SU115462A1 - Method of making electrical resistances - Google Patents

Method of making electrical resistances

Info

Publication number
SU115462A1
SU115462A1 SU592464A SU592464A SU115462A1 SU 115462 A1 SU115462 A1 SU 115462A1 SU 592464 A SU592464 A SU 592464A SU 592464 A SU592464 A SU 592464A SU 115462 A1 SU115462 A1 SU 115462A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
electrical resistances
resistance
making electrical
temperature
hgse
Prior art date
Application number
SU592464A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
О.Д. Елпатьевская
О.Д. Елпатьевска
Original Assignee
О.Д. Елпатьевская
О.Д. Елпатьевска
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by О.Д. Елпатьевская, О.Д. Елпатьевска filed Critical О.Д. Елпатьевская
Priority to SU592464A priority Critical patent/SU115462A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU115462A1 publication Critical patent/SU115462A1/en

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

У наилзчших по температурным характеристикам пленочных сопротивлений , представл ющих- собой тонкий слой провод щего материала , нанесенного на изолирующую фарфоровую трубку, область с минимальным температурным коэффициентом сопротивлени  лежит в сравнительно узком температурнол интервале 20-50° Taivi, где температурный коэффициент мен ет свой знак. В области повышенных температур (50-100°) этот коэффициент составл ет 0,0002 , а при температурах ниже нул  мен ет знак и измен етс  по абсолютной величине до 0,0006 .For the most temperature-resistant film resistances, which are a thin layer of conductive material deposited on an insulating porcelain tube, the region with the minimum temperature coefficient of resistance lies in a relatively narrow temperature range of 20-50 ° Taivi, where the temperature coefficient changes its sign. At elevated temperatures (50-100 °), this coefficient is 0.0002, and at temperatures below zero, changes sign and changes in absolute value to 0.0006.

С целью расширени  диапазона стабильнЬсти температурного коэффициента сопротивлепи , предлагаетс  в качестве материала сопротивлени  применить селенид ртути (HgSe) и наносить его в виде тонкой пленки на нагретое изолирующее основание методом термического испарени  с последующим отжигом в вакууме.In order to extend the stability range of the temperature coefficient of resistance, it is proposed to use mercury selenide (HgSe) as a resistance material and apply it in the form of a thin film on a heated insulating base by thermal evaporation followed by annealing in vacuum.

Применение селенидов дл  изготовлени  электрических сопротивлений само по себе известпо. ОднакоThe use of selenides for the manufacture of electrical resistances is known per se. but

литые образцы селенида ртути имеют температурный коэффициент сопротивлени  а 0,009 град, т. е., примерно вдвое больщий, чем у обычных металлов.Cast samples of mercury selenide have a temperature coefficient of resistance of 0.009 degrees, i.e., approximately twice as large as that of conventional metals.

Изменение сопротивлени  с температурой в литых образцах HgSe обусловлено изменением подвижности носителей электрического тока с температурой.The change in resistance with temperature in the HgSe cast samples is due to the change in the mobility of the current carriers with temperature.

В пленках HgSe с мелкодисперсной кристаллической структурой путем подбора режима их изготовлени - нанесени  в виде тонкой пленки на нагретое (до 120-140°) изолирующее основание методом термического испарени  с последующим отжигом в вакууме - можно создать такие услови , что подвижность электронов будет остаатьс  посто нной в интервале темератур от 190 до 50-100°. Постонство подвижности обеспечивает ысокую стабильность сопротивлений из пленок HgSe в значительном интервале температур.In HgSe films with a finely dispersed crystal structure by selecting the mode of their manufacture — deposition in the form of a thin film on a heated (up to 120–140 °) insulating base by thermal evaporation followed by annealing in vacuum — it is possible to create such conditions that the electron mobility will remain constant in the temperature range from 190 to 50-100 °. The postonality of mobility provides a high stability of resistance from HgSe films in a considerable temperature range.

Предмет изобретени Subject invention

Способ изготовлени  электричеческих сопротивлений на основе се№ 115462- 2 -A method of manufacturing electrical resistances based on se # 115462-2 -

ленидов, отличающийс  тем,ют селенид ртути, который нанос тlendides, characterized in that they are mercury selenide

что, с целью расширени  диапазонав виде тонкой пленки на нагретоеthat, in order to expand the range in the form of a thin film on the heated

стабильности темпе атурного коэф-изолирующее основание методомstability tempo aturic coefficient-insulating base method

фициента сопротивлени , в качестветермического испарени  с последуюматериала сопротивлени  примен -щим отжигом в вакууме.of the resistance, as a thermal evaporation with the subsequent material of the resistance by applying annealing in vacuum.

SU592464A 1958-02-17 1958-02-17 Method of making electrical resistances SU115462A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU592464A SU115462A1 (en) 1958-02-17 1958-02-17 Method of making electrical resistances

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU592464A SU115462A1 (en) 1958-02-17 1958-02-17 Method of making electrical resistances

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU853845477A Addition SU1233957A2 (en) 1985-01-14 1985-01-14 Ultrasonic device for applying adhesion compound
SU884403454A Addition SU1613189A2 (en) 1988-02-25 1988-02-25 Ultrasonic device for applying adhesive compounds

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU115462A1 true SU115462A1 (en) 1958-11-30

Family

ID=48387755

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU592464A SU115462A1 (en) 1958-02-17 1958-02-17 Method of making electrical resistances

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU115462A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Gildart et al. Some semiconducting properties of bismuth trisulfide
Rumbo Transport properties of very pure copper and silver below 8.5 K
US2952725A (en) Thermocouple
US2953484A (en) Cobalt-chromium electrical resistance device
SU115462A1 (en) Method of making electrical resistances
US3472074A (en) Maximum thermometer for surface temperature measurements
JPS5499576A (en) Thin-film transistor and its manufacture
US3520051A (en) Stabilization of thin film transistors
US1998334A (en) Electric radiation indicator
US3186229A (en) Temperature-sensitive device
US2847329A (en) Sensitization of photoconductive cells by the use of indium vapor
JPH06258149A (en) Thin-film thermocouple element
US2749596A (en) Method of making titanium dioxide rectifiers
Ali et al. Temperature effect on the electrical properties of lead selenide thin films
JPS5772368A (en) Fusing type semiconductor device and its manufacture
US1950750A (en) Resistance device
JPS5522956A (en) Heat sensitive head
JPS5642366A (en) Manufacture of semiconductor device
GB659291A (en) Improvements in or relating to apparatus for investigating the water content of a gas
US1859344A (en) Resistance device
Dieterich The influence of annealing on the characteristics of light-sensitive selenium
KR100475590B1 (en) Thin-film temperature sensor using chalcogenide glass semiconductor and method for manufacturing the same
SU607117A1 (en) Temperature sensor
JPH08219901A (en) Adjusting method for temperature coefficient of resistance of resistor element for temperature measurement
US3434206A (en) Method of manufacturing a laminated foil resistor