SE536628C2 - Metod, substrat och arrangemang för en partikeluppsamling och en efterföljande partikelrengöring - Google Patents

Abstract

Föreliggande uppfinning omfattar en metod, ett substrat och ett arrangemang för attskapa en partikeluppsamling och/eller en partikelrengöring av ett lösa eller lossgjor-da partiklar uppbärande ytavsnitt (2c, 40a, 2c'). För detta ändamål utnyttjas ett, för en partikelupptagtning anpassat, substrat (40),uppvisande en, för lösa och/eller lossgjorda partiklars (”P2”, ”p2”), via en elektrosta-tisk fältstyka (70), uppsamlande anpassad, duk (41) och ett, med duken tätt sam-verkande och understödjande, bärarskikt (42), där såväl duken (41) som bärarskik-tet (42) är anpassade luftgenomsläppliga för en rensning av inom duken (41) an-samlade lösa partiklar och/eller lossgjorda partiklar (”P2”, "p2”). Ett utnyttjande av alstrade luftströmmar, skall, under ett övertryck och/eller ett un-dertryck, få passera genom substratet (40), under ett avjoniserat tillstånd, i en rikt-ning genom bärarskiktet (42) och duken (41). Nämnda duk (41) är anpassad att låtabilda en, för i vart fall ett uppsamlande av mikro- och nanopartiklar tjänande och un-der en elektrostatisk fältstyrka (70) aktiverbar, filterenhet (43). För en rensning avinom duken (41) ansamlade partiklar (”P2", ”p2”) skall nämnda bärarskikt (42) förnämnda duk (41) vara anpassat att uppvisa genomgående öppningar (44) för ettfördelande av luftpassager genom duken (41) som luftströmmar, under ett under-tryck och/eller ett övertryck, och att nämnda duk (41) skall uppvisa en mikrofiber-och/eller nanofiberstruktur. Det föreslås att Figur 2 bilägges sammandraget vid publiceringen.

Description

20 25 30 536 628 Sålunda omfattar föreliggande uppfinning en metod, som för att med hjälp av ett substrat och en joniseringselektrod, inom ett första processteg, låta via ett elektro- statiskt fält och fältstyrka samla upp lösa och/eller lossgjorda partiklar från ett eller flera partiklarna uppbärande ytavsnitt, och, inom ett andra processteg, låta rensa substratet från ansamlade partiklar, under ett utnyttjande av en avjoniseringselek- trod där substratet innefattar en mikrofiber- och/eller nanofiberduk och där subst- ratet skall uppvisa elektriskt isolerande och gas- och luftgenomsläppliga egenska- per.

Sålunda hänför sig föreliggande uppfinning till ett, för en partikeluppsamling och en efterföljande partikelrengöring anpassat, substrat, uppvisande en, för lösa och/eller lossgjorda partiklars uppsamlande anpassbar, duk och ett, för dukens stödjande av- sett och till dukens ena sida fast fäst, bärarskikt, där såväl duken som bärarskiktet skall vara gemensamt anpassade och i vart fall för en rensande och/eller en rengö- rande effekt vara gas- eller luftgenomsläppningsbara.

Här anvisas å ena sidan för en rensning och/eller rengöring av till substratets och dess duk adderade och ansamlade lösa eller lossgjorda partiklar, en, under ett ö- vertryck alstrad, luftström och därav bildade koncentrerade luftstrålar, som skall va- ra anpassade att under detta övertryck för rensningen få passera genom substratet, i en riktning genom bärarskiktet och duken. Å andra sidan skall, för samma ändamål, en, under ett undertryck alstrad, luftström och därav bildade koncentrerade luftstrålar, vara anpassad att under detta under- tryck få passera genom substratet, i en riktning genom bärarskiktet och duken.

Substratet kommer här att bestå av nämnda duk och ett till duken, mot ett bärarskikt vettbara ytan, fast fäst, duken uppbärande, duken understödjande, bärarskikt, båda tilldelade sinsemellan anpassade luftgenomsläppliga egenskaper. 10 15 20 25 30 536 628 Uppfinningen omfattar även ett arrangemang, anpassbart för en uppsamling av lö- sa och lossgjorda partiklar och en rengöring av en, nämnda lösa och/eller lossgjor- da partiklar uppbärande, yta eller ett ytavsnitt, illustrerat här som tillordnat en skiva eller liknande, och där nämnda lösa och/eller lossgjorda partiklar i vart fall skall kun- na uppvisa så klena kornstorlekar att de till en övervägande del kommer att kunna falla inom ett mikroområde (106 m) och/eller till och med fallande inom ett nanoom- råde (10-9 m).

Det är således enligt uppfinningen föreslaget en filterenhet, som skall uppvisa en extremt effektiv partikelupptagande förmåga och skall således kunna lämna den för rengöringen anpassade yta ”totalt” partikelfri.

Dessa lösa och/eller lossgjorda partiklar kan, som ett första exempel, vara bildade genom en slipande bearbetning av ett plant eller till en annan form bildat behandlat ytavsnitt, varvid ett luftgenomsläppligt substrat, kan vara anpassat rörlig relativt nämnda ytavsnitt, och med ett undertryck verksamt på dukens ena sida, för att ge- nom alstrade luftströmmar och/eller luftstrålar, som en första process, låta suga upp och upptaga (och temporärt lagra) nämnda lösa och/eller lossgjorda partiklar från nämnda behandlade ytavsnitt, tillordnad nämnda skiva, mot och genom duken så att duken kan ansamla och temporärt lagra dessa partiklar.

Inom uppfinningens ram faller även åtgärder för att, som en andra process, låta ren- göra och rensa duken från däri ansamlade och temporärt lagrade partiklar, genom att alstra och utnyttja luftströmmar och/eller luftstrålar riktade genom duken.

UPPFINNINGENS BAKGRUND OCH TIDIGARE KÄND TEKNIK Metoder, arrangemang och konstruktioner relaterade till ovan angivet tekniskt områ- de och med en funktion och en beskaffenhet som uppfyller ställda krav är tidigare kända i ett flertal olika utföringsformer, dels vad gäller själva metoden, dels vad gäl- ler själva substratet och dels vad gäller det anvisade arrangemanget. 10 15 20 25 30 536 628 Metoden Till teknikens tidigare ståndpunkt hör en metod för att med hjälp av ett substrat, inom ett första processteg, låta samla upp och temporärt lagra lösa och/eller lossgjorda partiklar från partiklarna uppbärande ytavsnitt och, inom ett andra processteg, låta rensa substratet från däri ansamlade partiklar.

För detta ändamål har det föreslagits ett utnyttjande av ett substrat, innefattande en mikrofiber- eller nanofiberduk, av känd beskaffenhet.

En sådan duk kan rensas från ansamlade partiklar genom att skölja den i vatten.

En här antydd partikeluppsamling kommer att ske genom en fysisk upptagning och lagring inom duken.

Substratet.

Såsom ett exempel på teknikens bakgrund och det tekniska område till vilket uppfin- ningen hänför sig kan nämnas, när det gäller ett substrat, olika former av partikel- upptagbara och partikelrensbara dukar, och där dukar av hithörande slag visserli- gen har visat sig kunna, fuktade med vatten och/eller lösningsmedel, fysiskt uppta- ga enskilda relativt grova partiklar, men givetvis även i stor utsträckning medföljan- de klenare partiklar.

Sålunda är det känt att som en torkduk låta samla upp partiklar, med olika kornstor- lekar, från ett, en skivas eller ett golvs övre, ytavsnitt och där torkduken som regel skall vara torr eller i vart fall endast något fuktad.

Det är ävenledes känt att låta preparera ett plastmaterial för att bilda dessa dukar, i form av s.k. mikrofiberdukar, så att dessa dukar kan ansamla inte bara mindre par- tiklar utan även större partiklar och därvid tjäna som en torkduk, och där en rengö- ring av en partikelbemängd torkduk, av hithörande slag, från ansamlade partiklar skall kunna ske genom en sköljning i vatten eller annat fluidum. 10 15 20 25 30 536 628 Arrangemanget.

När det gäller arrangemang av hithörande slag kan nämnas att det är tidigare känt att låta skapa olika förutsättningar för en slipning och/eller en rengöring av stora ytor eller ytavsnitt, relaterade till olika skivor.

Arrangemang av hithörande slag har då, såsom ett exempel, visat sig få en tillämp- ning inom träbearbetningsindustrin, där skivor och liknande trämaterial, under och efter en slipningsprocess, måste noggrant rengöras från, inom slipningsprocessen alstrade lösa och/eller lossgjorda partiklar, före en behandling inom ett efterföljande slutligt processteg, här exemplifierat såsom en tunn lack- eller färgapplicering.

Mera speciellt är det här känt ett arrangemang för en rengöring av ett eller flera, för lösa och/eller lossgjorda partiklar uppbärande, ytavsnitt och där nämnda lösa partik- lar i vart fall kan uppvisa en kornstorlek, som till en del kommer att falla inom mikro- området och/eller till en del kommer att falla inom nanoområdet, som kan bli bildade och formade genom den slipande bearbetningen av nämnda ytavsnitt och nämnda material.

Det är även känt olika arrangemangsrelaterade metoder för att inom arrangemanget kunna skapa ett avlägsnande av upptagna partiklar.

Det är för detta ändamål känt att låta utnyttja ett gas- eller luftgenomsläppligt subst- rat, bl.a. i form av en duk, som kan vara rörligt anpassat relativt nämnda ytavsnitt och med ett undertryck verkande på dukens ena sida, för att genom alstrade luft- strömmar låta suga upp nämnda lösa och lossgjorda partiklar från nämnda ytavsnitt vettbara mot duken och fastnade och lagrade däri.

Beaktas de med föreliggande uppfinning förknippade egenheterna kan nämnas att det är känt olika former för och olika användningar för kända s.k. mikrofiberdukar, i ett rengörande syfte. 10 15 20 25 30 536 628 En sådan, till föreliggande uppfinning anpassad, mikrofiberduk skall bestå av tätt or- ienterade långsmala trådar, under ett utnyttjande av en utnyttjad en, av en sprut- ningsprocess framställd, polyamid/polyesterplast, som för bildande av ytterst tunna trådar, skall var och en bli föremål för en klyvning, för att genom en utförd klyvnings- process låta bilda parallellt orienterade tunna ”strån” och där en sådan klyvning har visat sig kunna ske på olika sätt.

Föreliggande uppfinning anvisar mera speciellt att dessa utnyttjade tunna plaststrån bör formas som med ett trekantigt tvärsnitt, med de enskilda tunna trådarna till dela- de en tjocklek av 0,10 till 0,15 (denier). (Jämför www.kron.se).

Betraktas de med föreliggande uppfinning förknippade egenheterna och på vilka fö- religgande uppfinning bygger kan nämnas att det är tidigare känt olika slag av joni- seringselektroder och/eller avjoniseringselektroder, för bildandet av ett elektrosta- tiskt fält för bildandet av en fältstyrka.

Jonisering är här en process som kommer att förvandla neutrala atomer eller mole- kyler till joner. En första joniseringsgrad bygger på den energi som krävs för att ta bort en elektron från en neutral atom.

Uppfinningen kommer även att låta utnyttja förekomsten av elektriska fält, där den elektriska fältstyrkan (Nevvton/Coulomb N / C) kommer till en användning och där energitätheten blir proportionell mot kvadraten på fältstyrkan. Beloppets storlek defi- nieras som kvoten mellan kraftens belopp och laddningens storlek.

När det nu gäller de med föreliggande uppfinning förknippade egenheterna kan som känd teknik även nämnas att på sidan 3 i den svenska patentpublikationen 531 307, raderna 30 och följande anges att för vissa pulverformiga och/eller till pulver malda och formade smörjmedel dessa uppvisar, för den smörjande tillämpningen, dels go- da elektrostatiska egenskaper, dels specifika uppladdningsegenskaper och dels er- bjuder en specifik kapacitet eller kapacitans. 10 15 20 25 30 536 628 Det är ävenledes i och för sig tidigare känt olika metoder för att kunna fastställa ett värde för ett ämnas elektrostatiska egenskaper, dess uppladdningsegenskaper och/ eller ämnets specifika kapacitet eller kapacitans.

Sålunda är det tidigare känt att låta mäta en ”avklingningstid” för och en kapacitans för ett material och härvidlag hänvisas till publikationen ”Journal of Electrostatics” 54 (3/4), Mars 2002, sidan 223, med artikeln ”New Approaches for Electrostatic Tes- ting of Materials”.

REDOGÖRELSE FÖR FÖRELIGGANDE UPPFINNING TEKNISKT PROBLEM Beaktas den omständigheten att de tekniska överväganden som en fackman inom hithörande tekniskt område måste göra för att kunna erbjuda en lösning på ett eller flera ställda tekniska problem är dels initialt en nödvändig insikt i de åtgärder och/el- ler den sekvens av åtgärder som skall vidtagas dels ett nödvändigt val av det eller de medel som erfordras så torde, med anledning härav, de efterföljande tekniska problemen vara relevanta vid frambringandet av föreliggande uppfinningsföremål.

Under beaktande av en enligt föreliggande uppfinning anvisad, metod torde det få ses som ett tekniskt problem att kunna inse betydelsen utav, fördelarna förknippade med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som kommer att krävas för att vid en metod, enligt patentkravets 1 ingress, anvisa att till en duk låta applicera, till dess partikelfrånvända yta, ett, elektriskt isolerande, gas- och luftgenomsläppliga egenskaper uppvisande, bärarskikt, för att bida ett substrat.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen utav, fördelarna förknip- pade med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som kommer att krävas för att låta nämnda substrat, med duk och bärarskikt tätt samordnade med varandra få, för sin partikelrengörande funktion utefter ett ytavsnitt, tilldelas ett elektrostatiskt fält med en varierbar, såsom avklingande, elektrostatisk fältstyrka i förhållande till partiklarna, för att en partiklarna, av fältstyrkans varierande värde beroende, attra- 10 15 20 25 30 536 628 herande kraft skall få verka på nämnda lösa och/eller lossgjorda partiklar för en ansamling inom duken.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen utav, fördelarna förknip- pade med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som kommer att krävas för att låta rensa duken från ansamlade partiklar, genom att låta avjonisera substra- tet och partiklarna och därefter låta applicera, genom bärarskiktet riktade, genomgå- ende luftströmmar och genom, av bärarskiktet bildade och inom duken uppträdan- de, luftstrålar låta renblåsa duken från ansamlade och avjoniserade partiklar.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen utav, fördelarna förknip- pade med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som kommer att krävas för att låta nämnda ansamlade och avjoniserade partiklar, med en blandning av oli- ka kornstorlekar, få avlägsnas från duken genom att låta koncentrerade luftström- mar, med ett undertryck, få verka mot den duken tillordnade partikelupptagande y- tan, med formade koncentrerade luftstrålar, under det att luftstrålar, under ett över- tryck, får verka genom bärarskiktet och duken.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen utav, fördelarna förknip- pade med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som kommer att krävas för att tillåta det valda elektrostatiska fältet med sin varierbara, såsom avklingande, fältstyrka få verka på partiklarna fördelade utefter ytavsnitten i beroende av ett valt litet avstånd mellan dukens partikelupptagande yta och de lösa partiklar uppbäran- de ytavsnitten.

Under beaktande av teknikens tidigare ståndpunkt, såsom den beskrivits ovan med en inriktning mot ett substrat, torde det därför få ses som ett tekniskt problem att kunna inse betydelsen utav, fördelarna förknippade med och/eller de tekniska åtgär- der och överväganden som kommer att krävas för att vid ett, för en partikelansam- ling och en partikelrengöring anpassat, substrat, uppvisande en, för lösa och/eller lossgjorda partiklars uppsamlande anpassad, duk och ett, med duken samverkande och stödjande, bärarskikt, där såväl duken som bärarskiktet skall vara gas- eller lO 15 20 25 30 536 628 luftgenomsläppliga för en rengöring av och en rensning av inom duken ansamlade lösa och/eller Iossgjorda partiklar, efter det att substratet och partiklarna avjonise- rats, under ett utnyttjande av alstrade luftstrålar, som under ett övertryck, får pas- sera genom substratet, i en riktning genom bärarskiktet och duken och/eller under ett utnyttjande av alstrade luftstrålar, som, under ett undertryck, får passera genom substratet, i en riktning genom bärarskiktet och duken och därvid låta anvisa att nämnda duk skall vara anpassbar för att kunna bilda en, för i vart fall ett uppsamlan- de av enskilda mikro- och nanopartiklar tjänande, filterenhet.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen av, fördelarna förknippa- de med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som krävs för att i vart fall låta nämnda bärarskikt få vara anpassat att uppvisa förhållandevis stora genomgå- ende öppningar, för att via dessa låta fördela luftpassager genom duken som luftst- rålar, under ett undertryck eller ett övertryck, och att nämnda duk skall uppvisa en mikro- eller nanofiberstruktur, och där denna struktur skall utsättas för ett elektrosta- tiskt tillstånd och sakta varierande och avklingande fältstyrka, för en uppsamling av nämnda lösa och/eller Iossgjorda partiklar och där denna uppsamling av partiklar i vart fall skall ske under det att hela substratet och partiklarna föreligger i ett tillord- nat elektrostatiskt avtagande fält eller fältstyrka.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen utav, fördelarna förknip- pade med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som kommer att krävas för att låta en, de bärarskiktet tilldelade, öppningarnas totala, ytandel få vara anpas- sad att, till i vart fall 50%, låta täcka dukens totala ytandel, och att såväl duken som bärarskiktet skall vara formade från samma eller skilda, dock elektriskt isolerande, material och att såväl duken som bärarskiktet, för sin ytavsnitten rengörande effekt, skall vara under ett elektrostatiskt fält och tilldelat en väl anpassad elektrostatiskt avklingande fältstyrka, relaterad till nämnda substrat, för att med varierbara attra- herande krafter låta påverka de enskilda partiklarna fördelade utefter ytavsnitten. 10 15 20 25 30 536 628 Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen av, fördelarna förknippa- de med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som krävs för att låta nämnda duk få vara strukturerad med en, mot en luftpassages riktning och i en par- tiklarnas förflyttningsriktning av den alstrade joniseringen betraktat, ökande täthet, med en för mikropartiklar och/eller nanopartiklar anpassad ökande täthet i en rikt- ning mot dukens bärarskiktstillvända område, betecknat bottenområde och/eller bot- tensträckning.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen av, fördelarna förknippa- de med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som krävs för att välja du- kens material mjukt och i första hand låta tilldelas en tjocklek av förslagsvis 2 till 10mm, såsom 1 till 5mm, och att bärarskiktets material skall väljas relativt böjstyvt, i förhållande till dukens böjstyvhet, och tilldelat en tjocklek av förslagsvis 1 till 5mm, såsom 2 till 4mm.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen av fördelarna förknippade med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som krävs för att vid ett ar- rangemang, anpassbart för ett utnyttjande av ett substrat av ovan angiven beskaff- enhet, för ett, för en rengöring av, lösa och/eller lossgjorda partiklar uppbärande, yt- avsnitt och där nämnda lösa och/eller lossgjorda partiklar, i vart fall kan uppvisa en kornstorlek som till en övervägande del kommer att falla inom mikroområdet och/el- ler inom nanoområdet, såsom bildade genom en slipande bearbetning av nämnda ytavsnitt, varvid ett luftgenomsläppligt substrat, bl.a. i form av nämnda duk och ett därtill fäst bärarskikt, kan vara anpassat rörligt relativt nämnda yta, varvid en rens- ning av inom duken ansamlade partiklar kan ske, i ett avjoniserat tillstånd, via ett undertryck, verkande längs dukens ena sida, för att genom alstrade luftstrålar låta suga upp ur inom duken ansamlade partiklar och/eller där en rensning av inom du- ken ansamlade partiklar kan ske via ett övertryck, verkande längs dukens motställ- da sida, för att genom alstrade luftstrålar låta blåsa bort inom duken ansamlade par- tiklar och där duken och dess stödjande bärarskikt är båda tilldelade sinsemellan olika dock, anpassade, luftgenomsläppliga egenskaper, och därvid låta nämnda duk 10 10 15 20 25 30 536 628 få vara anpassad att bilda en, för i vart fall under elektrostatiska förutsättningar, för uppsamlande av mikro- och nanopartiklar tjänande, filterenhet, där nämnda duk och bärarskikt för nämnda substrat skall vara anpassade att uppvisa genomgående öppningar, avsedda för att låta fördela Iuftpassager genom duken av luftströmmar och/eller luftstrålar, under ett undertryck och/eller ett övertryck, och att nämnda duk skall uppvisa en mikro- eller nanofiberstruktur för en uppsamling och en lagring av nämnda lösa och/eller lossgjorda partiklar, under ett joniserat och ett avklingande elektrostatiskt tillstånd.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen av, fördelarna förknippa- de med och/eller de tekniska överväganden som kommer att krävas för att anpassa ett minimerat avstånd under joniserande förhållanden, mellan partikelupptagande avsnitt inom duken och rensande ytavsnitt, och under joniserade förhållanden av partiklarna och duken låta anpassa detta avstånd i beroende av den beräknade par- tikelmängd som skall ansamlas och den mellan duken och avsnitten valda relativ- hastigheten.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen av, fördelarna förknippa- de med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som krävs för att låta ett arrangemang få vara anpassat att uppbära ett ändlöst substrat, som är anpassat att som ett band kontinuerligt få löpa kring fördelade brytrullar och där substratet skall vara mjuk och med en duken tilldelad tjocklek av 2 till 10mm och under det att bärarskiktet skall vara relativt böjstyvt och tilldelat en tjocklek av 1 till 5mm.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen av fördelarna förknippade med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som krävs för att låta arran- gemanget för en rengöring av, lösa och/eller lossgjorda partiklar uppbärande, ytav- snitt och där nämnda lösa och/eller lossgjorda partiklar, i vart fall kan uppvisa en kornstorlek som till en övervägande del kommer att falla inom mikroområdet och/el- ler inom nanoområdet, såsom bildade genom en slipande bearbetning av nämnda ytavsnitt, låta ett luftgenomsläppligt substrat, bl.a. i form av en duk och ett bärar- skikt, får vara anpassat rörligt relativt nämnda yta, under ett joniserat tillstånd, var- 11 10 15 20 25 30 536 628 vid ett för en rensning av inom duken ansamlade partiklar kan ske inom arrange- manget, under ett avjoniserat tillstånd, via ett undertryck, verkande på dukens ena sida, för att genom alstrade Iuftströmmar och luftstrålar låta suga upp inom duken ansamlade partiklar och/eller där ett för en rensning av i duken ansamlade partiklar kan ske, via ett övertryck, verkande på dukens motställda sida, för att genom alstra- de Iuftströmmar och luftstrålar låta blåsa bort inom duken ansamlade avjoniserade partiklar och där duken och dess stödjande bärarskikt är båda tilldelade skilda gas- eller luftgenomsläppliga egenskaper.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen av, fördelarna förknippa- de med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som krävs för att låta nämnda ändlösa substrat inom arrangemanget få vara anpassat att bilda en, för i vart fall ett uppsamlande av mikro- och nanopartiklar tjänande, filterenhet, där nämnda bärarskikt och nämnda duk skall sinsemellan vara anpassade för att upp- visa olika strukturerade genomgående öppningar, där dessa öppningars samverkan är avsedda för en fördelande luftpassage som luftstrålar genom duken, under ett undertryck eller ett övertryck, och att nämnda duk skall uppvisa en mikrofiber- eller nanofiberstruktur längs hela sin längd och sin bredd.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen av, fördelarna förknippa- de med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som krävs för att vid ett arrangemang, av hithörande slag, låta substratet få vara format som ett, av en mo- tor drivet, ändlöst band, med en rörelseriktning anpassad med- eller motriktad en rörelseriktning för den, för partikelrengöringen avsedda ytavsnitten tillordnade, ski- van och att låta nämnda ytavsnitt och/eller dess partiklar få bli föremål för en avjoni- serande funktion, innan ytavsnitten utsättes för en joniserande rengöring från par- tiklar.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen av fördelarna förknippade med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som krävs för att inom arran- 12 10 15 20 25 30 536 628 gemanget låta en för substratet gällande u-ppladdnings- eller joniseringselektrod få vara placerad omedelbart före de för ett partikelupptagande anpassade ytavsnitten.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen av fördelarna förknippade med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som krävs för att vid arrange- manget låta en eller flera av, de för det ändlösa substratets drivning anpassade, brytrullarna få vara formade och/eller reglerbart påverkade för att centrera substra- tets rörelseriktning genom arrangemanget.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen av fördelarna förknippade med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som krävs för att låta en, för partiklarna och substratet gällande, avladdningselektrod få vara orienterad intill de från lösa partiklar rengjord ytavsnitten och placerad mot rörelseriktningen för mate- rialets ytavsnitt efter arrangemanget.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen av fördelarna förknippade med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som krävs för att låta en av- Iaddningselektrod, för en avladdning av ett under en elektrostatiskt förändrat, såsom avklingande, fältstyrka laddningsbart partikelupptagande substrat, i form av ett änd- löst band, få vara placerad i transportriktningen för bandet räknat, efter de partikel- upptagande ytavsnitten och dess transportriktning.

Det ligger ett tekniskt problem i att kunna inse betydelsen av fördelarna förknippade med och/eller de tekniska åtgärder och överväganden som krävs för att låta orien- tera intill nämnda avladdningselektrod en partikel- eller dammsugande ramp, med en föregående integrerad avladdnings- eller avjoniseringselektrod.

LÖSNINGEN Föreliggande uppfinning avser att vid en metod, för att med hjälp av ett substrat, in- om ett första processteg, låta samla upp lösa och/eller lossgjorda partiklar från par- tiklarna uppbärande ytavsnitt, via ett joniserande tillstånd och en aktiverad elektro- 13 10 15 20 25 30 536 628 statiskt fältstyrka, och, inom ett andra processteg, låta rensa substratet från ansam- lade partiklar, under ett avjoniserat tillstånd och en neutral elektrostatisk förändran- de, såsom avklingande, fältstyrka, under ett utnyttjande av en substratet innefattan- de, för mikrofibrer- och/eller nanofibrer ogenomtränglig, duk och där såväl duken som dess bärarskikt skall uppvisa elektriskt isolerande och gas- och luftgenom- släppliga egenskaper.

Vid en sådan metod föreslås, i enlighet med uppfinningens anvisningar, att som nämnda substrat och dess tilldelade duk skall appliceras till dess lösa och loss- gjorda partiklar frånvända ytavsnitten ett elektriskt isolerande och gas- och luftge- nomsläppliga uppvisande bärarskikt.

Vidare föreslås att nämnda substrat, med sin duk och sitt bärarskikt, skall för sin partikelansamling, tilldelas ett avklingande elektrostatiskt fält, med en fältstyrka i re- lation till de lösa eller lossgjorda partiklarna, för att av en, av den varierbara elekt- rostatiska fältstyrkan anpassad, varierbar attraherande kraft, verkande på nämnda lösa och lossgjorda partiklar, låta samla upp nämnda attraherade lösa och lossgjor- da partiklar inom duken.

Speciellt föreslås att de sålunda av attraherade krafter uppsamlade partiklarna skall, i ett avjoniserat tillstånd, avlägsnas med hjälp av ett antal luftstrålar, bildade av ett undertryck och/eller ett övertryck.

Speciellt anvisas ett ändlöst substrat som, i transportriktningen räknat, omedelbart före en uppsamling av lösa och lossgjorda avjoniserade partiklar, skall vara jonise- rat och tilldelat en elektrostatisk avklingande fältstyrka, under det att substratet, o- medelbart efter en uppsamling och en förvaring av de lösa och/eller lossgjorda par- tiklarna inom duken, låta avjonisera duken, bärarskiktet och partiklarna, och därefter rensa duken från sålunda uppsamlade och neutraliserade partiklar.

Därutöver föreslås, enligt uppfinningens anvisningar, att den förändrade, såsom avklingande, fältstyrkan för det elektrostatiska fältet kan väljas, såsom för plana 14 10 15 20 25 30 536 628 partikeluppbärande ytavsnitt och ett plant eller i vart fall väsentligen plant och parallellt orienterat substrat avtagande mot avjoniseringselektroden.

Föreliggande uppfinning utgår därvid ifrån den inledningsvis anvisade kända tekni- ken där ett, för en partikelrengöring av ett ytavsnitt anpassat, substrat, uppvisande en, för lösa och/eller lossgjorda partiklars uppsamlande anpassad, duk och ett, med duken samverkande och stödjande, bärarskikt, där såväl duken som bärarskiktet skall vara anpassade luftgenomsläppliga för en rensning av uppsamlade lösa par- tiklar och/eller lossgjorda partiklar, under ett utnyttjande av en eller flera alstrade luftströmmar, uppdelade i ett antal koncentrerade strålar, som, under ett övertryck, får passera genom substratet, i ett avjoniserat tillstånd, i en riktning genom bärar- skiktet och duken och/eller under ett utnyttjande av en eller flera alstrade luftström- mar, under ett undertryck, får passera genom substratet, i en riktning genom bärar- skiktet och genom duken.

I enlighet med föreliggande uppfinning och i en avsikt att komplettera den kända tekniken föreslås att nämnda substrat och en däri ingående duk skall vara anpassa- de att bilda en, för i vart fall ett uppsamlande av mikro- och/eller nanopartiklar tjä- nande, filterenhet, där nämnda bärarskikt för nämnda duk skall vara anpassat att uppvisa genomgående öppningar för som luftstrålar fördelade luftpassager genom duken, under ett undertryck eller ett övertryck, och att nämnda duk skall uppvisa en mikro- eller nanofiberstruktur för en uppsamling av nämnda lösa och/eller lossgjorda partiklar och att låta denna ansamling av partiklar få ske under ett joniserat tillstånd för i vart fall substratet.

Föreliggande uppfinning avser mera speciellt, för att kunna lösa ett eller flera av de ovan angivna tekniska problemen, att låta den kända tekniken få kompletteras med att en, bärarskiktet tilldelade öppningars totala, ytandel skall vara anpassad att, till i vart fall 50%, låta täcka dukens totala yta, varvid såväl duken som bärarskiktet skall vara formade från ett liknande eller ett alternativt, elektriskt isolerande, material och att såväl duken som bärarskiktet, för sin rengörande effekt på ytavsnitten, skall vara joniserade och tilldelade en elektrostatiskt avklingande fältstyrka under det att en 15 10 15 20 25 30 536 628 rensning av uppsamlade partiklar inom duken kommer att kunna ske under ett avjoniserat tillstånd.

Vidare föreslås att duken bör vara strukturerad med en, mot en luftpassages rikt- ning betraktat och mot bärarskiktet betraktat, ökande täthet, med en för mikropar- tiklar och/eller nanopartiklar anpassad ökande täthet intill och inom dukens bärar- skiktstillordnade bottenområde och bottensträckning.

Vidare föreslås att duken skall vara mjuk och tilldelad en tjocklek av 2 till 10mm un- der det att bärarskiktet skall vara böjstyvt och tilldelat en tjocklek av 1 till 5mm.

Såsom föreslagna utföringsformer, fallande inom ramen för föreliggande uppfin- nings grundidé, anvisas därutöver en förekomst av ett arrangemang, fören ren- göring av, lösa och/eller Iossgjorda partiklar uppbärande, ytavsnitt och där nämnda lösa och/eller Iossgjorda partiklar, i vart fall kan uppvisa en kornstorlek som till en ö- vervägande del kommer att falla inom mikroområdet och/eller inom nanoområdet, såsom bildade genom en slipande bearbetning av nämnda ytavsnitt, varvid ett gas- eller luftgenomsläppligt substrat, b|.a. i form av en duk och ett bärarskikt, enligt o- van, kan vara anpassat rörligt relativt nämnda ytavsnitt, varvid en upptagning av in- om duken ansamlade partiklar, under ett utnyttjande av en elektrostatiskt minskan- de eller ökande fältstyrka, kan ske, efter en jonisering, verkande på dukens ena si- da, för att genom alstrade Iuftströmmar och vald jonisering låta suga upp och lagra inom duken ansamlade partiklar och/eller att ett för en rensning av inom duken an- samlade partiklar kan ske via en avjonisering och ett övertryck, verkande på dukens motsatta sida, för att genom alstrade Iuftströmmar och luftstrålar låta blåsa bort in- om duken ansamlade partiklar och där duken och dess understödjande bärarskikt skall båda vara tilldelade olika luftgenomsläppliga egenskaper.

Enligt uppfinningen skall nämnda duk inom arrangemanget få vara anpassad att bil- da en, för i vart fall ett uppsamlande av mikro- och nanopartiklar tjänande, filteren- het, där nämnda bärarskikt för nämnda duk skall vara anpassat att uppvisa genom- 16 10 15 20 25 30 536 628 gående öppningar för en fördelning av tillgängliga luftpassager genom duken av luftströmmar och Iuftstrålar, under ett undertryck eller ett övertryck, och att nämnda duk skall uppvisa en mikro- eller nanofiberstruktur, för en ytterst effektiv uppsamling av nämnda lösa och/eller lossgjorda partiklar, under ett joniserat och avklingande elektrostatiskt tillstånd.

Mera speciellt anvisas att en, till bärarskiktet tilldelade öppningars totala, ytandel skall vara anpassad att, till i vart fall 50%, låta täcka dukens totala yta, och att såväl duken som bärarskiktet skall vara formade från ett elektriskt isolerande material och att såväl duken som bärarskiktet, för sin rengörande effekt av partiklar utefter ytav- snitten, skall vara joniserade och tilldelade ett väl varierande elektrostatiskt fält.

Nämnda duk kan då vara strukturerad med en, mot en luftpassages riktning betrak- tat, ökande täthet, med en för mikro- och nanopartiklar anpassad ökande täthet in- om dukens bärarskiktstillvända område, betecknat bottenområde och bottensträck- ning.

Arrangemanget och dess substrat är här formade som ett, av en motor drivet, änd- löst band, med en kontinuerlig rörelseriktning med- eller motriktad en rörelseriktning för en ytavsnitten tillordnad skiva och att nämnda ytavsnitt skall vara föremål för en avjoniserande process innan en rengöring sker av ansamlade lösa partiklar.

Vidare föreslås att en för substratet gällande uppladdningselektrod skall vara place- rad, i transportriktningen för substratet räknat, före de för en partikelupptagning an- passade ytavsnitten.

En eller flera för substratets drivning inom arrangemanget anpassade brytrullar skall vara formade eller på annat sätt påverkade för att centrera det ändlösa substratets rörelseriktning. 17 10 15 20 25 30 536 628 Mera speciellt anvisas att en avladdningselektrod skall vara orienterad intill de från partiklar rengjord ytavsnitten och placerad i rörelseriktningen för materialet räknat efter arrangemanget.

Vidare anvisas att en avladdningselektrod för ett partikelupptagande substrat, i form av ett ändlöst band, skall vara placerat, i transportriktningen för bandet räknat, efter de arrangemanget tilldelade partikelupptagande ytavsnitten.

Intill elektroden förefinns en för en dammsugning och/eller partikelupptagning an- passad ramp, med en integrerad avladdningselektrod.

FÖRDELAR De fördelar som främst kan få anses vara kännetecknande för föreliggande uppfin- ning, dess metod, substrat och/eller arrangemang, och de därigenom anvisade spe- ciella signifikativa kännetecknen är att härigenom har det skapats förutsättningar för att vid en metod, ett, partikel upptagande och partiklar inneslutande, substrat samt ett arrangemang, låta anvisa, för ett partikelupptagande, uppvisandet av en, för lösa och/eller lossgjorda partiklars uppsamlande anpassad, duk och ett, med duken samverkande och understödjande, bärarskikt, båda tilldelade ett elektrostatiskt fält med en vald, gärna förändringsbar fältstyrka.

Såväl duken som bärarskiktet skall vara anpassade gas- eller luftgenomsläppliga för en rensning av inom duken uppsamlade lösa partiklar och/eller lossgjorda par- tiklar, under ett utnyttjande av en alstrad luftström eller alstrade luftstrålar, som un- der ett avjoniserat tillstånd och med hjälp av ett övertryck får passera genom subst- ratet, i en riktning genom bärarskiktet och duken och/eller under ett utnyttjande av en eller flera alstrade luftströmmar, under ett undertryck, får passera substratet, i en riktning först genom bärarskiktet och omedelbart därefter genom duken. 18 lO 15 20 25 30 536 628 Det som främst kan få anses vara kännetecknande för föreliggande uppfinning in- riktat på en metod, anges i det efterföljande patentkravets 1 kännetecknande del, ett substrat, anges i patentkravets 6 kännetecknande del, under det att ett arrange- mang, i enlighet med föreliggande uppfinning, anges i patentkravets 10 känneteck- nande del.

KORT FIGURBESKRIVNING En tidigare känd produktionsanläggning med sina visade tre processteg och ett sub- strat, i form av en för närvarande föreslagen utföringsform, uppvisande de med före- liggande uppfinning förknippade signifikativa kännetecknen, och ett arrangemang, inom vilket det föreslagna substratet kan komma till en användning, skall nu i ett exemplifierande syfte närmare åskådliggöras och beskrivas med en hänvisning till bifogad ritning, där; Figur 1 visar i en sidovy den kända produktionsanläggningen med sina tre seriellt orienterade processteg, Figur 2 visar i en schematisk sidovy ett partikelupptagande och partikelrensande arrangemang, där partikelupptagningen bygger på en jonisering av ett elektriskt isolerande ändlöst substrat, anordnat att passera omedelbart över, ett med lösa partiklar bemängt, ytavsnitt, för att inom en substratet innehållande duk låta an- samla, under en elektrostatiskt varierande fältstyrka, lösa och/eller lossgjorda en- skilda partiklar, l Figur 3 låter illustrera, i en sektion längs substratet, nämnda duk och ett med duken fast samverkande bärarskikt, där duken är visad orienterad omedelbart över de med lösa partiklar bemängda ytavsnitten, Figur 4 visar schematiskt ett elektriskt, som en styrutrustning anpassat, kopplings- arrangemang för att, under beaktande av ett antal utvalda styr- eller kontrollkriteria, bland annat låta styra och reglera en eller flera uppladdningselektroders enskilda joniseringsgrader och en eller flera avladdningselektroders effektiviteter, bland an- 19 10 15 20 25 30 536 628 nat styrda mot en minimerad elektrisk effekt för en maximerad teknisk partikeluppta- gande effekt, Figur 5 visar ett arrangemang med en avjoniseringselektrod, orienterad, i en vald transportriktning för substratet, före en, substratet och duken på ansamlade partiklar rensande, enhet, Figur 6 låter visa i en kraftigt förstorad planvy ett bärarskikt, iform att en rätvinklig nätstruktur, illustrerande sina kvadratiska öppningar och öppningarna kringslutande trådar, Figur 7 låter, starkt förstorat och förenklat, illustrera två mikro- eller nanostruktur- uppbyggda trådar, som behandlats för att bilda mikrostruktur- eller nanostrukturupp- visande knippen av tunna ”strån”, men där den visade illustrationen kan betraktas som starkt schematisk och där de visade mikro- eller makrostrånas fria ändar är ori- enterade omedelbart intill och med en lätt släpande kontakt mot ytavsnitten och ö- ver, de med lösa partiklar bemängda ytavsnitten och Figur 8 låter schematiskt visa ett exempel på en avklingningskurvas tidsrelaterade förlopp gällande för elektrostatisk fältstyrka.

BESKRIVNING ÖVER DEN KÄNDA PRODUKTIONSANLÄGGNINGEN ENLIGT FIGUREN 1.

I den efterföljande beskrivningen över känd teknik och föreliggande uppfinning sy- nes det lämpligt att låta särskilja mellan olika bearbetade ytor med sinsemellan olika beläggningar av damm- och stoftpartiklar, där följande hänvisningsbeteckningar har valts gällande ytornas och partikelkoncentrationernas förändring genom produkti- onsanläggningens processteg.

Sålunda indikerar hänvisningsbeteckningen 1 den kända produktionsanläggningen.

Hänvisningsbeteckningen 2 låter illustrera en genom anläggningen 1 förflyttbar ski- va, vars övre yta 2a skall betraktas som en råyta och där denna råyta kommer att genomgå olika bearbetande och behandlande förändringar, som då indikerats med ytdelar 2b, 2c och 2c' 20 10 15 20 25 30 536 628 Råytan 2a är således obehandlad och vilken yta 2a behandlas i en sliputrustning 3 för att bilda en slipad ytter- eller överyta 2b, där denna ytteryta 2b uppvisar en an- samling av lösa och/eller lossgjorda partiklar ”P” (grov kornstorlek), med en bred spridning av stora och klenare partiklar efter den anvisade slipningen med hjälp av ett slippapper 3a.

Ytan 2a kan förutsättas vara fri från fria eller konglomerade partiklar, ytan 2b kan anses vara försedd med lösa och grova partiklar ”P” i en blandning av stora, grova och klena partiklar, ytan 2c kan anses, efter en dammsugning via en dammsugarut- rustning 4, vara fri i vart fall från de grova partiklarna och betecknas ”P1” Denna ytter- eller överyta 2b kommer nu att dammsugas via en dammsugarutrust- ning 4 och ger därvid en ytterligare partikelbefriad ”P1” yta 2c Efter en ytterligare dammsugarutrustning 4' uppträder en yta 2c', med ett ytterligare dammsuget ytavsnitt 2c' med en partikeluppsättning betecknad "P2".

Denna yta 2c' behandlas vidare i en sprutanläggning 5 för att applicera ett översta skikt 2d och där ett tunt sådant skikt 2d kommer att täcka över eventuella kvarva- rande partiklar "P2" och bildar därav en mindre upphöjning 2d'; (”P2”).

Enär partiklarna "P2" följer med och kommer att bli belägna under det skikt 2d som anläggningen 5 applicerar kommer dessa partiklar ”P2”, vid ett tunt applicerat skikt, 2d, att framträda som små förhöjningar 2d' eller kaviteter, som besvärar utseendet för en plan och blank överyta 2d.

Hänvisningsbeteckningen 2a låter då illustrera en ännu ej genom slipning 3 planad och bearbetad yta, hänvisningsbeteckningen 2b illustrerar en yta med från slipnin- gen framkomna grova partiklar ”P” i en partikelansamling, en yta 2c illustrerar en av en dammsugare 4 genomförd dammsugning, med partiklarna "P1", hänvisningsbe- teckningen 2c' låter illustrera den för en slutbehandling anpassade ytan med partik- larna "P2”, som ytterligare dammsugits via en dammsugarutrustning 4', som inom 21 10 15 20 25 30 536 628 sprut anläggningen 5 belägges med ett ytterligare skikt 2d, med detta skikt inneslu- tande även av de inom föregående process kvarvarande partiklarna ”P2”.

Processtegen 1a, 1b och 1c med tillhörande utrustningar är i och för sig kända och beskrives därför inte mera i detalj.

Känd teknik ger emellertid vid handen att den partikelfria ytan 2c' i många tillämp- ningar inte är så fri från partiklar som önskvärt vore varför skiktet 2d kommer att täcka och bädda in kvarvarande partiklar ”P2”, antingen med en tunn ojämn (knott- rig) yta 2d' med sina inbäddade partiklar (”P2”) eller med ett onödigt tjockt skikt 2d, BESKRIVNING ÖVER NU FÖRESLAGEN UTFÖRINGSFORM Det skall då inledningsvis framhållas att i den efterföljande beskrivningen, över en för närvarande föreslagen utföringsform, som uppvisar de med uppfinningen för- knippade signifikativa kännetecknen och som tydliggöres genom de i de efterföl- jande ritningarna visade figurerna, har vi låtit välja termer och en speciell termino- logi i den avsikten att därvid i första hand låta tydliggöra uppfinningsidén.

Det skall emellertid i detta sammanhang beaktas att här valda uttryck inte skall ses som begränsande enbart till de här utnyttjade och valda termerna utan det skall un- derförstås att varje sålunda vald term skall tolkas så att den därutöver omfattar samtliga tekniska ekvivalenter som fungerar på samma eller väsentligen samma sätt, för att därvid kunna uppnå samma eller väsentligen samma avsikt och/eller tekniska effekt.

Föreliggande uppfinning avser i första hand en metod, vilken inledningsvis skall beskrivas enligt följande.

Metoden är anpassad för att med hjälp av ett substrat 40, inom ett första processteg ”S1”, (se figurerna 2 och 3) låta samla upp lösa och/eller lossgjorda partiklar från partiklarna uppbärande ytavsnitt 40a, via ett joniserande tillstånd och en aktiverad 22 10 15 20 25 30 536 628 elektrostatiskt varierande och tidsmässigt avtagande fältstyrka 70, inom figuren 8, och inom ett andra processteg ”S2” låta rensa substratet från ansamlade partiklar ”p2”, under ett avjoniserat tillstånd och en neutral elektrostatisk fältstyrka, under ett utnyttjande av en, substratet 40 innefattande, för mikrofibrer- och/eller nanofibrer ogenomtränglig duk 41 och där såväl duken 41 som dess bärarskiktet 42 skall upp- visa elektriskt isolerande och gas- och luftgenomsläppliga egenskaper.

Vid en sådan metod föreslås, i enlighet med uppfinningens anvisningar, att som nämnda substrat 40 och dess tilldelade duk 41 skall appliceras till dess lösa och/el- ler lossgjorda partiklar ”p2” frånvända yta ett elektriskt isolerande och gas- och luft- genomsläppliga kriteria uppvisande bärarskikt 42.

Vidare föreslås att nämnda substrat 40, med sin duk 41 och sitt bärarskikt 42, skall för sin partikelansamling, tilldelas ett elektrostatiskt fält, med en tidsmässigt föränd- rad fältstyrka 70 i relation till de lösa eller lossgjorda partiklarna ”P2”; ”p2” för att av en, av den elektriska fältstyrkan anpassad, varierande attraherande kraft verka på nämnda lösa och lossgjorda partiklar ”p2” och med fältstyrkan låta samla upp nämn- da lösa och lossgjorda partiklar inom duken 41.

Speciellt föreslås att de sålunda av attraherande krafter uppsamlade partiklarna ”p2” skall, i ett avjoniserat tillstånd, avlägsnas med hjälp av ett antal luftstrålar bil- dade av ett undertryck och/eller ett övertryck.

Speciellt anvisas ett ändlöst substrat 40 som, i transportriktningen räknat, omedel- bart före en uppsamling av lösa och lossgjorda avjoniserade partiklar,”P2”, ”p2” skall vara joniserat och tilldelat en elektrostatisk fältstyrka 70, under det att subst- ratet 40 omedelbart efter en uppsamling och en förvaring av de lösa och lossgjorda partiklarna ”p2” inom duken 41 låta avjonisera duken 41, bärarskiktet 42 och partik- larna ”P2”, ”p2” och därefter mekaniskt låta rensa duken 41 från sålunda uppsamla- de och neutraliserade partiklar. 23 10 15 20 25 30 536 628 Därutöver föreslås, enligt uppfinningens anvisningar, att den varierande fältstyrkan 70 för det elektrostatiska fältet kan väljas för ett plant partikeluppbärande ytavsnitt 40a och ett plant, elleri vart fall väsentligen plant, och parallellt orienterat substrat 40 enbart genom att låta fältstyrkan få variera, enligt figuren 8, efter en vald avkling- ningskurva. lntet hindrar att i stället för parallellt orienterad substrat 40 över ytorna 2c, 2c', kan substratets ytavsnitt 40a tillordnas en åt höger i figuren 2 avsmalnande form eller en mot vänster avsmalnande form, där ett valt minsta avstånd "d1 ” låter erbjuda en högre attraherande kraft.

Med en hänvisning till de bilagda figurerna 2 till 7 visas således schematiskt och i detalj inte bara föreliggande uppfinning utan jämväl har de med uppfinningen för- knippade signifikativa egenheterna konkretiserats, genom den nu föreslagna och i det efterföljande närmare beskrivna utföringsformen.

Med en förnyad hänvisning till figuren 2 visas i sidovy, en enligt uppfinningens an- visningar, konstruerad partikelupptagande anläggning eller arrangemang 20 (mot- svarande dammsugarutrustningen 4' enligt figuren 1) under ett utnyttjande av ett för en partikeluppsamling och en partikelansamling anpassat substratet tillordnat ett yt- avsnitt 40a och en för en partikelrengöring likaledes anpassat substratet tillordnat ytavsnitt 40' och vilken anläggnings konstruktion och funktion kommer att beskrivas i det efterföljande.

Ett, för en partikelrengöring anpassat, substrat med sina ytavsnitt 40', visat i figurer- na 2 och 3, uppvisande en, för lösa och/eller lossgjorda partiklars ”p2” uppsamlande (partiklar fallande inom mikro- och nanoområdet) anpassad duk 41 och ett, med du- ken tätt samverkande och stödjande, bärarskikt 42.

Såväl duken 41 som bärarskiktet 42 skall vara anpassade luftgenomsläppliga, en- bart i det syftet att kunna genomföra den rensningsprocess som kommer att krävas 24 lO 15 20 25 30 536 628 för att kunna rensa ansamlade lösa partiklar ”p2” och/eller lossgjorda partiklar ”P2”, under ett utnyttjande av en alstrad luftström, uppdelad i divergerande luftstrålar.

Dessa strålar föreslås att, under ett övertryck, få passera genom substratets ytav- snitt 40', i en riktning genom bärarskiktet 42 och duken 41, enligt figuren 5, och/eller under ett utnyttjande av en alstrad luftström, under ett undertryck, få passera ge- nom substratets ytavsnitt 40', i en riktning genom bärarskiktet 42 och duken 41.

Föreliggande uppfinning låter då anvisa för substratets ytavsnitt 40', att nämnda duk 41 skall vara anpassad att inom ett kort bandavsnitt bilda en, för i vart fall ett uppsamlande av mikro- och nanopartiklar tjänande, filterenhet 43 för att inom det första processteget "S1" låta ansamla och lagra upptagna och kvarvarande grova partiklar ”P2” och lösa små partiklar ”p2” och inom ett andra processteg ”S2” låta rengöra duken 41 från dessa partiklar "P2" och "p2".

För det andra processteget "S2" gäller att nämnda bärarskikt 42, uppbärande nämn- da duk 41, skall vara anpassat att uppvisa genomgående trånga öppningar 44 (Se figurerna 3 och 6) för en fördelning av en luftpassage 30a, under ett undertryck, och/eller en luftpassage 30b, under ett övertryck, riktad genom duken 41 i första hand av bärarsiktet 42 fördelande luftströmmar, som mer eller mindre koncentrera- de luftstrålar.

Nämnda duk 41 skall i förhållande till bärarskikten 42 betraktas som mycket tät ge- nom att nämnda duk 41 uppvisar en utpräglad form av en mikro- eller nanofiber- struktur, avsedd för en uppsamling av och en lagring av nämnda lösa och/eller lossgjorda partiklar ”P2”; "p2".

Enligt uppfinningens anvisningar skall denna uppsamling kunna ske av de krafter som verkar på partiklarna ”P2”; ”p2” under ett joniserat tillstånd och ett elektrosta- tiskt fält eller varierande fältstyrka 70. 25 10 15 20 25 30 536 628 Partiklarna ”p2” kan för denna kraftpåverkan vara joniserade med en första polaritet eller potential (+) eller neutrala, medan duken 41 och bärarskiktet 42 kan vara joni- serade med en andra, en motriktad, polaritet eller potential (-).

Denna uppsamling av partiklar ”p2” inom substratets ytavsnitt 40' och duken 41 kommer att kunna ske genom formandet av ett riktat elektrostatiskt fält, där den andra polariteten (-) skall kunna tillföras duken 41 under det att ytorna 2c, 2c' med sina partiklar är neutraliserad alternativt kan duken 41 och ytorna 2c, 2c' tillföras en motriktad elektrostatisk potential (+).

De här antydda elektrostatiska fälten och dess olika fältstyrkor 70 avser att påverka partiklarna ”p2” med en kraft som gör att de förskjutes från ytorna 2c, 2c' och i en riktning mot duken 41 och fastnar där i dukens mikro- eller nanotrådar och fastnar i första hand på dess ytterst smala och tunna strån 61a, 62a i figur 7.

Det i figuren 3, i ett längsgående tvärsnitt, visade substratet 40 skall då uppvisa en för lösa partiklars ”P2”, ”p2” uppsamlande anpassad duk 41 och ett duken 41 stöd- jande bärarskikt 42, där båda skall uppvisa elektriskt isolerande egenskaper, för att kunna uppehålla och lagra det elektriska fältet under bildandet av en avklingande fältstyrka 70.

Enligt uppfinningen skall såväl duken 41 som bärarskiktet 42 vara anpassade luft- genomsläppliga, i en främsta avsikt att med bildade luftströmmar låta rensa subst- ratet 40 från de uppsamlade dammpartiklarna ”P2”, ”p2”.

Den här antydda luftgenomsläppligheten kan komma till en användning om det, för- utom den antydda joniseringen längs ytorna 2c och 2c', skall utnyttjas en för parti- kelupptagningen anpassad dammsugning.

En rensning av substratet 40 från ansamlade damm- och lösa partiklar ”P2”,”p2”, inom det partikeluppsamlande arrangemanget eller anläggningen 20, skall kunna ske med hjälp av en eller flera luftströmmar. Denna rensande process skall kunna 26 10 15 20 25 30 536 628 ske enbart under det att luftstrålarna 30b aktiveras medelset ett övertryck 30c och att denna luftström då skall riktas så att den skall få passera genom substratet 40 i en riktning först genom bärarskiktet 42 och därefter genom duken 41, enligt figuren 5.

Som ett föreslaget alternativ kan här antydda luftströmmar, i form av luftstrålar 30a, bildas av ett undertryck och att även dessa luftstrålar skall få passera substratet 40 i en riktning genom bärarskiktet 42 och duken 41. Alstrat övertryck och dess luftstrå- lar 30b samt alstrat undertryck och dess strålar 30a kan samverka alternativt kan de aktiveras enskilt. lntet hindrar att låta dessa luftströmmar och luftstrålar få aktiveras pulserande ge- nom en, i figuren 5 endast antydd, pulsalstrande enhet 30c”. lntet hindrar att för denna rensande process låta bilda luftströmmar och luftstrålar 30b, från ett övertryck 30c, där dessa kan få vara verksamma på substratets 40 olika delar och på skilda ytområden och från luftströmmar och luftstrålar 30a, från ett undertryck, där dessa kan få vara verksamma på substratets 40 olika delar och på skilda ytområden.

Speciellt anvisas att dessa luftströmmar i första hand skall passera genom duken 41 som mer eller mindre linjära strömningar, styrda genom bärarskiktet 42 och dess hål eller öppningar 44, och som mera utpräglade turbulenta strömningar genom du- ken 41, för att losslita och lossgöra ansamlade partiklar ”P2”, ”p2”.

Enligt föreliggande uppfinning anvisas att nämnda duk 41 skall vara dimensionerad och anpassad att låta bilda en, för i vart fall mikro- och nanopartiklar 2b' tjänande, filterenhet 43 med en för tillämpningen väl avpassad partikelansamlande kapacitet.

För detta ändamål kommer det att krävas att nämnda bärarskikt 42 bör vara anpas- sat att uppvisa tätt orienterade och små genomgående öppningar 44 för att via des- sa tätt orienterade öppningar 44 låta fördela en luftström som luftstrålar genom väl 27 10 15 20 25 30 536 628 fördelade, som kanaler utformade, luftpassager i form av de antydda öppningarna 44.

Praktiska erfarenheter tyder på att öppningarnas 44 totala ytandel skall vara anpas- sad att, till i vart fall 50%, eller något därunder låta täcka dukens 41 totala yta.

Beaktas den med uppfinningen förknippade tillämpningen, så skall såväl duken 41 som bärarskiktet 42 vara formade från ett elektriskt isolerande material, vilket krävs för att såväl duken 41 som bärarskiktet 42, för sin rengörande effekt enligt uppfin- ningen, skall kunna tilldelas ett varierande och avtagande elektrostatiskt fält 70 via en eller flera tillordnade joniseringselektroder 33.

Enligt uppfinningens principer kan nämnda duk 41 få vara strukturerad med en, mot luftpassagens riktning genom duken 41, ökande täthet, med en för mikropartiklar och/eller nanopartiklar anpassad struktur och täthet inom dukens, mot bärarskiktet 42 vettande, område och/eller bottenområde och dess utbredning.

Speciellt föreslås här att en duk 41 av hithörande slag kan vara tilldelad en tjocklek "t1”, i figuren 3, av omkring 2 till 10mm, säg omkring 5mm och under det att bärar- skiktet 42 kan vara tilldelat en tjocklek ”t2” av omkring 3 till 5mm, säg kring 2,o mm.

Tjockleken för duken 41 och dess konstruktion skall kunna anpassas till dukens lag- rande förmåga av lösa partiklar, den tid under vilken lagringen skall ske och/elleri beroende av substratets 40 hastighet.

Med en förnyad hänvisning till figuren 2 skall en för uppfinningen signifikativ elektro- statiska partikelupptagande anläggning eller arrangemang 20 närmare beskrivas.

Här visas och beskrives i en förenklad sidovy ett arrangemang 20 för en rengöring av, lösa partiklar "P2”, ”p2” uppbärande, ytavsnitt 2c, 2c'. 28 lO 15 20 25 536 628 Detta arrangemang 20, för en rengöring av, lösa och/eller lossgjorda partiklar "P2", "p2” uppbärande, ytavsnitten 2c, 2c' och där nämnda lösa och/eller lossgjorda par- tiklar, i vart fall kan uppvisa en kornstorlek som till en övervägande del kommer att falla inom mikroområdet och/eller inom nanoområdet, såsom bildade genom en slip- ande bearbetning av en yta 2a.

Ett luftgenomsläppligt substrat 40, bl.a. i form av en duk 41 och ett bärarskikt 42, är anpassat kontinuerligt rörligt relativt nämnda ytavsnitt 2c, 2c' varvid ett för en rens- ning av inom duken 41 ansamlade partiklar ”P2”, ”p2” kan ske via ett undertryck, verkande på dukens ena sida, för att genom alstrade luftströmmar låta sugas upp för att inom duken låta ansamla de lösa partiklarna.

Ett för en rensning av inom duken 41 ansamlade partiklar kan ske via ett övertryck verkande på dukens motställda sida, för att genom alstrade luftströmmar och luftst- rålar låta blåsa bort inom duken ansamlade partiklar och där duken 41 och dess stödjande bärarskikt 42 är båda tilldelade anpassade luftgenomsläppliga egenska- per med olika strukturer, När det gäller arrangemanget 20 illustreras att substratet 40 skall vara format som ett, av en motor 32 drivet, ändlöst band med en vald rörelseriktning med- eller mot- riktad en rörelseriktning för en ytavsnitten 2c, 2c' tillordnad skiva 2 och att nämnda yta är föremål för en slipande behandling och ett avjoniserande av dessa behandla- de ytavsnitt 2c, 2c' innan en rengöring från partiklar skall ske.

Arrangemanget 20 föreslår att en för substratet 40 gällande uppladdnings- eller jo- niseringselektrod 33 skall vara placerad före det partikeluppsamlande ytavsnittet 40a, när detta ytavsnitt av drivningen kommer att passera över och längs de för partikelupptagningen avsedda ytavsnitten 2c, 2c', och varje ytavsnitt däremellan. 29 lO 15 20 25 30 536 628 En för substratets 40 drivning anpassad brytrulle 21 och/eller övriga brytrullar 21 a, 21 b skall vara formade eller påverkade för att låta centrera substratets 40 rörelse- riktning.

En avladdnings- eller avjoniseringselektrod 34 är orienterad intill det från partiklar rengjord ytavsnittet 2c och är placerad i rörelseriktningen för subtratet 40", räknat efter ytavsnittet 2c.

Intill elektroden 34 förefinns en partikelupptagande ramp 35, med en till rampen 35 integrerat formad avjoniseringselektrod 34, enligt figuren 5.

Enligt uppfinningens anvisningar skall substratet 40 vara format som ett, av en mo- tor 32 (ej visad) drivet, ändlöst band 40, 40", 40a, 40' med en rörelseriktning mot- riktad en rörelseriktning för den ytorna 2c, 2c' tillordnade skivan 2 och där nämnda ytor 2c, 2c', med sina partiklar, kan bli föremål för en avjoniserande funktion 34a, in- nan den elektrostatiska rengöringen sker från kvarvarande små partiklar ”p2” En för substratets 40 drivning anpassad, bandet 40, 40' drivande, brytrulle 21 sam- verkar via bärarskiktet 42 med en under en elektrostatisk fältstyrka 70 partikelupp- tagande rakt ytavsnitt 40a, format med en horisontell sträckning mellan en brytrulle 21 och en brytrulle 21a och där ett partikelbefriat band 40 länkas över via en övre brytrulle 21b, där den senare i första hand skall vara formad eller påverkbar för att centrera bandets 40 olika avsnitt med ansamlade partiklar ”p2” så att bandet länkas över via en brytrulle 21a och en brytrulle 21b, där den senare i första hand skall va- ra formad eller påverkad för att låta centrera bandets 40, 40", 40a, 40' rörelserikt- ning.

En avjoniseringselektrod 34b för en avladdning av skivan 2 är placerad, mot tran- sportriktningen för bandet 40 räknat, efter det de partikelupptagande ytavsnitten 2c, 2c' fått passera arrangemanget 20.. 30 10 15 20 25 30 536 628 Figuren 4 låter visa schematiskt ett elektriskt, som en styr- eller kontrollutrustning S1 anpassat, kopplingsarrangemang för att, under beaktande av ett antal utvalda styrkriteria, låta styra och reglera en eller flera uppladdnings- eller joniseringselekt- roders 33 enskilda joniseringsgrader och en eller flera avladdnings- eller avjonise- ringselektroders 34 effektivitet, styrbara för att med en minimerad elektrisk effekt låta skapa en maximerad teknisk partikelupptagande effekt.

Här visas att en matningsspänning ”U1” skall kunna omvandlas, via en omvandlan- de krets S2 till en spänningsreglerande krets ”Ur” och till en strömreglerande krets ”lr”- Via en växelström omvandlande krets S3 skall avjoniseringelektroders 34 avjonise- rande verkan kunna regleras.

Det skall här bemärkas att de kriteria som kan komma till en användning för denna reglering inom styrutrustningen S1 är enligt följande; Låta avkänna eller beräkna den momentana joniseringens och/eller den elektro- statiska fältstyrkans momentana storlek.

Låta för detta ändamål avkänna och/eller beräkna och reglera momentana lik- ströms- och likspänningsvärden.

Låta avkänna och reglera uppmätt likspänningseffekt, för var och en av de nyt- tjade joniseringselektroderna (33).

Låta beakta vald transporthastighet för substratet (40).

Låta reglera valda parametrar i beroende av gällande och valda temperaturer.

Låta beakta och reglera aktuell luftfuktighet.

Låta beakta de kriteria som är beroende av mikrofiber- eller nanofiberdukens konstruktion och/eller täthet.

Låta beakta och reglera kriteria som är beroende av substratets och/eller dukens elektriskt isolerande egenskaper relaterad, bla. till fältstyrkans avklingningstid, sub- stratets relativa kapacitans. 31 10 15 20 25 30 536 628 Figuren 5 låter då visa och beskriva en del av ett arrangemang 20, nämligen den del som skall mottaga ett partikeluppsamlat och lagrat substrat 40' med sin duk 41 och med en avladdnings- eller avjoniseringselektrod 34, orienterad, i en vald trans- portriktning för substratet 40 och dess band 40', före en, substratet och duken på ansamlade partiklar ”P2”, ”p2” rensande, enhet 35, här strukturerad som en parti- kelrensande och partikeluppsamlande enhet eller en ramp 35'.

Figuren 6 låter visa, ien kraftigt förstorad planvy, ett bärarskikt 42, i form att en rät- vinklig nätstruktur 42a, illustrerande sina kvadratiska öppningar 42b, 44 och de öpp- ningarna 42b kringslutande trådarna 42c, 42c'.

Valet av öppningarnas 42b storlek och trådarnas 42c, 42c' form och dimension kommer att skapa det inledningsvis beskrivna förhållandet.

Figuren 7 låter starkt förstorat och förenklat, låta illustrera två som mikro- eller na- nostruktur uppbyggda trådar 61, 62, som behandlats på känt sätt för att bilda mik- rostruktur- eller nanostruktur uppvisande knippen av tunna strån 61a, 62a, men där den visade illustrationen kan betraktas som starkt schematisk och där de visade mi- kro- eller nanostrånas fria ändpartier 61b, 62b är orienterade omedelbart intill och något släpande och över, dock ej i kontakt med, de med lösa partiklar ”P2”, ”p2” be- mängda ytavsnitten 2c, 40a' och 2c'.

Avståndet ”d1” mellan ytorna 61b och 62b och ytavsnittet 2c skall dimensioneras till mellan 2 och 10mm och bör i normalfallet inte ha en direktkontakt med ytan 2c, men inom uppfinningens ram skall detta avstånd vara så litet som praktiskt taget är möj- ligt, då ett mindre avstånd ”d1” alstrar högre attraherande krafter från den applice- rade elektrostatiska fältstyrkan 70 än vad ett större avstånd ger.

Enär duken 41 och bärarskiktet 42 är luftgenomsläppliga ligger det inom uppfinnin- gens ram att med en dammsugarutrustning 4' komplettera partikeluppsamlingen från ytavsnitten 2c, 2c'. 32 10 15 20 25 30 536 628 Avtagande, som avklingande, elektrostatiskt fält i Figuren 8. Även om föreliggande uppfinning inte på något sätt är direkt relaterad till den elekt- rostatiska fältstyrkans 70 tidsmässiga (t) (x-axeln) variation som indikeras som en avklingande fältstyrka i Figuren 8 skall uppfinningens principiella funktion närmare beskrivas.

I figuren 2 har införts, som hänvisningsbeteckningar ”F1”, "F2”, "F3” och "F4”, till substratets 40 olika delpartier 40", 40a, 40' relaterade fäktstyrkor och dessa är även införda i figuren 8 Sålunda framgår från figur 8 att vid tidpunkten ”to” uppträder maximerad fältstyrkan från joniseringselektroden 33. Denna fältstyrka avtar, enligt en anklingningsfunkti- on, till brythjulet 21 och ger där en fältstyrka av F2.

Denna fältstyrka F2 reduceras ytterligare längs avsnittet 40a' till värdet F3, under vilket avsnitten 2c' till 2c rensas från lösa partiklar ”p2” under tidsvaraktigheten mellan ”t1” och ”t2". Detta är lika med den tid som bandavsnittet 40a kommer att passera mellan brytrullarna 21 och 21a.

Vid tidsavsnittet ”t3” avjoniseras substratet 40' och bildar ett avjoniserat och rensat substrat 40, som via en förnyad jonisering av joniseringselektroden 33 är förberett för en förnyad partikelupptagning längs ytavsnitten 2c'och 2c.

Praktiska prov tenderar att visa på ett effektivt uppsamlande av lösa partiklar ”p2” från ytavsnitten 2c' till 2c vid en varierande fältstyrka, vilken kan ernås genom olika åtgärder men enklast genom att låta variationen få ansluta sig till en avklingnings- funktion, illustrerad ifiguren 8.

Uppfinningen är givetvis inte begränsad till den ovan såsom exempel angivna ut- föringsformen utan kan genomgå modifikationer inom ramen för uppfinningstanken illustrerad i efterföljande patentkrav. 33 536 628 Speciellt bör beaktas att varje visad enhet och/eller krets kan kombineras med varje annan visad enhet och/eller krets inom ramen för att kunna ernå önskad teknisk funktion. 34

Claims (19)

10 15 20 25 30 536 628 P A T E N T K R A V

1. Metod för att med hjälp av ett substrat (40), inom ett första processteg ("S1"), låta samla upp lösa och/eller lossgjorda partiklar ("P2", "p2") från ett partiklarna uppbä- rande ytavsnitt (2c, 40a, 2c'), under ett joniserande till- stånd och en aktiverad elektrostatiskt fältstyrka och (Ilszll) (70), inom ett andra processteg låta rensa substratet från ansamlade partiklar, under ett avjoniserat tillstånd eller en neutral elektrostatisk fältstyrka, (40) under ett utnyttjande av, och/eller (41) en substratet innefattande, för* mikrofiber- nanofiber ogenomtränglig, duk (41), och där såväl duken som dess bärarskikt (42) skall uppvisa elektriskt isolerande och gas- och luftgenomsläppliga egenskaper, k ä n n e - t e c k n a d d ä r a v , att sonl nämnda substrat (40) och dess tilldelade duk (41) skall appliceras till dess, lösa och lossgjorda partiklar frånvända, ytavsnittet ett, elektriskt isolerande, gas- och luftgenomsläpplighet uppvisande, bärar- skikt (42).

2. Metod enligt patentkravet 1, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v , att nämnda. substrat, med. sin duk (41) och sitt bärarskikt (42), skall för sin partikelansamling, tilldelas ett elektrostatiskt fält, med en fält- (70) anpassad. varierbar styrka i relation till de lösa eller lossgjorda partik- larna för att av en, av den elektriska fältstyrkan anpassad attraherande kraft, verkande på nämnda lösa och lossgjorda partiklar, låta samla upp nämnda partiklar inom duken (41).

3. Metod enligt patentkravet ]. eller ZL k ä n n e t e c k - n a d d ä r a v , att de sålunda av attraherande krafter uppsamlade partiklarna skall, i ett avjoniserat tillstånd, avlägsnas med hjälp av ett antal luftstrålar, bildade av ett undertryck och/eller ett undertryck. 35 10 15 20 25 30 536628 k ä n n e - 40')

4. Metod enligt patentkravet l, 2 eller 3, t e c k n a d d ä r a v , att substratet (40, 40", väl- jes son1 ett ändlöst substrat, i forn1 av ett band, som, i transportriktningen räknat, omedelbart före en uppsamling av skall vara joni- (70), lösa och lossgjorda avjoniserade partiklar, serat och tilldelat en elektrostatisk fältstyrka under det att substratet, omedelbart efter uppsamlingen och förva- ringen av de lösa och lossgjorda partiklarna inom. duken, tillåts avjonisera duken, bärarskiktet och. partiklarna och därefter" rensa duken från sålunda uppsamlade och neutrali- serade partiklar.

5. Metod enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e - t e c k n a d d ä r a v , att fältstyrkan (70) för* det elektrostatiska fältet för ett plant partikeluppbärande ytav- snitt och ett plant eller i vart fall väsentligen plant och parallellt orienterat substrat (40) väljes enligt en avkling- ningsfunktion eller anslutande sig till en avklingningsfunkt- ion. för en ("P2"; (40), ("p2") duken samverkande och 'understödjande, (41)

6. Ett, partikelrengöring "p2") för lösa och/eller lossgjorda (41) anpassat, substrat uppvisande en, och ett, med (42), partiklars uppsamlande anpassad duk bärarskikt där såväl duken som. bärarskiktet (42) är anpassade gas- eller luftgenomsläppliga för en rensning av lösa partiklar och/eller lossgjorda partiklar ("p2"), under ett utnyttjande av en alstrad luftström, som, under ett övertryck, får pas- sera genom substratet (40), i en riktning genom bärarskiktet (42) och duken (41) och/eller under ett utnyttjande av en får passera substra- (42) alstrad luftström, (40), i under ett undertryck, tet en riktning' genon1 bärarskiktet och. duken 36 10 15 20 25 30 536 628 (41), k ä n n e t e c k n a d d ä r a v , att nämnda duk (41) för i vart fall ett uppsamlande av (43), är anpassad att bilda en, filterenhet att (41) nanopartiklar (42) mikro- och tjänande, för nämnda duk (44) nämnda bärarskikt är anpassat att uppvisa genomgående öppningar för en fördelad luftpas- sage genom duken av luftströmmar, under ett undertryck eller ett övertryck, och att nämnda duk (4l) uppvisar en mikrofi- ber- eller nanofiberstruktur för en uppsamling av nämnda lösa np2 n) I serat tillstånd och tillståndet för en varierbar elektrosta- och/eller lossgjorda partiklar ("P2", under ett joni- tisk fältstyrka.

7. Substrat enligt patentkravet 6 k ä n n e t e c k n a d d.ä r a v , att bärarskiktet tilldelade öppningars (42b) to- tala ytandel är anpassad att, till i vart fall 50%, låta täcka dukens (41) totala yta, att såväl duken som bärarskik- tet är formade från ett elektriskt isolerande naterial och att såväl duken som bärarskiktet, effekt, för sin partikelansamlande är joniserade och tilldelade en elektrostatiskt fält- styrka (70).

8. Substrat enligt patentkravet 6 eller 7, k ä n n e - t e c k n a d d ä r a'v , att nämnda duk är strukturerad med en, i luftpassagernas riktning betraktat, ökande täthet, med en för upptagna mikropartiklar och/eller nanopartiklar anpas- sad ökande täthet inom dukens bottenområde och bottensträck- ning.

9. Substrat enligt patentkravet 5 eller 6, k ä n n e - t e c k n a d d ä r a'v , att duken är mjuk och tilldelad en tjocklek av 2 till 10 mm under det att bärarskiktet är böjstyvt och tilldelat en tjocklek av l till 5 mm. 37

10. 15 20 25 30 536 628 lO. Arrangemang för en rengöring av lösa och/eller lossgjorda partiklar uppbärande, ytavsnitt (2c, 2c') och där nämnda lösa och/eller lossgjorda partiklar, i vart fall kan uppvisa en kornstorlek som. till en övervägande del kommer att kunna falla inom. mikroområdet och/eller inom. nanoområdet, såsom bildade genom en slipande bearbetning av en råyta (2a), var- vid ett luftgenomsläppligt substrat (40), bl.a. i form av en duk (4l) och ett bärarskikt (42), såsom anpassbart rörligt varvid ett för en rensning av inom (IIP2II, lIpzll) verkande på dukens ena sida, relativt nämnda ytavsnitt, duken ansamlade partiklar kan ske via ett under- tryck, för att genom alstrade luftströmmar låta inom. duken ansamlade partiklar suga upp och/eller att ett för en rensning av i duken ansamlade pari- klar kan ske via ett övertryck, verkande på dukens motsatta sida, för att genoH1 alstrade luftströmmar låta blåsa bort inom duken ansamlade partiklar och där duken och dess under- stödjande bärarskikt (42) är båda tilldelad olika luftgenom- släppliga. egenskaper, k ä n n e t e c k n a d d ä r a v , att nämnda duk (4l) är anpassad att bilda en, för i vart fall ett filterenhet (41) för ett fördel- uppsamlande av mikro- och nanopartiklar tjänande, (43), (42) för nämnda duk är än- (44) att nämnda bärarskikt passat att uppvisa genomgående öppningar under ett (4l) skäll ande av luftpassager genom duken av luftströmmar, undertryck eller ett övertryck, och att nämnda duk uppvisa en mikrofiber- eller nanofiberstruktur för en uppsam- ling av nämnda lösa och/eller lossgjorda partiklar, under ett joniserat eller elektrostatiskt tillstånd.

11. ll. Arrangemang enligt patentkravet l0, k ä n n e t e c k - n a d d ä r a v , att en, bärarskiktet tilldelade öppningars totala, ytandel är anpassad att, till i vart fall 50%, låta täcka dukens totala yta, att såväl duken som bärarskiktet är formade från ett elektriskt isolerande material och att såväl för sin rengörande effekt utefter duken som bärarskiktet, 38 10 15 20 25 30 536 628 2c'), är joniserade och tilldelade en (70). ytavsnitten (2c, elektrostatisk fältstyrka

12. Arrangemang enligt patentkravet 11, k ä n n e t e c k - n a d d.ä r a v , att nämnda duk är strukturerad med en, i en luftpassages riktning betraktat, ökande täthet, med en for mikropartiklar och/eller nanopartiklar anpassad ökande täthet inom dukens bottenomràde och bottensträckning. 11 eller 12,

13. Arrangemang enligt patentkravet 10, k ä n - n e t e c k n a d d ä r a v , att duken är mjuk och tilldelad en tjocklek av 2 till 1O mm under det att bärarskiktet är bojstyvt och tilldelat en tjocklek av 1 till 5mm.

14. Arrangemang enligt patentkravet 10, k ä n n e t e c k - att substratet är format som ett, (40, 40') n a d d ä r a v , (32) aV GD motor drivet, ändlost band med en rorelserikt- ning motriktad. en rörelseriktning för en ytavsnittet (2c, 2c') tillordnad skiva (2) och att nämnda ytavsnitt är foremäl för ett avjoniserande innan en rengoringsprocess blir akti- verbar.

15. Arrangemang enligt patentkravet 10, k ä n n e t e c k - n a d d ä r a v , att en for substratet gällande uppladd- ningselektrod (33) är placerad fore partikelupptagande ytav- snitt (2c, 2c').

16. Arrangemang enligt patentkravet 10, k ä n n e t e c k - n a d d.ä r a v , att en. för substratets drivning anpassad brytrulle (21b) är formad. eller påverkad. for att centrera substratets (40) rörelseriktning. k ä n n e t e c k - (34b)

17. Arrangemang enligt patentkravet 10, n a d d ä r a v , att en avladdningselektrod är orien- 39 10 536 628 terad intill de från partiklar rengjörda ytavsnittet (2c'), (2c', 2c) 2c). och. placerad i_ rörelseriktningen för ytavsnittet och efter de partikelupptagande ytavsnitten (2c',

18. l8. Arrangemang enligt patentkravet l0, k ä n n e t e c k - n a d d ä r a v , att en elektröd för en avjönisering av ett partikelupptaget substrat (40') (40) ar placerad i transportrikt- ningen för substratet räknat efter de partikelupptagande ytavsnitten. k ä n n e - (34)

19. Arrangemang enligt patentkravet lO eller ll, t e c k n a d att intill. en. elektröd (35), d ä r a v , före- finns en partikeluppsamlande med en (34). ramp integrerad avjöniseringselektrod 40