RU96103015A

RU96103015A - Способ и устройство для плазменной обработки поверхности

Info

Publication number: RU96103015A
Application number: RU96103015/07A
Authority: RU
Original assignee: Закрытое акционерное общество "Техно-ТМ"
Filing date: 1996-02-23
Publication date: 1997-11-27

Claims

1. Способ плазменной обработки поверхности преимущественно электровакуумных приборов, включающий вакуумирование реакционного объема, ввод в реакционный объем по крайней мере потоков двух рабочих газов, ориентированных к обрабатываемой поверхности и формирование плазмы, отличающийся тем, что используют по крайней мере два рабочих газа, вступающих в химическое взаимодействие при (нормальной) комнатной температуре, которые подают автономными потоками, распределенными по обрабатываемой поверхности по заданному закону, обеспечивающему максимальную эффективность процесса обработки.

2. Способ по п. 1 отличающийся тем, что в качестве закона распределения потоков газа по обрабатываемой поверхности используют условие их равномерного поступления ко всей обрабатываемой поверхности.

3. Способ по пп. 1 и 2, отличающийся тем, что в качестве рабочих газов, образующих автономные потоки, используют моносилан, гелий и кислород.

4. Способ по пп. 1-3, отличающийся тем, что отношение скоростей VI, V2 потоков газов (динамических давлений) выбирают равными V1/V2 = 1-100.

5. Способ по пп. 1-4, отличающийся тем, что формирование плазмы осуществляют разрядом.

6. Способ по пп. 1-4, отличающийся тем, что формирование плазмы осуществляют лазерным излучением.

7. Устройство для плазменной обработки поверхности, содержащее вакуумную камеру, снабженную узлом ввода рабочих газов, выполненным в виде корпуса с входным отверстием и выходными отверстиями и узел формирования плазмы, отличающееся тем, что узел ввода рабочих газов выполнен в виде автономных отверстий для каждого из газов, полость корпуса разделена на секции, число которых выбрано равным числу используемых газов, соединенные множеством каналов с выходными отверстиями, распределенными по рабочей поверхности корпуса по заданному закону, обеспечивающему максимальную эффективность подачи газов к обрабатываемой поверхности.

8. Устройство по п. 7, отличающееся тем, что в качестве закона распределения выходных отверстий по рабочей поверхности корпуса выбрано условие равномерного распределения газов по обрабатываемой поверхности.

9. Устройство по пп. 7 и 8, отличающееся тем, что диаметр d выходных отверстий выбран не превышающим величину 2RD, где RD - дебаевская длина в области плазмы, прилегающей к рабочей поверхности корпуса узла ввода газов.

10. Устройство по пп. 7-9, отличающееся тем, что шаг отверстия L выбран из выражения L > 2d, где d - диаметр отверстия, а отношение общей площади отверстий Sо к площади поверхности корпуса Sк, на которой они расположены, выбрано из соотношения S_o/S_k = 0,01 - 0,02и