RU93015059A - Катодный узел для получения тонких пленок в вакууме - Google Patents

Катодный узел для получения тонких пленок в вакууме

Info

Publication number
RU93015059A
RU93015059A RU93015059/10A RU93015059A RU93015059A RU 93015059 A RU93015059 A RU 93015059A RU 93015059/10 A RU93015059/10 A RU 93015059/10A RU 93015059 A RU93015059 A RU 93015059A RU 93015059 A RU93015059 A RU 93015059A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
vacuum
thin films
magnetic system
drawing thin
core
Prior art date
Application number
RU93015059/10A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2089660C1 (ru
Inventor
Е.Н. Ивашов
П.Е. Кондрашов
С.М. Оринчев
В.В. Слепцов
С.В. Степанчиков
Original Assignee
Е.Н. Ивашов
П.Е. Кондрашов
С.М. Оринчев
В.В. Слепцов
С.В. Степанчиков
Filing date
Publication date
Application filed by Е.Н. Ивашов, П.Е. Кондрашов, С.М. Оринчев, В.В. Слепцов, С.В. Степанчиков filed Critical Е.Н. Ивашов
Priority to RU93015059A priority Critical patent/RU2089660C1/ru
Priority claimed from RU93015059A external-priority patent/RU2089660C1/ru
Publication of RU93015059A publication Critical patent/RU93015059A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2089660C1 publication Critical patent/RU2089660C1/ru

Links

Claims (1)

  1. Изобретение относится к области нанесения тонких пленок в вакууме, а более конкретно - к катодным узлам. Для повышения равномерности поля по всей длине магнитной системы она выполнена в виде набора сердечников-уголков и неподвижного ярма, установленных в общую катушку индуктивности, каждый сердечник-уголок выполнен с возможностью перемещения относительно неподвижного ярма, а вся магнитная система выполнена с возможностью перемещения вдоль электрода-мишени, причем магнитная система и устройство перемещения магнитной системы расположены вне вакуумного объема.
RU93015059A 1993-03-22 1993-03-22 Катодный узел для получения тонких пленок в вакууме RU2089660C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93015059A RU2089660C1 (ru) 1993-03-22 1993-03-22 Катодный узел для получения тонких пленок в вакууме

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93015059A RU2089660C1 (ru) 1993-03-22 1993-03-22 Катодный узел для получения тонких пленок в вакууме

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU93015059A true RU93015059A (ru) 1995-10-20
RU2089660C1 RU2089660C1 (ru) 1997-09-10

Family

ID=20139061

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU93015059A RU2089660C1 (ru) 1993-03-22 1993-03-22 Катодный узел для получения тонких пленок в вакууме

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2089660C1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE59206344D1 (de) Magnetron-Zerstäubungskathode für Vakuumbeschichtungsanlagen
DE69326453T2 (de) Magnetische anziehungsvorrichtung
DE69320151D1 (de) Flachen magnetronzerstäubungsanlage
DE59007218D1 (de) Magnetgelagerte Vakuumpumpe.
DE3786117D1 (de) Zerstaeubungskatode nach dem magnetronprinzip.
ATE371046T1 (de) Verfahren zur magnetron-zerstäubung
ITMI930025A1 (it) Impianto di rivestimento sotto alto vuoto
DE69309503D1 (de) Oxidisches magnetisches Material
RU93015059A (ru) Катодный узел для получения тонких пленок в вакууме
ITMI930460A1 (it) Impianto di rivestimento sotto alto vuoto
DE59301776D1 (de) Unterdruckkammer
RU92007459A (ru) Катодный узел
RU93012688A (ru) Катодный узел, преимущественно для пучково-плазменного нанесения тонких пленок
DE69314770D1 (de) Reaktives Abscheidungsverfahren mittels ionisiertem Cluster-Strahl
KR920013631U (ko) 누설자계 상쇄코일의 지지대
RU2089660C1 (ru) Катодный узел для получения тонких пленок в вакууме
RU2089659C1 (ru) Устройство катодного узла для нанесения пленок в вакууме
RU93015058A (ru) Катодный узел
IT1240811B (it) Metodo per la deposizione di strati sottili con assistenza di ioni da plasma rf.
JPS5616671A (en) Sputtering apparatus
ITMI930461A1 (it) Impianto di rivestimento sotto alto vuoto
ITMI930290A0 (it) Impianto di rivestimento sotto alto vuoto
ITMI920987A0 (it) Procedimento e impianto per la formazione di un deposito metallico mediante proiezione ad arco elettrico.
RU93017596A (ru) Катодный узел
ITRM950422A0 (it) Impianto per la deposizione sequenziale di film sottili, con inseguimento di profili mediante "pecvd" e sputtering, anche assistitada campo magnetico, in configurazione magnetron.