RU99115468A - Модуль с полупроводниковыми микросхемами и способ его изготовления - Google Patents

Модуль с полупроводниковыми микросхемами и способ его изготовления

Info

Publication number
RU99115468A
RU99115468A RU99115468/09A RU99115468A RU99115468A RU 99115468 A RU99115468 A RU 99115468A RU 99115468/09 A RU99115468/09 A RU 99115468/09A RU 99115468 A RU99115468 A RU 99115468A RU 99115468 A RU99115468 A RU 99115468A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
contact pads
semiconductor
conductive contacts
module
electrically conductive
Prior art date
Application number
RU99115468/09A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2169962C2 (ru
Inventor
Минг-Тунг ШЕН
Original Assignee
Минг-Тунг ШЕН
Filing date
Publication date
Application filed by Минг-Тунг ШЕН filed Critical Минг-Тунг ШЕН
Priority to RU99115468/09A priority Critical patent/RU2169962C2/ru
Priority claimed from RU99115468/09A external-priority patent/RU2169962C2/ru
Publication of RU99115468A publication Critical patent/RU99115468A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2169962C2 publication Critical patent/RU2169962C2/ru

Links

Claims (21)

1. Модуль (4) с полупроводниковыми микросхемами, отличающийся тем, что содержит первую полупроводниковую микросхему (40), имеющую монтажную поверхность (42) под контактные площадки с множеством расположенных на ней контактных площадок (41), диэлектрический ленточный слой (5), имеющий противоположные первую и вторую адгезионные поверхности (50, 51), причем первая адгезионная поверхность (50) сцеплена с монтажной поверхностью (42) под контактные площадки на первой полупроводниковой микросхеме (40), диэлектрический ленточный слой (5) выполнен с множеством отверстий (52), предусмотренных в местах расположения первых контактных площадок (41) и предназначенных для обнажения первых контактных площадок (41), причем каждое из отверстий (52) ограничено стенкой (53), которая совместно с соответствующей ему контактной площадкой (41) образует приемное пространство под контакт, множество электропроводных контактов (54, 54', 54''), размещенных соответственно в приемных пространствах под контакт; и вторую полупроводниковую микросхему (6), имеющую монтажную поверхность (61) для монтажа микросхемы, сцепленную со второй адгезионной поверхностью (51) на диэлектрическом ленточном слое (5), причем монтажная поверхность (61) выполнена с множеством расположенных на ней вторых контактных площадок (60), которые соединены с электропроводными контактами (54, 54', 54'') с обеспечением электрического соединения с первыми контактными площадками (41).
2. Модуль (4) с полупроводниковыми микросхемами по п.1, отличающийся тем, что вторая адгезионная поверхность (51) покрыта термоотверждаемым клеем (55), температура отверждения которого ниже, чем температура плавления электропроводных контактов (54, 54', 54'').
3. Модуль (4) с полупроводниковыми микросхемами по п.1, отличающийся тем. что дополнительно содержит контактную рамку (7), которой смонтирована вторая полупроводниковая микросхема (6).
4. Модуль (4) с полупроводниковыми микросхемами по п.3, отличающийся тем, что дополнительно содержит пластмассовый корпус (8), в который упакованы первая и вторая полупроводниковые микросхемы (40, 6) и контактная рамка (7).
5. Модуль (4) с полупроводниковыми микросхемами по п.1, отличающийся тем, что дополнительно содержит печатную плату (9), на которой смонтирована вторая полупроводниковая микросхема (6), причем печатная плата (9) выполнена с расположенными на ней третьими контактными площадками (90), которые соединены электрически со второй полупроводниковой микросхемой (6).
6. Модуль (4) с полупроводниковыми микросхемами по п.5, отличающийся тем, что дополнительно содержит пластмассовый корпус (8), в который упакованы первая и вторая полупроводниковые микросхемы (40, 6).
7. Модуль (4) с полупроводниковыми микросхемами по п.1, отличающийся тем, что первая полупроводниковая микросхема (40) представляет собой микросхему памяти, а вторая полупроводниковая микросхема (6) представляет собой микросхему процессора.
8. Модуль (4) с полупроводниковыми микросхемами по п.1, отличающийся тем, что каждый из электропроводных контактов (54) представляет собой оловянный шарик.
9. Модуль (4) с полупроводниковыми микросхемами по п.1, отличающийся тем, что каждый из электропроводных контактов (54') сформирован из электропроводной пасты.
10. Модуль (4) с полупроводниковыми микросхемами по п.1, отличающийся тем, что каждый из электропроводных контактов (54'') сформирован из электропроводного материала (56), который подвергнут химическому электролитическому осаждению до соединения со вторыми контактными площадками (60).
11. Способ изготовления модуля (4) с полупроводниковыми микросхемами, включающий в себя сцепление первой адгезионной поверхности (50) диэлектрического ленточного слоя (5) с монтажной поверхностью (42) под контактные площадки на первой полупроводниковой микросхеме (40), причем диэлектрический ленточный слой (5) выполнен с множеством отверстий (52), предусмотренных в местах расположения первых контактных площадок (41), выполненных на монтажной поверхности (42) под контактные площадки, и предназначенных для обнажения первых контактных площадок (41), а каждое из отверстий (52) ограничено стенкой (53), которая совместно с соответствующей отверстию одной из первых контактных площадок (41) образует приемное пространство под контакт, размещение множества электропроводных контактов (54, 54', 54'') соответственно в приемных пространствах под контакты, и сцепление монтажной поверхности (61), имеющейся на второй полупроводниковой схеме (6) и предназначенной для монтажа этой микросхемы, ко второй адгезионной поверхности (51) на диэлектрическом ленточном слое (5), противоположной по отношению к первой адгезионной поверхности (50), и соединение вторых контактных площадок (60), выполненных на монтажной поверхности (61) для монтажа микросхемы, с электропроводными контактами (54, 54', 54'') с обеспечением электрического соединения с первыми контактными площадками (41).
12. Способ по п.11, отличающийся тем, что вторая адгезионная поверхность (51) покрыта термоотверждаемым клеем (55), температура отверждения которого ниже, чем температура плавления электропроводных контактов (54, 54', 54''), а сцепление второй полупроводниковой микросхемы (6) с диэлектрическим ленточным слоем (5) и соединение вторых контактных площадок (60) с электропроводными контактами (54, 54', 54'') осуществляют одновременно путем выполнения операции термоотверждения таким образом, чтобы монтажная поверхность (61) для монтажа микросхемы была уже сцеплена со второй адгезионной поверхностью (51) до расплавления электропроводных контактов (54, 54', 54'').
13. Способ по п.11, отличающийся тем, что сцепление диэлектрического ленточного слоя (5) с первой полупроводниковой микросхемой (40) осуществляют посредством термоотверждения клея (55), применяемого для нанесения на первую адгезионную поверхность (50).
14. Способ по п.11, отличающийся тем, что дополнительно содержит операцию монтажа второй полупроводниковой микросхемы (6) на компактной рамке (7).
15. Способ по п.1, отличающийся тем, что дополнительно содержит операцию формовки пластмассового корпуса (8), и упаковки первой и второй полупроводниковых микросхем (40, 6) и контактной рамки (7).
16. Способ по п.11, отличающийся тем, что дополнительно содержит операции монтажа второй полупроводниковой микросхемы (6) на печатной плате (9) и соединения второй полупроводниковой микросхемы (6) проводниками с третьими контактными площадками (90), выполненными на печатной плате (9).
17. Способ по п.16, отличающийся тем, что дополнительно содержит операцию формовки пластмассового корпуса (8), и упаковки первой и второй полупроводниковых микросхем (40, 6).
18. Способ по п. 11, отличающийся тем, что первая полупроводниковая микросхема (40) представляет собой микросхему памяти, а вторая полупроводниковая микросхема (6) представляет собой микросхему процессора.
19. Способ по п.11, отличающийся тем, что каждый из электропроводных контактов (54) представляет собой оловянный шарик.
20. Способ по п.11, отличающийся тем, что каждый из электропроводных контактов (54') формируют из электропроводной пасты.
21. Способ по п.11, отличающийся тем, что каждый из электропроводных контактов (54'') формируют из электропроводного материала (56), который подвергают химическому электролитическому осаждению до соединения со вторыми контактными площадками (60).
RU99115468/09A 1999-07-13 1999-07-13 Модуль с полупроводниковыми микросхемами и способ его изготовления RU2169962C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU99115468/09A RU2169962C2 (ru) 1999-07-13 1999-07-13 Модуль с полупроводниковыми микросхемами и способ его изготовления

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU99115468/09A RU2169962C2 (ru) 1999-07-13 1999-07-13 Модуль с полупроводниковыми микросхемами и способ его изготовления

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU99115468A true RU99115468A (ru) 2001-05-10
RU2169962C2 RU2169962C2 (ru) 2001-06-27

Family

ID=20222748

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU99115468/09A RU2169962C2 (ru) 1999-07-13 1999-07-13 Модуль с полупроводниковыми микросхемами и способ его изготовления

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2169962C2 (ru)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11211305B2 (en) 2016-04-01 2021-12-28 Texas Instruments Incorporated Apparatus and method to support thermal management of semiconductor-based components
US10861796B2 (en) 2016-05-10 2020-12-08 Texas Instruments Incorporated Floating die package
US10179730B2 (en) 2016-12-08 2019-01-15 Texas Instruments Incorporated Electronic sensors with sensor die in package structure cavity
US9929110B1 (en) 2016-12-30 2018-03-27 Texas Instruments Incorporated Integrated circuit wave device and method
US10411150B2 (en) 2016-12-30 2019-09-10 Texas Instruments Incorporated Optical isolation systems and circuits and photon detectors with extended lateral P-N junctions
US10074639B2 (en) 2016-12-30 2018-09-11 Texas Instruments Incorporated Isolator integrated circuits with package structure cavity and fabrication methods
US10121847B2 (en) 2017-03-17 2018-11-06 Texas Instruments Incorporated Galvanic isolation device
WO2020214149A1 (en) * 2019-04-15 2020-10-22 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Printed circuit boards with solder joints of higher melting temperatures and traces coupling electrical contacts at differing positions

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR0169820B1 (ko) 금속 회로 기판을 갖는 칩 스케일 패키지
US5311407A (en) Printed circuit based for mounted semiconductors and other electronic components
EP0690500B1 (en) Ball-grid-array integrated circuit package with solder-connected thermal conductor
JP3502776B2 (ja) バンプ付き金属箔及び回路基板及びこれを用いた半導体装置
US5989939A (en) Process of manufacturing compliant wirebond packages
US6495912B1 (en) Structure of ceramic package with integrated passive devices
GB2286084A (en) Electronic package with thermally conductive support
KR20000048471A (ko) 다수의 전원/접지면을 갖는 볼 그리드 어레이 패키지
JP3304957B2 (ja) 多重チップ半導体モジュールとその製造方法
JPH06120285A (ja) 集積回路デバイスの入力/出力ポイント再構成装置及び方法、並びに入力/出力ポイントを再構成するためのエレメント形成方法
US7006353B2 (en) Apparatus and method for attaching a heat sink to an integrated circuit module
RU99115468A (ru) Модуль с полупроводниковыми микросхемами и способ его изготовления
RU2169962C2 (ru) Модуль с полупроводниковыми микросхемами и способ его изготовления
KR100733684B1 (ko) 소자의 전기 접촉을 위한 방법 및 장치
KR100251868B1 (ko) 가요성 회로 기판을 이용한 칩 스케일 반도체 패키지 및 그 제조 방법
CN112992776A (zh) 封装方法、封装结构及封装模块
US6262483B1 (en) Semiconductor chip module and method for manufacturing the same
JPH113955A (ja) 半導体チップ搭載ボード
KR100320729B1 (ko) 반도체칩 모듈 및 그 제조방법
KR100385087B1 (ko) 멀티칩 반도체 모듈 및 그 제조 방법
JP3586867B2 (ja) 半導体装置、その製造方法及びその実装方法並びにこれを実装した回路基板
KR100195512B1 (ko) 칩 스케일 패키지 및 그 제조 방법
RU99115469A (ru) Полупроводниковое устройство и способ его изготовления
RU2168798C2 (ru) Полупроводниковое устройство и способ его изготовления
KR0176112B1 (ko) 노이즈를 감소하기 위한 반도체 칩 패키지