144020, кл. 21 В 33, опублик. 1977. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3920429B2 (en) | Method and apparatus for cleaning phase shift photomask | |
JP3409849B2 (en) | Manufacturing equipment for cleaning liquid for cleaning electronic components | |
KR100279911B1 (en) | Washing Solution of Semiconductor Substrate and Washing Method Using the Same | |
JP4484980B2 (en) | Photomask cleaning method, cleaning apparatus, and photomask cleaning liquid | |
CN101248514A (en) | Silicon surface preparation | |
JP3296405B2 (en) | Cleaning method and cleaning device for electronic component members | |
EP1084510A1 (en) | Post-etching alkaline treatment process | |
SU1227606A1 (en) | Method of cleaning glass surface | |
JP3332323B2 (en) | Cleaning method and cleaning device for electronic component members | |
JPH03136329A (en) | Cleaning method for silicon substrate surface | |
KR101799282B1 (en) | Cleaning composite of semiconductor wafer and display panel and manufacturing method thereof | |
JPH1129795A (en) | Cleaning water for electronic material, its preparation, and cleaning of electronic material | |
US3793035A (en) | Method of developing opaquely coated sensitized matrix with periodate containing solution | |
JPH04101418A (en) | Method of increasing lifetime of si wafer | |
JP4205106B2 (en) | Method and apparatus for cleaning phase shift photomask | |
JP2001096241A (en) | Washing liquid and washing method of precision substrate | |
JPH07206474A (en) | Treatment of transparent glass substrate | |
KR950005626B1 (en) | Aluminum film removal method of braun tube | |
JPH11186207A (en) | Cleaning water for electronic material | |
KR100228372B1 (en) | Wafer cleaning apparatus | |
SU1033467A1 (en) | Method for cleaning glass supports | |
JPS6314038B2 (en) | ||
RU2079930C1 (en) | Method of removal of scale, oxides, rust from metal surfaces of parts | |
SU1306402A1 (en) | Method of regeneration of masks blanks | |
JPS6395627A (en) | Chemicals washing apparatus |