RU94000897A - Способ получения узкополосного излучения с малой расходимостью в эксимерном лазере - Google Patents
Способ получения узкополосного излучения с малой расходимостью в эксимерном лазереInfo
- Publication number
- RU94000897A RU94000897A RU94000897/25A RU94000897A RU94000897A RU 94000897 A RU94000897 A RU 94000897A RU 94000897/25 A RU94000897/25 A RU 94000897/25A RU 94000897 A RU94000897 A RU 94000897A RU 94000897 A RU94000897 A RU 94000897A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- radiation
- active medium
- active
- medium
- mirror
- Prior art date
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims 1
- 230000003595 spectral Effects 0.000 claims 1
- 230000002269 spontaneous Effects 0.000 claims 1
Claims (1)
- Изобретение относится к области квантовой электроники и может быть использовано при разработке и создании эксимерных лазеров с малой расходимостью и узкой шириной спектральной линии. С целью упрощения способа в известном способе получения узкополосного излучения с малой расходимостью в эксимерном лазере, включающем возбуждение активной среды, расположенной в оптическом резонаторе, содержащем выходное полупрозрачное зеркало, фокусирующую линзу и ВРМБ зеркало, и формирование излучения, интенсивность которого на ВРМБ зеркале достаточна для отражения излучения, величину интенсивности излучения на ВРМБ зеркале выбирают из соотношения
где hν - энергия кванта излучения, Дж; N* - концентрация активных частиц в среде, см- 3; τ - спонтанное время жизни активных частиц, с; l - длина волны излучения, см; d - апертура активной среды, см; l1 - единичная длина, см; F - фокусное расстояние линзы, см; l - длина активной среды, см;g0 - коэффициент усиления активной среды, см- 1; a - коэффициент ненасыщенного поглощения активной среды, см- 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU94000897A RU2077756C1 (ru) | 1994-01-10 | 1994-01-10 | Способ получения узкополосного излучения с малой расходимостью в эксимерном лазере |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU94000897A RU2077756C1 (ru) | 1994-01-10 | 1994-01-10 | Способ получения узкополосного излучения с малой расходимостью в эксимерном лазере |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU94000897A true RU94000897A (ru) | 1995-09-20 |
| RU2077756C1 RU2077756C1 (ru) | 1997-04-20 |
Family
ID=20151351
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU94000897A RU2077756C1 (ru) | 1994-01-10 | 1994-01-10 | Способ получения узкополосного излучения с малой расходимостью в эксимерном лазере |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2077756C1 (ru) |
-
1994
- 1994-01-10 RU RU94000897A patent/RU2077756C1/ru active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Hargrove et al. | High power efficient dye amplifier pumped by copper vapor lasers | |
| KR880700505A (ko) | 장주기 펄스 동조 염료 레이저 | |
| DE69732939D1 (de) | Diodengepumptes Lasersystem und Verfahren | |
| EP0422834B1 (en) | Simultaneous generation of laser radiation at two different frequencies | |
| US3582820A (en) | Erbium laser device | |
| US3668420A (en) | 1.5 micron raman laser | |
| US3890578A (en) | Dye laser excited by a diode laser | |
| US5022041A (en) | Near resonant Nd3+, solid state laser system | |
| RU94000897A (ru) | Способ получения узкополосного излучения с малой расходимостью в эксимерном лазере | |
| US4140978A (en) | Method and apparatus for producing laser radiation following two-photon excitation of a gaseous medium | |
| US4295104A (en) | Laser having simultaneous ultraviolet and visible wavelengths | |
| US5381433A (en) | 1.94 μm laser apparatus, system and method using a thulium-doped yttrium-lithium-fluoride laser crystal pumped with a diode laser | |
| US20100020832A1 (en) | Wavelength selectable laser systems and related methods | |
| US7817697B1 (en) | Laser diode pumped solid-state dye laser and method for operating same | |
| KR890702303A (ko) | 캐비티내부 라만셀 공진기 | |
| RU2044066C1 (ru) | Лазерное устройство одномодового модулированного излучения для термической обработки материалов | |
| JPH06314832A (ja) | レーザ装置 | |
| RU251U1 (ru) | Лазер на красителях с накачкой эксимерным лазером | |
| JP2992548B2 (ja) | レーザ光を用いた気相光化学反応装置 | |
| Yu et al. | Transversely Optically Pumped Ultraviolet Laser in the Range of 330-390 nm | |
| RU2019018C1 (ru) | Способ генерации лазерного излучения и устройство для его осуществления | |
| Klimek et al. | Dye laser studies using zig-zag optical cavity | |
| RU2077756C1 (ru) | Способ получения узкополосного излучения с малой расходимостью в эксимерном лазере | |
| Zhdanov et al. | Transverse-pumped Cs vapor laser | |
| Laser | dimer vapor transversetly-umped by &+ 7 & L |