SE542904C2 - Method and arrangement for distance control between a sample and an aperture - Google Patents

Method and arrangement for distance control between a sample and an aperture

Info

Publication number
SE542904C2
SE542904C2 SE1851528A SE1851528A SE542904C2 SE 542904 C2 SE542904 C2 SE 542904C2 SE 1851528 A SE1851528 A SE 1851528A SE 1851528 A SE1851528 A SE 1851528A SE 542904 C2 SE542904 C2 SE 542904C2
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
sample
aperture
pressure
low
distance
Prior art date
Application number
SE1851528A
Other languages
English (en)
Other versions
SE1851528A1 (sv
Inventor
Anders Nilsson
Peter Amann
Original Assignee
Scienta Omicron Ab
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Scienta Omicron Ab filed Critical Scienta Omicron Ab
Priority to SE1851528A priority Critical patent/SE542904C2/sv
Priority to EP19821307.6A priority patent/EP3891774A1/en
Priority to PCT/SE2019/051242 priority patent/WO2020117124A1/en
Priority to JP2021531777A priority patent/JP7280359B2/ja
Publication of SE1851528A1 publication Critical patent/SE1851528A1/sv
Publication of SE542904C2 publication Critical patent/SE542904C2/sv

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/227—Measuring photoelectric effect, e.g. photoelectron emission microscopy [PEEM]
    • G01N23/2273—Measuring photoelectron spectrum, e.g. electron spectroscopy for chemical analysis [ESCA] or X-ray photoelectron spectroscopy [XPS]
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/227—Measuring photoelectric effect, e.g. photoelectron emission microscopy [PEEM]
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/05—Electron or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy or mass
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/285—Emission microscopes, e.g. field-emission microscopes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/085—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission photo-electron spectrum [ESCA, XPS]
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/34—Accessories, mechanical or electrical features sensing means for gap between source and detector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/18—Vacuum control means
    • H01J2237/182—Obtaining or maintaining desired pressure
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/18—Vacuum control means
    • H01J2237/188—Differential pressure
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/202—Movement
    • H01J2237/20221—Translation
    • H01J2237/20235—Z movement or adjustment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/26—Electron or ion microscopes
    • H01J2237/2602—Details
    • H01J2237/2605—Details operating at elevated pressures, e.g. atmosphere
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/26—Electron or ion microscopes
    • H01J2237/285—Emission microscopes
    • H01J2237/2855—Photo-emission

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Claims (13)

1. Förfarande för att styra ett avstånd (d) mellan en öppning (3) i en vägg (6) som separerarett provområde (2) från en lågtryckskammare (4) som vakuumpumpas, och en provyta(Ss), vänd mot öppningen (3) av ett prov (1) placerat i provområdet (2) på avståndet (d)från öppningen (3), varvid avståndet (d) mellan provytan (Ss) och öppningen (3) kan styras med ettpositioneringssystem (Ps),kännetecknat av att förfarandet innefattar stegen att: a) tillhandahålla (101) åtminstone ett gasutlopp (5), anslutet till engasförsörjningsanordning (20), anordnad att rikta gas in i en volym mellan väggen (6) ochprovytan (Ss), b) tillhandahålla ett provtryck (102) genom att tillföra gasförsörjningsanordningen(20) ett konstant gasflöde från det åtminstone ena gasutloppet (5), c) mäta (103), med förutbestämda tidsintervall, trycket inuti lågtryckskammaren(4), och d) styra (104), i en sluten slinga, positioneringssystemet (Ps) för att hålla trycketinuti lågtryckskammaren (4) konstant, och därigenom hålla avståndet (d) mellan öppningen (3) och provytan (Ss) konstant. Förfa rande enligt patentkrav 1, varvid ett tryck mellan 104 och 102 bar, företrädesvis lägre än 2x10'3 bar, upprätthålls i lågtryckskammaren (4). Förfarande enligt patentkrav 1, varvid provtrycket tillhandahålls att vara högre än 1 mbar, företrädesvis högre än 10 mbar. Förfarande enligt något av föregående patentkrav, varvid lågtryckskammaren (4) är enelektrostatisk lins för fokusering av elektroner.Förfarande enligt något av föregående patentkrav, varvid provet (1) och väggen (6) är anordnade i en kammare (11), som vakuumpumpas för att åstadkomma en tryckgradient 2 utåt från volymen mellan öppningen (3) och provytan (Ss). Datorprogram för att styra ett avstånd (d) mellan en öppning (3) i en vägg (6), somseparerar ett provområde (2) från en lågtryckskammare (4) som vakuumpumpas och enprovyta (Ss) vänd mot öppningen (3) av ett prov (1) placerat i provområdet (2) påavståndet (d) från öppningen (3), varvid avståndet (d) mellan provytan (Ss) och öppningen (3) kan styras med ettpositioneringssystem (Ps), varvid åtminstone ett gasutlopp (5), anslutet till en gasförsörjningsanordning (20),är anordnat att leda gas in i en volym mellan väggen (6) och provytan (Ss), nämnda datorprogram innefattar instruktioner som när de körs av åtminstone enprocessor styr den åtminstone ena processorn att utföra stegen att: a) styra gasförsörjningsanordningen (20) för att tillföra ett konstant gasflöde tillnämnda åtminstone ett gasutlopp (5), b) mottaga, med förutbestämda tidsintervall, tryckvärden för trycket inutilågtryckskammaren (4), och c) styra, i en sluten slinga, positioneringssystemet för att hålla tryckvärdenakonstanta, och därmed hålla avståndet (d) mellan öppningen (3) och provytan (Ss) konstant. Datorläsba rt lagringsmedium som innehåller ett datorprogram för att styra ett avstånd (d) mellan en öppning (3) och en provyta (Ss) enligt patentkrav 6. Anordning (100) för uppsamling av laddade partiklar från en provyta (Ss) hos ett prov (1),innefattande: provhållare (10) för att hålla provet (1) i ett provområde (2), lågtryckskammare (4), innefattande en öppning (3) i en vägg (6), som separerarprovområdet (2) från lågtryckskammaren (4), varvid öppningen (3) är anordnad att varavänd mot provytan (Ss) hos provet (1), när det placeras i provhållaren, för att samla uppladdade partiklar från provytan (Ss) i lågtryckskammaren (4), positioneringssystem (Ps) för att kontrollera positionen för provhållaren (10) och därmed avståndet (d) mellan provytan (Ss) och öppningen (3), och 10. 11. 1
2. 3 medel för vakuumpumpning av lågtryckskammaren (4),kännetecknad av att anordningen (100) innefattar: åtminstone ett gasutlopp (5) anordnat att rikta gas in i en volym mellan väggen (6)och provytan (Ss), gasförsörjningsanordning (20) för att tillhandahålla ett konstant gasflöde från detåtminstone ena gasutloppet (5) för att tillföra ett provtryck, medel (G1) för att mäta trycket inuti lågtryckskammaren (4), och en styrenhet (CU) ansluten till medlet (G1) för att mäta trycket och tillpositioneringsorganet och vilken är anordnad att mäta trycket, med hjälp av medlet (G1)för att mäta trycket, med förutbestämda tidsintervall och för att styra positioneringensystem (Ps) i en sluten slingkontroll för att hålla trycket inuti lågtryckskammaren (4) konstant och därmed hålla avståndet (d) mellan öppningen (3) och provytan (Ss) konstant. Anordning (100) enligt patentkrav 8, varvid lågtryckskammaren (4) är ett elektrostatisktlinssystem innefattande en första ände (16), vid vilken öppningen (3) är anordnad, och enandra ände (37), varvid linssystemet (13) är anordnat att bilda en partikelstråle av laddadepartiklar, emitterade från provytan (Ss) och som kommer in genom öppningen (3) vid denförsta änden (16), och för att transportera de laddade partiklarna till den andra änden(37). Anordning (100) enligt patentkrav 8, varvid medlet för vakuumpumpning ilågtryckskammaren (4) är anordnat att upprätthålla ett tryck mellan 104 och 102 bar, företrädesvis mellan 5x10'4 till 2x10'3 bar, i lågtryckskammaren (4). Anordning (100) enligt patentkrav 8, 9 eller 10, varvid anordningen för att tillhandahållaett konstant gasflöde är anordnad att tillhandahålla ett provtryck vilket är högre än 1 mbar, företrädesvis högre än 10 mbar. Anordning (100) enligt något av patentkraven 8-11, innefattande:mätområde (3) för bestämning av åtminstone en parameter relaterad till laddadepartiklar emitterade från en provyta (Ss) hos ett partikelemitterande prov (1), varvid nämnda mätområde (3) innefattar en ingång (8) som tillåter åtminstone en del av nämnda 1
3. 4partiklar att komma in i mätområdet (3), varvid den andra änden (37) är anordnad vid ingången till mätområdet (3). Anordning enligt något av patentkraven 8-12, innefattande en kammare (11) varvid provet(1) och väggen (6) är anordnade i kammaren (11), och där kammaren (11) vakuumpumpasför att tillhandahålla en tryckgradient utåt från volymen mellan öppningen (3) och provytan (Ss).
SE1851528A 2018-12-07 2018-12-07 Method and arrangement for distance control between a sample and an aperture SE542904C2 (sv)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE1851528A SE542904C2 (sv) 2018-12-07 2018-12-07 Method and arrangement for distance control between a sample and an aperture
EP19821307.6A EP3891774A1 (en) 2018-12-07 2019-12-06 Method and arrangement for distance control between a sample and an aperture
PCT/SE2019/051242 WO2020117124A1 (en) 2018-12-07 2019-12-06 Method and arrangement for distance control between a sample and an aperture
JP2021531777A JP7280359B2 (ja) 2018-12-07 2019-12-06 サンプルとアパーチャとの間の距離制御のための方法および装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE1851528A SE542904C2 (sv) 2018-12-07 2018-12-07 Method and arrangement for distance control between a sample and an aperture

Publications (2)

Publication Number Publication Date
SE1851528A1 SE1851528A1 (sv) 2020-06-08
SE542904C2 true SE542904C2 (sv) 2020-09-15

Family

ID=68916519

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE1851528A SE542904C2 (sv) 2018-12-07 2018-12-07 Method and arrangement for distance control between a sample and an aperture

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP3891774A1 (sv)
JP (1) JP7280359B2 (sv)
SE (1) SE542904C2 (sv)
WO (1) WO2020117124A1 (sv)

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4528451A (en) * 1982-10-19 1985-07-09 Varian Associates, Inc. Gap control system for localized vacuum processing
US4560880A (en) * 1983-09-19 1985-12-24 Varian Associates, Inc. Apparatus for positioning a workpiece in a localized vacuum processing system
US5103102A (en) * 1989-02-24 1992-04-07 Micrion Corporation Localized vacuum apparatus and method
JP3148353B2 (ja) 1991-05-30 2001-03-19 ケーエルエー・インストルメンツ・コーポレーション 電子ビーム検査方法とそのシステム
US6300630B1 (en) * 1999-12-09 2001-10-09 Etec Systems, Inc. Annular differential seal for electron beam apparatus using isolation valve and additional differential pumping
JP3360115B2 (ja) 2000-03-17 2002-12-24 東京大学長 回折面アパチャー透過エネルギー制御方式の角度分解型電子分光器及びこの分光器を用いた分析方法
GB201317026D0 (en) 2013-09-25 2013-11-06 Oxford Instr Nanotechnology Tools Ltd X-ray analysis in air
JP6097863B2 (ja) 2016-05-16 2017-03-15 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置、試料画像取得方法、およびプログラム記録媒体

Also Published As

Publication number Publication date
EP3891774A1 (en) 2021-10-13
WO2020117124A1 (en) 2020-06-11
SE1851528A1 (sv) 2020-06-08
JP2022512113A (ja) 2022-02-02
JP7280359B2 (ja) 2023-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101752164B1 (ko) 하전 입자선 장치 및 시료 화상 취득 방법
JP2012503856A (ja) 真空化されたデバイス、および、走査型電子顕微鏡
SE542904C2 (sv) Method and arrangement for distance control between a sample and an aperture
US10937626B2 (en) Holder and charged particle beam apparatus
TWI700480B (zh) 將含顆粒樣品引入分析儀器之系統及使用方法
US11942316B2 (en) Aperture device and analyzer arrangement
WO2020117125A1 (en) Method for determining a pressure at a sample surface
WO2015045477A1 (ja) 試料ホールダ及び荷電粒子装置
US10141157B2 (en) Method for adjusting height of sample and observation system
CN113848382A (zh) 基于电场力激励的频率特性测试方法及光镊系统
SE542902C2 (sv) Aperture device and analyser arrangement for photo- electron spectroscopy at ambient pressures
De Jonge et al. Resolution in liquid cell experiments
Rosenberger et al. Ejector-based nanoparticle sampling from pressures down to 20 mbar
JP2021507459A (ja) 運動量分解型光電子分光装置および運動量分解型光電子分光法
WO2023145015A1 (ja) 検査装置および膜質検査方法
KR101360891B1 (ko) 입자복합특성측정장치
CN117457467B (zh) 等离子体腔室阵列成像监测装置及空间不均匀性校准方法
KR20240105432A (ko) 검사 장치 및 막질 검사 방법
JP2023088885A (ja) 熱モデリングに基づく熱ドリフト補正
Strnad Optical scanning profilometer
TW202316082A (zh) 分析樣品中銑削的孔的側壁以確定埋層的厚度
Pease The determination of electron microscope magnification
CN114488263A (zh) 确定带电粒子束的能量宽度的方法
WO2024015515A2 (en) System and method for spatially resolved optical emission spectroscopic monitoring of semiconductor processes
Picoquant's et al. Oxford Instruments Launches Revolutionary EDS Detector: X-Max Extreme Oxford Instruments has launched X-Max Extreme, a Silicon Drift Detector for ultrahigh resolution FEG and FIB-SEM applications.