Claims (1)
Способ изготовления имлантата с электретными свойствами для остеосинтеза, заключающийся в осаждении покрытия из окиси тантала Та2О5 на проводящий (металлический) имплантат, который помещают в технологическую вакуумную камеру установки ионно-плазменного реактивного распыления, отличающийся тем, что на изолированный подложкодержатель (электрод) с имплантатами (подложками) в ходе технологического процесса поэтапно подают потенциал земли или положительный относительно земли потенциал смещения, измеряют ток в цепи подложкодержателя с имплантатами (ток смещения), а свойства наносимого покрытия Та2O5 обеспечивают на основе данных о характере изменения и величине тока смещения, причем технологический процесс выполняют в два последовательных этапа: 1 - после начала ионного распыления тантала в атмосфере аргона подают на подложкодержатель с имплантатами потенциал земли, производят напуск кислорода и увеличивают его парциальное давление в технологической вакуумной камере до величины, при которой начинает падать ток смещения в цепи подложкодержателя с имплантатами, что свидетельствует о начале образования на поверхности имплантата диэлектрического покрытия Та2O5, 2 - при уменьшении тока смещения в цепи подложкодержателя с имплантатами до 0,9 - 0,6 от его начальной величины на подложкодержатель с имплантатами подают положительный относительно земли потенциал смещения и производят стабилизацию во времени этого значения тока смещения путем увеличения положительного потенциала смещения, что обеспечивает образование на поверхности имплантата беспористого сплошного диэлектрического покрытия Та2O5, причем в период стабилизации значения тока смещения на подложкодержатель с имплантатами периодически подают потенциал земли, измеряют ток смещения в цепи подложкодержателя с имплантатами и момент прекращения падения тока смещения считают окончанием периода формирования на поверхности имплантата беспористого сплошного диэлектрического покрытия Та2O5, а продолжение процесса нанесения покрытия производят до достижения заданной его толщины.A method of manufacturing an implant with electret properties for osteosynthesis, which consists in the deposition of a coating of tantalum oxide Ta 2 O 5 on a conductive (metal) implant, which is placed in a technological vacuum chamber of an ion-plasma reactive spray installation, characterized in that on an insulated substrate holder (electrode) with implants (substrates) during the technological process, the ground potential or a bias potential positive relative to the ground is gradually supplied, the current in the substrate holder circuit is measured with mplantatami (bias current), and the properties of the coating Ta 2 O 5 on a basis of data about the nature of the change and the magnitude of the bias current, wherein the process is carried out in two successive stages: 1 - after the start of sputtering of tantalum in an argon atmosphere is supplied to the substrate holder with the implants potential of the earth, oxygen is injected and its partial pressure in the technological vacuum chamber is increased to a value at which the bias current begins to fall in the substrate holder circuit with implants, which idetelstvuet the beginning of the formation on the implant surface of the dielectric covering Ta 2 O 5, 2 - a decrease of the displacement current in the circuit substrate holder with implants to 0.9 - 0.6 of its initial value at the substrate holder implant serves a positive bias potential with respect to ground and produce a stabilizing in time this value by increasing the DC bias potential of the positive displacement, which ensures the formation at the implant surface nonporous solid dielectric covering Ta 2 O 5, wherein a stabilization period values on the substrate holder of the bias current with implants are periodically supplied ground potential, measured bias current in the circuit of the substrate holder with the implants and the time of termination of incidence of the bias current is considered end of the period of formation on the implant surface nonporous solid dielectric covering Ta 2 O 5, and the continuation of the coating process produce until its predetermined thickness is reached.