SU1168019A1 - Method of determining mobility of charge carriers - Google Patents
Method of determining mobility of charge carriers Download PDFInfo
- Publication number
- SU1168019A1 SU1168019A1 SU833630187A SU3630187A SU1168019A1 SU 1168019 A1 SU1168019 A1 SU 1168019A1 SU 833630187 A SU833630187 A SU 833630187A SU 3630187 A SU3630187 A SU 3630187A SU 1168019 A1 SU1168019 A1 SU 1168019A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- electrodes
- charge carriers
- determining
- charge
- mobility
- Prior art date
Links
Abstract
СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПОДВИЖНОСТИ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА, основанный на создании двух электродов на исследуемом образце, один из которых вл етс коллекторным, а второй инжектирующим , приложении к электродам импульсов напр жени , регистрации переходного инжекционного тока и определении дрейфовой подвижности носителей зар да расчетным путем, отличающийс тем, что, с Целью повышени точности, оперативности и обеспечени неразрушающего контрол , второй электрод выполн ют в виде двухслойной структуры, состо щей из диэлектрического сло толщиной от О,1 до 1 мкм, покрытого пленкой металла , к электродам прикладывают пог сто нное напр жение, имеющее величину и пол рность, обеспечивающую создание сло обогащенного носител ми зар да у границы раздела полупроводник - диэлектрик.A METHOD FOR DETERMINING MOBILE CARRIER MEDIA, based on creating two electrodes on a test sample, one of which is collector, and the second injecting, applying voltage pulses to electrodes, registering the transient injection current and determining the drift mobility of charge carriers by calculation, differing from that, in order to increase accuracy, speed and non-destructive testing, the second electrode is made in the form of a two-layer structure consisting of a dielectric layer Thickness of O, 1 to 1 mm, coated with a metal film, is applied to the electrodes rm hundred direct voltage having a magnitude and polarity, providing enriched layer creating charge carriers in the semiconductor boundary - dielectric.
Description
1 1 Изобретение относитс к полупроводниковой технике и может быть использовано дл контрол параметров полупроводников, в частности дл определени дрейфовой подвижности носителей зар да. Цель изобретени - повьпиение точности , оперативности и обеспечение неразрушающего контрол . На фиг. 1 приведена схема реализа ции способа; на фиг. 2 показаны зонные диаграммы структуры полупроводник - диэлектрик дл случа Vj. 0; на фиг. 3 - дл случа V- 0; на фиг. 4 показана зависимость переходного тока I(t) от времени t. На фиг. 1 прин ты следующие обозначени : генератор 1 импульсов, выходное сопротивление 2 генератора импульсов, источник 3 посто нного смещени , металлический электрод 4. диэлектрик 5,(полупроводник 6, колл кторный электрод 7, входное сопротивление 8 измерительного прибора. На фиг. 2 и 3 прин ты обозначени напр жение смещени V , дно зоны про водимости Е, дно валентной зоны Еу , уровень Ферми F. Пример. Определ ли дрейфовую подвижность электронов в структуре Me - SiOj - Si на основе высокоомного кремни с удельным сопротивлением р 2-Ю Ом «см. Толщина SiOj, состав л ла 0,2 мкм. Толщина кремниевой 19.1 подложки 210 мкм, площадь структуры 310 СМ. Напр жение смещени V варьировалось от 3 до 6 В. На фиг. 4 приведена экспериментально полученна зависимость переходного тока от времени при подаче импульсов напр жени . В начале переходного процесса имеетс острый пик, обусловленный емкостным возмущением. Второй пик соответствует времени прихода переднего фронта пакета носител зар да к коллекторному электроду (26 не). Дальнейший медленный спад обусловлен истощением зар да в обогащенном слое кремни . Дрейфовую подвижность носителей зар да вычисл ли по формуле где а - коэффициент, равный 1 дл токов, не ограниченных пространственным зар дом, и а %0,78 дл токов, ограниченных пространственным зар дом; - врем прихода переднего фронта пакета носителей зар да к коллекторному электроду} L - толщина полупроводника. При а 0,78 вычисленное значение дрейфовой подвижности носителей зар да равно /Kj 1320 .1 1 The invention relates to semiconductor technology and can be used to control the parameters of semiconductors, in particular to determine the drift mobility of charge carriers. The purpose of the invention is to show accuracy, efficiency and non-destructive testing. FIG. 1 shows a scheme for implementing the method; in fig. 2 shows the band diagrams of the semiconductor – dielectric structure for the case of Vj. 0; in fig. 3 - for the case of V-0; in fig. 4 shows the dependence of the transient current I (t) on time t. FIG. 1 the following notation is accepted: pulse generator 1, output impulse generator 2, constant bias source 3, metal electrode 4. dielectric 5, (semiconductor 6, callor electrode 7, measuring device input resistance 8. FIGS. 2 and 3 the notation indicates the bias voltage V, the bottom of the conduction band E, the bottom of the valence band Ey, Fermi level F. Example: The drift mobility of electrons in the structure Me - SiOj - Si was determined on the basis of high-resistance silicon with a specific resistance p 2 -10 Ω cm. Thickness SiOj, composition l la 0.2 µm. Silicon 19.1 substrate thickness 210 µm, structure area 310 cm. Displacement voltage V ranged from 3 to 6 V. Figure 4 shows the experimentally obtained dependence of the transient current on time when voltage pulses are applied. There is a sharp peak due to capacitive perturbation in the transient process. The second peak corresponds to the arrival time of the leading edge of the charge carrier packet to the collector electrode (26 n). A further slow decline is due to the depletion of the charge in the enriched layer of silicon. The drift mobility of charge carriers was calculated by the formula where a is a coefficient equal to 1 for currents not limited by spatial charge, and a% 0.78 for currents limited by spatial charge; - arrival time of the leading edge of the charge carrier packet to the collector electrode} L - thickness of the semiconductor. At а 0.78, the calculated value of the drift mobility of charge carriers is equal to / Kj 1320.
7/Tf/f7//7/7 / Tf / f7 // 7 /
EVEV
////
//////////////////
0(1)0 (1)
FF
vv
0.80.8
0.60.6
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU833630187A SU1168019A1 (en) | 1983-08-02 | 1983-08-02 | Method of determining mobility of charge carriers |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU833630187A SU1168019A1 (en) | 1983-08-02 | 1983-08-02 | Method of determining mobility of charge carriers |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1168019A1 true SU1168019A1 (en) | 1986-05-07 |
Family
ID=21077421
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU833630187A SU1168019A1 (en) | 1983-08-02 | 1983-08-02 | Method of determining mobility of charge carriers |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1168019A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2679463C1 (en) * | 2018-01-12 | 2019-02-11 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский национальный исследовательский государственный университет имени Н.Г. Чернышевского" | Charge carriers in the semiconductor structure mobility non-destructive measuring method |
-
1983
- 1983-08-02 SU SU833630187A patent/SU1168019A1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Кучме Е.В. Методы исследовани эффекта Холла. М.: Советское радио, 1974, с. 9. Spear W.E. Drift - mobility techniques for the study of electrical tremspost properties in insulating solids. - J. of Noncryst. Sol. 1, 1969, 127. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2679463C1 (en) * | 2018-01-12 | 2019-02-11 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский национальный исследовательский государственный университет имени Н.Г. Чернышевского" | Charge carriers in the semiconductor structure mobility non-destructive measuring method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Grinberg et al. | Space-charge-limited current in a film | |
Pollack et al. | Electron tunneling through asymmetric films of thermally grown Al2O3 | |
Buck et al. | Field effect potentiometric sensors | |
SU1168019A1 (en) | Method of determining mobility of charge carriers | |
KR900005618B1 (en) | Fet electrode | |
Kerr | Effect of temperature and bias on glass-silicon interfaces | |
Weinberg et al. | Measurement of the steady− state potential difference across a thin insulating film in a corona discharge | |
Snell et al. | The lifetime of injected carriers in amorphous silicon p–n junctions | |
JPS5775438A (en) | Semiconductor element | |
Neudeck et al. | A simplified model for the static characteristics of amorphous silicon thin-film transistors | |
Mahan et al. | The field effect in amorphous chalcogenides: An investigation of localized states and electronic transport | |
Guesne et al. | Electronic surface properties of CdSe single crystals under vacuum or oxygen | |
Kirby et al. | Surface-field measurements in low-mobility semiconductors | |
SU1345823A1 (en) | Method of monitoring charge stability of dielectric-semiconductor structures with surface-adjoining p-n-junction | |
McGill et al. | Electrical interface barriers | |
Toyabe et al. | A two-dimensional numerical model of amorphous silicon thin-film transistors | |
JPH05183175A (en) | Optical switching element | |
SU1293609A1 (en) | Method of measuring moisture content of gaseous atmosphere | |
JPS5737872A (en) | Semiconductor device | |
SU1127488A1 (en) | Method of determining density distribution of state of amorphous semiconductors in forbidden sone | |
Chalmers | XXXVIII. The single potential difference at a cadmium electrode | |
Kazarinov et al. | Switching device based on the quantum Hall effect | |
Norton | Electrical Characteristics of Molecular Films | |
Street | Transient Photoconductivity Studies of a-Si: H Interfaces | |
Schrimpf et al. | A precise scaling length for depleted regions |