RU97109607A - Способ получения кремния - Google Patents

Способ получения кремния

Info

Publication number
RU97109607A
RU97109607A RU97109607/25A RU97109607A RU97109607A RU 97109607 A RU97109607 A RU 97109607A RU 97109607/25 A RU97109607/25 A RU 97109607/25A RU 97109607 A RU97109607 A RU 97109607A RU 97109607 A RU97109607 A RU 97109607A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
silicon
producing silicon
chemical compound
containing chemical
gaseous
Prior art date
Application number
RU97109607/25A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2116963C1 (ru
Inventor
Ю.И. Яковлев
Original Assignee
Институт физики полупроводников СО РАН
Ю.И. Яковлев
Filing date
Publication date
Application filed by Институт физики полупроводников СО РАН, Ю.И. Яковлев filed Critical Институт физики полупроводников СО РАН
Priority to RU97109607A priority Critical patent/RU2116963C1/ru
Priority claimed from RU97109607A external-priority patent/RU2116963C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2116963C1 publication Critical patent/RU2116963C1/ru
Publication of RU97109607A publication Critical patent/RU97109607A/ru

Links

Claims (1)

  1. Способ получения кремния, основанный на реакции термического разложения газообразного кремнийсодержащего химического соединения на нагретых электрическим током кремниевых подложках с образованием элементарного кремния и газообразных продуктов реакции, отличающийся тем, что в качестве кремнийсодержащего химического соединения используют тетраамминтрикремнефторид Si3(NH3)4F12.
RU97109607A 1997-06-06 1997-06-06 Способ получения кремния RU2116963C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU97109607A RU2116963C1 (ru) 1997-06-06 1997-06-06 Способ получения кремния

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU97109607A RU2116963C1 (ru) 1997-06-06 1997-06-06 Способ получения кремния

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2116963C1 RU2116963C1 (ru) 1998-08-10
RU97109607A true RU97109607A (ru) 1998-11-20

Family

ID=20193957

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU97109607A RU2116963C1 (ru) 1997-06-06 1997-06-06 Способ получения кремния

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2116963C1 (ru)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2155158C1 (ru) * 1999-10-07 2000-08-27 Институт химии высокочистых веществ РАН Способ получения моноизотопного кремния si28
US7927984B2 (en) * 2008-11-05 2011-04-19 Hemlock Semiconductor Corporation Silicon production with a fluidized bed reactor utilizing tetrachlorosilane to reduce wall deposition
DE102008059408A1 (de) * 2008-11-27 2010-06-02 Schmid Silicon Technology Gmbh Verfahren und Vorrichtungen zur Herstellung von Reinstsilizium

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0906965A3 (en) Silicon nitride from bis (tertiarybutylamino) silane
AU9118291A (en) A catalyst structure having integral heat exchange (ii)
TW369675B (en) Plasma enhanced chemical vapor deposition of titanium nitride using ammonia
SE8403834L (sv) Kemisk angavsettning av titannitrid och liknande filmer
ID21608A (id) Katalis perak untuk pembuatan etilen oksida, metode pembuatannya dan metode pembuatan etilen oksida
EP1000915A3 (en) Silicon carbide composite, method for producing it and heat dissipation device employing it
AU2120095A (en) Low-temperature oxidation at surfaces using ozone decomposition products formed by microwave discharge
KR950007021A (ko) 평탄화된 절연막을 갖는 반도체장치
PT91916A (pt) Processo de sintese de polimeros a base de boro e de azoto precursores de nitreto de boro
BR8404854A (pt) Processo para fabricacao de silanas a partir de metildiclorossilana e triclorossilana e/ou tetraclorossilana
BR8404849A (pt) Processo de fabricacao de dimetildiclorossilano por reacao de cloreto de metila sobre uma massa de contato solida
EP0817255A3 (en) Dummy wafer
GB2192270B (en) Chemical heat pump utilizing clathrate formation reaction
RU97109607A (ru) Способ получения кремния
EP0785574A3 (en) Method of forming tungsten-silicide
ATE189186T1 (de) Herstellung von lithiumhexafluormetallaten
JP2001525326A5 (ru)
FI945160A (fi) Emäskatalysoitu menetelmä vetypitoisten organopolysiloksaanien valmistamiseksi
KR890701467A (ko) 질화알루미늄의 제조방법
ES2006119A6 (es) Procedimiento de obtencion de nitruro de silicio.
WO2002094743A3 (de) Verfahren und vorrichtung zur durchführung von radikalischen gasphasenreaktionen
DE69430286T2 (de) Verfahren zur Herstellung von photovoltaischen Modulen aus kristallinem Silizium
BR9401520A (pt) Peça, e, processo para resfriar em substrato tubular durante o revestimento por pulverização témica dele
EP0374740A3 (en) Semiconductor wafer carrier design
EP0997467A3 (en) Process for converting polymeric silicon containing compounds to monosilanes