RU2841503C1 - Мощный полевой транзистор свч - Google Patents

Мощный полевой транзистор свч Download PDF

Info

Publication number
RU2841503C1
RU2841503C1 RU2024133882A RU2024133882A RU2841503C1 RU 2841503 C1 RU2841503 C1 RU 2841503C1 RU 2024133882 A RU2024133882 A RU 2024133882A RU 2024133882 A RU2024133882 A RU 2024133882A RU 2841503 C1 RU2841503 C1 RU 2841503C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
source
semi
gate electrode
drain
electrodes
Prior art date
Application number
RU2024133882A
Other languages
English (en)
Inventor
Анатолий Васильевич Галдецкий
Ярослав Борисович Мартынов
Original Assignee
Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Исток" имени А.И. Шокина"
Filing date
Publication date
Application filed by Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Исток" имени А.И. Шокина" filed Critical Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Исток" имени А.И. Шокина"
Application granted granted Critical
Publication of RU2841503C1 publication Critical patent/RU2841503C1/ru

Links

Abstract

Использование: для активных элементов СВЧ-устройств. Сущность изобретения заключается в том, что мощный полевой транзистор СВЧ, выполненный на полуизолирующей подложке с активным слоем повышенной проводимости, в виде периодического набора ячеек, содержит параллельные электроды стока, затвора, истока, причем одноименные электроды истока и стока от различных ячеек соединены электрически, образуя цепи суммирования сигнала транзистора, при этом исток выполнен в виде двух отдельных параллельных электродов, расположенных на активном слое и разделенных полуизолирующим промежутком, внутри полуизолирующего промежутка расположен дополнительный электрод затвора, соединенный одним концом с затворными цепями суммирования; расположенные вдоль одной линии, параллельной истоку и стоку, субзатворы образуют электрод затвора ячейки, субзатворы разделены между собой полуизолирующими областями и соединены перемычками с дополнительным электродом затвора, при этом электроды истока, дополнительного электрода затвора и стока выполнены удлиненными. Технический результат обеспечение возможности улучшения теплового режима работы и повышения прочностных характеристик. 6 ил., 2 табл.

Description

Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано в качестве активных элементов СВЧ-устройств.
Известен мощный СВЧ полевой транзистор с барьером Шоттки, выполненный в виде чередующейся структуры, так называемой гребенки электродов истока, затвора, стока, при этом единичные электроды затвора расположены в канавках каналов, выполненных между электродами истока и стока [См. Полевые транзисторы на арсениде галлия. Принципы работы и технология изготовления. Под ред. Д.В. Ди Лоренцо, Д.Д. Канделуола, Перевод с английского под ред. Г.В. Петрова, М., «Радио и связь», 1988 г., стр.118].
Недостаток такого СВЧ полевого транзистора с барьером Шоттки заключается в том, что длина электродов ячейки ограничена при этом как сами ячейки транзистора, так и их цепи суммирования располагаются параллельно друг другу, что приводит к значительному увеличению одного из размеров получающейся чередующейся структуры, что ухудшает прочностные характеристики транзистора. Достижение приемлемого соотношения продольного и поперечного размеров транзистора в такой структуре возможно лишь при максимально возможном уменьшении ширины транзисторной ячейки и толщины полупроводниковой подложки, обеспечивающие приемлемый тепловой режим работы транзистора. Уменьшение толщины подложки еще более ухудшает прочностные характеристики транзистора.
Предлагаемое техническое решение позволяет устранить некоторые недостатки аналога.
Техническим результатом изобретения является улучшение теплового режима работы и повышение прочностных характеристик.
Технический результат достигается тем, что в мощном СВЧ полевом транзисторе, выполненном на полуизолирующей подложке с активным слоем повышенной проводимости, в виде периодического набора ячеек, причем внутри каждой ячейки последовательно расположены параллельные электроды стока, затвора, истока, затвора, стока, одноименные электроды истока и стока от различных ячеек соединены электрически, образуя цепи суммирования сигнала транзистора, исток выполнен в виде двух отдельных параллельных электродов, расположенных на активном слое и разделенных полуизолирующим промежутком, внутри полуизолирующего промежутка расположен дополнительный электрод затвора, соединенный одним концом с затворными цепями суммирования; расположенные вдоль одной линии, параллельной истоку и стоку, субзатворы образуют электрод затвора ячейки, субзатворы разделены между собой полуизолирующими областями и соединены перемычками с дополнительным электродом затвора, при этом электроды истока, дополнительного электрода затвора и стока выполнены удлиненными.
Сущность технического решения заключается в следующем.
Для улучшения температурного режима традиционно используются несколько подходов:
- увеличение расстояния между теплопровыделяющими областями, которыми являются части активного слоя повышенной проводимости между электродами затвора и стока, поскольку близко расположенные источники тепла повышают температуру не только в своих собственных окрестностях, но и в окрестностях соседних источников;
- уменьшение толщины полуизолирующей подложки - максимальная температура в транзисторе уменьшается в этом случае из-за уменьшения теплового сопротивления прибора.
- использование материалов подложки с высокой теплопроводностью.
Чаще всего, конструкторы используют утончение подложки.
Разделение электрода на два отдельных проводника и размещение дополнительного электрода затвора между ними позволяет за счет увеличения длины электродов, уменьшить площадь, занимаемой цепями суммирования что, в свою очередь, позволяет увеличить расстояние между тепловыделяющими областями. Такое увеличение предлагается использовать либо для улучшения теплового режима - при сохранении толщины подложки, либо для повышения прочностных характеристик транзистора - при увеличении толщины подложки и сохранении прежнего теплового режима.
Удлиняя электроды истока, затвора и стока можно сэкономить площадь, занимаемую цепями суммирования мощного транзистора. Сэкономленную площадь можно использовать для увеличения расстояния между тепловыделяющими элементами соседних ячеек. Это позволит либо улучшить тепловой режим работы транзистора, либо повысить прочностные характеристики этого прибора, делая полуизолирующую подложку более толстой.
При простом увеличении длины транзисторной ячейки тепловой режим работы транзистора также несколько ухудшается. К тому же, при увеличении длины электродов уровень управляющего высокочастотного сигнала уменьшается из-за большого сопротивления электрода затвора, имеющего меньшее относительно электродов истока и стока сечение, поскольку мощный полевой транзистор работает в высокочастотном диапазоне, что приводит к рассогласованной работе различных частей транзистора.
С этим явлением при традиционном подходе борются, располагая как сами ячейки транзистора, так и их цепи суммирования параллельно друг другу, что приводит к значительному увеличению одного из размеров получающейся чередующейся структуры и, следовательно, ухудшает прочностные характеристики транзистора. Достижение приемлемого соотношения продольного и поперечного размеров транзистора в такой структуре возможно лишь при максимально возможном уменьшении ширины транзисторной ячейки и толщины полупроводниковой подложки, обеспечивающие приемлемый тепловой режим работы транзистора. Однако, уменьшение толщины подложки еще более ухудшает прочностные характеристики транзистора.
Сделать электроды истока затвора и стока более длинными позволяет расположение дополнительного электрода на полуизолирующей области между электродами истока, а также выполнение электрода затвора ячейки из нескольких отдельных параллельных электродам истока и стока субзатворов, соединенных перемычками с дополнительным электродом, поскольку такая конструкция выравнивает уровень сигнала между отдельными, расположенными вдоль одной линии субзатворами.
Таким образом, предложенное техническое решение позволяет без изменения габаритных размеров улучшить тепловой режим работы прибора, либо повысить прочностные характеристики транзистора, увеличивая толщину полуизолирующей подложки.
Изобретение поясняется чертежами.
На фиг. 1 представлен внешний вид традиционного транзистора (а) и транзистора по предложенному техническому решению (б).
На фиг. 2 представлен внешний вид ячейки транзистора по предложенному техническому решению, где:
1 - расщепленный электрод истока;
2 - электрод субзатвора;
3 - электрод стока;
4 - дополнительный электрод затвора;
5 - перемычка, соединяющая субзатвор с дополнительным электродом затвора;
6 - полуизолирующая область, разделяющая субзатворы;
7 - полуизолирующая подложка.
На фиг. 3 схематично показано взаимное расположение областей тепловыделения и толщина полуизолирующей подложки традиционного транзистора (а) и транзистора по предложенному техническому решению (б).
На фиг. 4 показано распределение температуры по поверхности традиционного транзистора (а) и транзистора по предложенному техническому решению (б).
На фиг. 5 схематично показано расположение областей тепловыделения и толщина полуизолирующей подложки традиционного транзистора (а) и транзистора по предложенному техническому решению (б).
На фиг. 6 представлены графики распределения температуры по поверхности традиционного транзистора (а) и транзистора по предложенному техническому решению (б).
Мощный полевой транзистор работает следующим образом. Входной сигнал подается на удлиненные электроды истока (1) и дополнительный удлиненный электрод затвора (4). Далее сигнал проходит через перемычки (5), образующие воздушный мост, на субзатворы (2). Субзатворы (2) разделены полуизолирующими областями (6), при этом длина субзатворов меньше, чем длина электродов стока (3), истока (1) и дополнительного электрода затвора (4), что не дает сигналу заметно уменьшиться. Таким образом, все части транзистора работают согласовано. Выходной сигнал снимается с электродов истока (1) и стока (3), а область тепловыделения находится в активном слое в промежутке между электродами субзатвора и стока. Для отвода тепла применяют металлический теплоотвод, например, из золота.
Проведено сравнительное математическое моделирование транзистора по предложенному техническому решению и прототипа с помощью нелинейных эквивалентных схем этих приборов. Поскольку создание нового транзистора не требует применения новых технологий, эквивалентная схема нового транзистора строилась на основе метода масштабирования модели прототипа. Температура области тепловыделения в рабочем режиме рассчитывалась путем решения уравнений теплопроводности.
Пример 1. Моделирование транзисторов одинаковой площади и одинаковой толщины подложки. Проведено моделирование транзисторов с одинаковой площадью S0=1.31 мм2 и одинаковой толщиной подложки из одного материала (GaAs), равной 30 мкм (фиг.3). Один - с традиционной конструкцией транзисторной ячейки, другой - на основании заявляемого технического решения. Рассчитана максимальная температура области тепловыделения Tmax, а также получены графики распределения температуры по поверхности (фиг.4).
Результаты моделирования представлены в таблице 1.
Таблица 1.
S0
(мм2)
P0
(Вт)
Толщина подложки (мкм) Tmax°C Число
ячеек
Традиционный транзистор 1.31 8 30 190 96
Транзистор по предложенному
техническому решению
1.31 8 30 85 20
Пример 2. Моделирование транзисторов одинаковой площади и с одинаковой максимальной температурой тепловыделяющей области. Проведено моделирование транзисторов с одинаковой площадью S0=1.31 мм2 с подложкой из одного материала (GaAs) и одинаковой максимальной температурой тепловыделяющей области Tmax = 190±5°С. Один - с традиционной конструкцией транзисторной ячейки, другой - на основании заявляемого технического решения.
Рассчитаны параметры подложки, обеспечивающие сохранение теплового режима (максимальная температура области тепловыделения Tmax), а также получены графики распределения температуры по поверхности (фиг.6).
Результаты моделирования представлены в таблице 2.
Таблица 2.
S0
(мм2)
P0
(Вт)
Tmax°C Толщина подложки (мкм) Число
ячеек
Традиционный транзистор 1.31 8 190 30 96
Транзистор по предложенному
техническому решению
1.31 8 185 70 20
Таким образом, результаты моделирования доказали, что предложенная конструкция мощного полевого транзистора позволяет получить заявленный технический результат.

Claims (1)

  1. Мощный полевой транзистор СВЧ, выполненный на полуизолирующей подложке с активным слоем повышенной проводимости, в виде периодического набора ячеек, содержащих параллельные электроды стока, затвора, истока, причем одноименные электроды истока и стока от различных ячеек соединены электрически, образуя цепи суммирования сигнала транзистора, отличающийся тем, что исток выполнен в виде двух отдельных параллельных электродов, расположенных на активном слое и разделенных полуизолирующим промежутком, внутри полуизолирующего промежутка расположен дополнительный электрод затвора, соединенный одним концом с затворными цепями суммирования; расположенные вдоль одной линии, параллельной истоку и стоку, субзатворы образуют электрод затвора ячейки, субзатворы разделены между собой полуизолирующими областями и соединены перемычками с дополнительным электродом затвора, при этом электроды истока, дополнительного электрода затвора и стока выполнены удлиненными.
RU2024133882A 2024-11-12 Мощный полевой транзистор свч RU2841503C1 (ru)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2841503C1 true RU2841503C1 (ru) 2025-06-06

Family

ID=

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5233313A (en) * 1991-07-08 1993-08-03 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha High power field effect transistor amplifier
RU2463685C1 (ru) * 2011-06-07 2012-10-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственное предприятие "Исток" (ФГУП НПП "Исток") Мощный полевой транзистор свч
RU2784754C1 (ru) * 2021-12-30 2022-11-29 Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Исток" имени А.И. Шокина" (АО "НПП "Исток" им. Шокина") Полевой транзистор свч с барьером шоттки
US20230420553A1 (en) * 2022-06-27 2023-12-28 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited Semiconductor structure and method of manufacture

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5233313A (en) * 1991-07-08 1993-08-03 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha High power field effect transistor amplifier
RU2463685C1 (ru) * 2011-06-07 2012-10-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственное предприятие "Исток" (ФГУП НПП "Исток") Мощный полевой транзистор свч
RU2784754C1 (ru) * 2021-12-30 2022-11-29 Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Исток" имени А.И. Шокина" (АО "НПП "Исток" им. Шокина") Полевой транзистор свч с барьером шоттки
RU2787552C1 (ru) * 2022-04-29 2023-01-10 Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Исток" имени А.И. Шокина" (АО "НПП "Исток" им. Шокина") Мощный полевой транзистор свч
US20230420553A1 (en) * 2022-06-27 2023-12-28 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited Semiconductor structure and method of manufacture

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7443437B2 (ja) 改善されたドレイン相互接続部及び/又はゲート相互接続部、並びにフィンガ構造
US10483352B1 (en) High power transistor with interior-fed gate fingers
US11139373B2 (en) Scalable circuit-under-pad device topologies for lateral GaN power transistors
US11862536B2 (en) High power transistors
US8546852B2 (en) Semiconductor device
JPS61199669A (ja) エツジ・チヤネルfetとその製造方法
RU2463685C1 (ru) Мощный полевой транзистор свч
RU2841503C1 (ru) Мощный полевой транзистор свч
CN100505307C (zh) 包含用于高频应用的场效应晶体管的放大器
JP2001284367A (ja) 高周波用電界効果トランジスタ
RU2838425C1 (ru) Мощный СВЧ полевой транзистор
US20070138515A1 (en) Dual field plate MESFET
JP7764704B2 (ja) 半導体装置
RU2307424C1 (ru) Мощный свч полевой транзистор с барьером шотки
JP5562921B2 (ja) 半導体装置
JPH065858A (ja) 絶縁ゲート型半導体装置
Farzan et al. Depletion mos power transistors
JPS63211771A (ja) 電界効果型トランジスタ
JPH10290008A (ja) 半導体装置