SU1193459A1

SU1193459A1 - Method of determining parameters of dielectric film

Info

Publication number: SU1193459A1
Application number: SU843728190A
Authority: SU
Inventors: Юрий Сергеевич Кулешов; Николай Васильевич Юрин; Светлана Юрьевна Софронова
Original assignee: Ленинградский Институт Авиационного Приборостроения
Priority date: 1984-04-17
Filing date: 1984-04-17
Publication date: 1985-11-23

Abstract

СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПАРАМЕТРОВ ДЮЛЕКТРИЧЕСКОЙ ПЛЕНКИ, заключающийс в том, что пленку освещают излучением,пол ризьванным в плоскости , перпендикул рной плоскости падени , последовательно измен угол падени , регистрируют поток отраженного излучени , определ ют угол Брюстера, по которому вычисл ют показатель преломлени пленки, и определ ют толщину пленки, Отличающийс тем, что, с целью повьппени точности и производительности измерений, периодически измен ют длину волны излучени , осве щающего пленку, угол Брюстера фиксируют по достижении минимальной амплитуды изменений потока, отраженного излучени , вызванных 1зменени ми длины волны излучени , определ ют углы падени , соответствукщие двум соседним интерференционным минимумам коэффициента отражени дл средней длины волны излучени , а толщи (Л ну пленки рассчитывают по известной с зависимости.A METHOD FOR DETERMINING THE PARAMETERS OF THE DULECTRIC FILM, which consists in illuminating the film with radiation polarized in a plane perpendicular to the incidence plane, sequentially changing the angle of incidence, recording the flux of reflected radiation, determining the Brewster angle, which is used to calculate the film refractive index, film thickness, characterized in that, in order to improve the accuracy and performance of the measurements, the wavelength of the radiation that illuminates the film is periodically changed; the Brewster angle is fixed on reaching the minimum flow amplitude changes of the reflected radiation, caused 1zmeneni E radiation wavelength determined angles of incidence, sootvetstvukschie two adjacent interference minimum reflectivity for the average radiation wavelength, and the thickness (film A well is calculated according to a known function.

Description

;о со 4about co 4

СПSP

со I Изобретение относитс к измерительной технике и может быть исполь зовано дл измерени показател преломлени и толщины пленочных покрытий на диэлектрических подложках . Цель изобретени - повышение точности и производительности измерений . Способ определени параметров диэлектрической пленки, заключаетс в том, что освещают пленку излучением , пол ризованным в плоскости, перпендикул рной плоскости падени , с периодически измен ющейс во времени длиной волны, последовательно измен угол падени , регистрируют поток отраженного излучени , определ ют угол Брюстера fg, фиксиру его по достижению минимальной ампли туды изменений потока отраженного излучени , вызванных измеиени ми 59 длины волны излучени , и углы , Ч . падени , соответствующие двум соседним интерференционным минимумам коэффициента отражени дл средней длины волны Д.- излучени и вычисл ют показатель h преломлени пленки по формуле , а толщину d пленки - по формуле 2(ri -sin2l : - -Vni-sin fT Фиксаци угла Брюстера по минимальной амплитуде изменений потока отраженного излучени позвол ет уменьпшть вли ние неоднородностей пленки на результат измерений и тем самым повысить точность измерени . Определение толщины пленки по значени м углов, соответствующих минимумам коэффициента отражени , также позвол ет повысить точность измерений , одновременно при этом сокращаетс врем контрол .I The invention relates to a measurement technique and can be used to measure the refractive index and thickness of film coatings on dielectric substrates. The purpose of the invention is to improve the accuracy and performance of measurements. The method of determining the parameters of the dielectric film consists in illuminating the film with radiation polarized in a plane perpendicular to the plane of incidence, periodically changing in time with the wavelength, sequentially changing the angle of incidence, recording the flow of reflected radiation, determining the Brewster angle fg, fixing it upon reaching the minimum amplitude of changes in the flux of reflected radiation caused by variations of the radiation wavelength 59, and angles, H. drops corresponding to two adjacent interference minima of the reflection coefficient for the average wavelength D. — radiation and calculate the refractive index h of the film using the formula, and the film thickness d using the formula 2 (ri-sin2l: -Vni-sin fT Fixing the Brewster angle by the minimum amplitude of changes in the reflected radiation flux allows the influence of film irregularities on the measurement result to be reduced and thereby increase the measurement accuracy. Determining the film thickness from the angles corresponding to the minima of the reflection coefficient also allows for improved measurement accuracy while at the same time reducing the monitoring time.

Claims

THE METHOD FOR DETERMINING THE DIELECTRIC FILM PARAMETERS, which consists in illuminating the film with radiation polarized in a plane perpendicular to the plane of incidence, successively changing the angle of incidence, recording the reflected radiation flux, determining the Brewster angle from which the refractive index of the film is calculated, and determining the film thickness , characterized in that, in order to improve the accuracy and performance of measurements, periodically change the wavelength of the radiation illuminating the film, the Brewster angle is fixed to tizhenii minimum flow amplitude changes of the reflected radiation caused by changes in the emission wavelength is determined angles of incidence corresponding to two adjacent minima of the interference of the reflection coefficient for the average © her wavelength, and film thickness calculated from the known relationship.

SU „1193459 f