RU2790249C1 - Фотоотверждаемые композиции для изготовления термостойких трехмерных объектов методом DLP 3D-печати - Google Patents

Фотоотверждаемые композиции для изготовления термостойких трехмерных объектов методом DLP 3D-печати Download PDF

Info

Publication number
RU2790249C1
RU2790249C1 RU2021134761A RU2021134761A RU2790249C1 RU 2790249 C1 RU2790249 C1 RU 2790249C1 RU 2021134761 A RU2021134761 A RU 2021134761A RU 2021134761 A RU2021134761 A RU 2021134761A RU 2790249 C1 RU2790249 C1 RU 2790249C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
photo
printing
heat
dlp
manufacture
Prior art date
Application number
RU2021134761A
Other languages
English (en)
Inventor
Бато Чингисович Холхоев
Ольга Сергеевна Коркунова
Виталий Федорович Бурдуковский
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Байкальский институт природопользования Сибирского отделения Российской академии наук (БИП СО РАН)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Байкальский институт природопользования Сибирского отделения Российской академии наук (БИП СО РАН) filed Critical Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Байкальский институт природопользования Сибирского отделения Российской академии наук (БИП СО РАН)
Application granted granted Critical
Publication of RU2790249C1 publication Critical patent/RU2790249C1/ru

Links

Abstract

Настоящее изобретение относится к фотоотверждаемой композиции для изготовления термостойких изделий заданной архитектуры методом DLP 3D-печати, отличающейся тем, что фотоотверждаемая композиция имеет следующий состав (мас.%): N-аллил-функционализированный поли-(м-фенилен)изофталамид со степенью функционализации 61-80% и молекулярной массой 30-60 кДа – 15-25; тиольный компонент, который выбран из тетракис(3-меркаптопропионат)пентаэритрита, бис-меркаптоацетата этиленгликоля, 1,3-димеркаптобензола, 1,4-димеркаптобензола – 9-25; бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенилфосфиноксид – 2; гидрохинон – 0,1; N-метил-2-пирролидон – 47,9-73,9. Настоящее изобретение обеспечивает уменьшение чувствительности фотоотверждаемой композиции к присутствию кислорода и влаги воздуха, увеличение термостойкости, механической прочности изделий и уменьшение времени их формирования. 4 пр.

Description

Изобретение относится к фотоотверждаемым композициям на основе термостойкого N-аллил-функционализированного ароматического полиамида и полифункциональных тиолов и может быть использовано для изготовления термостойких трехмерных объектов методом DLP 3D-печати.
Из существующего уровня техники известны аналоги - фотоотверждаемые композиции на основе различных моно-, ди- и полифункциональных (мет)акрилатных производных и фотоинициаторов, которые могут быть использованы для изготовления трехмерных полимерных объектов методом лазерной стереолитографии (патенты RU 2127444, RU 2515991, RU 2477290, RU 2244335). Общим недостатком указанных фотоотверждаемых композиций является чувствительность к присутствию кислорода и влаги воздуха, низкая термостойкость и механическая прочность получаемых изделий, что существенно ограничивает области их практического применения.
Наиболее близким по технической сущности к предлагаемому изобретению аналогом, принятого за прототип (патент RU 2684387), являются фотоотверждаемые композиции на основе поли-(м-фенилен)изофталамида с молекулярной массой 60 кДа, акриламидных соединений и фотоинициатора. Термостойкость изделий, сформированных методом лазерной стереолитографии на основе таких смол, составляет 370-390°С, а прочность на разрыв 86.8-90.3 МПа.
Техническим результатом настоящего изобретения является уменьшение чувствительности фотоотверждаемых композиций к присутствию кислорода и влаги воздуха, увеличение термостойкости, механической прочности изделий и уменьшение времени их формирования. Технический результат изобретения достигается за счет использования фотоотверждаемых композиций на основе термостойкого N-аллил-функционализированного поли-(м-фенилен)изофталамида со степенью функционализации 61-80% и молекулярной массой 30-60 кДа, алифатического или ароматического ди- или тетратиола, фотоинициатора - бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенилфосфиноксида, ингибитора радикальной полимеризации - гидрохинона и растворителя - N-метил-2-пирролидона. Отверждение композиции происходит в результате УФ-инициируемой тиол-еновой полимеризации, что предопределяет толерантность к присутствию кислорода и влаги воздуха. Уменьшение времени формирования изделий достигается благодаря использованию метода DLP 3D-печать, поскольку в этом случае каждый слой засвечивается диодной матрицей, а не сканируется лазерным лучом как в методе лазерной стереолитографии.
Фотоотверждаемая композиция имеет следующий состав (мас.%):
1. N-аллил-функционализированный поли-(м-фенилен)изофталамид - 15-25;
2. Тиольный компонент - 9-25;
3. Бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенилфосфиноксид - 2;
4. Гидрохинон - 0.1;
5. N-метил-2-пирролидон - 47.9-73.9.
N-аллил-функционализированный поли-(м-фенилен)изофталамид имеет следующий вид:
Figure 00000001
где y = 0.61n ÷ 0.80n.
В качестве тиольного компонента используются:
1. Тетракис(3-меркаптопропионат)пентаэритрит
Figure 00000002
2. Бис-меркаптоацетат этиленгликоля
Figure 00000003
3. 1,3-димеркаптобензол
Figure 00000004
4. 1,4-димеркаптобензол
Figure 00000005
Формирование трехмерных объектов на основе фотоотверждаемых композиций осуществлялось технологией DLP 3D-печати с использованием светодиодного излучения со следующими характеристиками: длина волны 405 нм, мощность излучения 30 мВт. Подвод светодиодного излучения производился снизу перпендикулярно поверхности композиции. Толщина слоя составляла 10-50 мкм, время засветки одного слоя - 10-30 секунд.
Полученные таким образом материалы заданной геометрической формы согласно данным термического анализа при скорости нагревания 10 град/мин не плавятся вплоть до начала деструкции, которая происходит при 380-445°С, что свидетельствует об их высокой термостойкости. Прочность на разрыв материалов составляет 87.9-129.5 МПа.
Предлагаемое изобретение подтверждается следующими примерами.
Пример 1. К 65 г N-метил-2-пирролидона добавляли 20 г N-аллил-функционализированного поли-(м-фенилен)изофталамида (степень функционализации 80%), 12.9 г тетракис(3-меркаптопропионат)пентаэритрита, 2 г фотоинициатора бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенилфосфиноксида, 0.1 г гидрохинона и интенсивно перемешивали до полной гомогенизации. Полученную композицию подвергали светодиодному излучению с λ=405 нм. В результате получали изделие, которое после тщательного промывания и сушки в вакууме при постепенном подъеме температуры от 20 до 200°C начинало деструктировать при 380°С. Образцы имеют следующие механические характеристики: прочность на разрыв 87.9±3.8 МПа, относительное удлинение при разрыве 22.3±1.6%.
Пример 2. К 67.5 г N-метил-2-пирролидона добавляли 20 г N-аллил-функционализированного поли-(м-фенилен)изофталамида (степень функционализации 61%), 10.4 г тетракис(3-меркаптопропионат)пентаэритрита, 2 г фотоинициатора бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенилфосфиноксида, 0.1 г гидрохинона и интенсивно перемешивали до полной гомогенизации. Полученную композицию подвергали светодиодному излучению с λ=405 нм. В результате получали изделие, которое после тщательного промывания и сушки в вакууме при постепенном подъеме температуры от 20 до 200°C начинало деструктировать при 389°С. Образцы имеют следующие механические характеристики: прочность на разрыв 95.1±4.9 МПа, относительное удлинение при разрыве 16.8±1.2%.
Пример 3. К 66.8 г N-метил-2-пирролидона добавляли 20 г N-аллил-функционализированного поли-(м-фенилен)изофталамида (степень функционализации 80%), 11.1 г бис-меркаптоацетата этиленгликоля, 2 г фотоинициатора бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенилфосфиноксида, 0.1 г гидрохинона и интенсивно перемешивали до полной гомогенизации. Полученную композицию подвергали светодиодному излучению с λ=405 нм. В результате получали изделие, которое после тщательного промывания и сушки в вакууме при постепенном подъеме температуры от 20 до 200°C начинало деструктировать при 382°С. Образцы имеют следующие механические характеристики: прочность на разрыв 83.4±3.2 МПа, относительное удлинение при разрыве 19.6±1.4%.
Пример 4. К 63.5 г N-метил-2-пирролидона добавляли 25 г N-аллил-функционализированного поли-(м-фенилен)изофталамида (степень функционализации 80%), 9.4 г 1,3-димеркаптобензола, 2 г фотоинициатора бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенилфосфиноксида, 0.1 г гидрохинона и интенсивно перемешивали до полной гомогенизации. Полученную композицию подвергали светодиодному излучению с λ=405 нм. В результате получали изделие, которое после тщательного промывания и сушки в вакууме при постепенном подъеме температуры от 20 до 200°C начинало деструктировать при 445°С. Образцы имеют следующие механические характеристики: прочность на разрыв 129.5±4.6 МПа, относительное удлинение при разрыве 11.1±0.9%.
Как видно из приведенных примеров, фотоотверждаемые композиции выгодно отличаются от известных по совокупности эксплуатационных характеристик изделий на их основе.
Вышеперечисленный комплекс практически полезных свойств изделий на основе полученных фотоотверждаемых композиций определяет положительный эффект изобретения. Полученные фотоотверждаемые композиции могут быть использованы для DLP 3D-печати при получении термостойких изделий заданной архитектуры.

Claims (6)

  1. Фотоотверждаемая композиция для изготовления термостойких изделий заданной архитектуры методом DLP 3D-печати, отличающаяся тем, что фотоотверждаемая композиция имеет следующий состав (мас.%):
  2. N-аллил-функционализированный поли-(м-фенилен)изофталамид со степенью функционализации 61-80% и молекулярной массой 30-60 кДа – 15-25;
  3. тиольный компонент, который выбран из тетракис(3-меркаптопропионат)пентаэритрита, бис-меркаптоацетата этиленгликоля, 1,3-димеркаптобензола, 1,4-димеркаптобензола – 9-25;
  4. бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенилфосфиноксид – 2;
  5. гидрохинон – 0,1;
  6. N-метил-2-пирролидон – 47,9-73,9.
RU2021134761A 2021-11-29 Фотоотверждаемые композиции для изготовления термостойких трехмерных объектов методом DLP 3D-печати RU2790249C1 (ru)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2790249C1 true RU2790249C1 (ru) 2023-02-15

Family

ID=

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8440736B2 (en) * 2008-04-07 2013-05-14 University Of Southern Mississippi Photocuable thiol-ene low gas permeability membranes
RU2684387C2 (ru) * 2017-05-03 2019-04-08 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Байкальский институт природопользования Сибирского отделения Российской академии наук (БИП СО РАН) Фотополимерная композиция для изготовления термостойких объектов методом лазерной стереолитографии
EP3585824A2 (en) * 2017-02-22 2020-01-01 Poly6 Technologies, Inc. Curable and solvent soluble formulations and methods of making and using thereof
US20200283548A1 (en) * 2017-09-18 2020-09-10 The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate 3d printing with polymeric nanogel particles

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8440736B2 (en) * 2008-04-07 2013-05-14 University Of Southern Mississippi Photocuable thiol-ene low gas permeability membranes
EP3585824A2 (en) * 2017-02-22 2020-01-01 Poly6 Technologies, Inc. Curable and solvent soluble formulations and methods of making and using thereof
US20200062877A1 (en) * 2017-02-22 2020-02-27 Ioana Knopf Curable and Solvent Soluble Formulations and Methods of Making and Using Therof
RU2684387C2 (ru) * 2017-05-03 2019-04-08 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Байкальский институт природопользования Сибирского отделения Российской академии наук (БИП СО РАН) Фотополимерная композиция для изготовления термостойких объектов методом лазерной стереолитографии
US20200283548A1 (en) * 2017-09-18 2020-09-10 The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate 3d printing with polymeric nanogel particles

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Д.В. Ганин и др., Фотоотверждаемая полимерная композиция на основе термостойкого ароматического полиамида для формирования оптических элементов методом двухфотонной полимеризации / Оптика и спектроскопия, 2020, том 128, вып. 7, стр.903-908. Ali Bagheri et al., Photopolymerization in 3D Printing / ACS Appl. Polym. Mater. 2019, Vol.1, pp. 593−611. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3861037B1 (en) Resin composition
Resetco et al. Thiol–ene chemistry for polymer coatings and surface modification–building in sustainability and performance
CN105121513B (zh) 烯硫醇系固化性组合物及其固化物
Manaila et al. Radiation vulcanization of natural rubber with polyfunctional monomers
JP2008519887A (ja) 両親媒性ブロックコポリマーにより靭性を付与したエポキシビニルエステル及び不飽和のポリエステル樹脂
JP2024045145A (ja) 積層造形技術を用いた、放射線硬化性チオール系組成物の加工プロセス
JP2024511283A (ja) 物体の3d印刷のためのハイブリッド樹脂組成物
Strohmeier et al. Digital light processing 3D printing of modified liquid isoprene rubber using thiol-click chemistry
CN109867760B (zh) 一种3d打印用腰果酚基光敏树脂及其制备方法
KR20170010309A (ko) 인쇄에 적합한 수지 조성물 및 이를 이용한 인쇄 방법
EP3418313A1 (en) Composition optical three-dimensional molding
RU2790249C1 (ru) Фотоотверждаемые композиции для изготовления термостойких трехмерных объектов методом DLP 3D-печати
KR20220016453A (ko) 적층 제조에 의해 생성되는 부분들을 신속하게 경화시키고 코팅하는 방법론들
Chan et al. Peptide domains as reinforcement in protein-based elastomers
Johnson et al. Lignin‐based covalent adaptable network resins for digital light projection 3D printing
Rossegger et al. 3D Printing of Soft Magnetoactive Devices with Thiol‐Click Photopolymer Composites
CN116802237A (zh) 用于增材制造韧性物体的可辐射固化组合物
JP2024054256A (ja) 焼結物品を形成するのに有用な組成物及び方法
Gerdroodbar et al. Vitrimer chemistry for 4D printing formulation
US11739216B2 (en) Biodegradable protein-based plastics with improved mechanical strength and water resistance
RU2792647C1 (ru) Фоточувствительные композиции для изготовления термостойких механически прочных объектов методом DLP 3D-печати
CN111909320A (zh) 一种光固化3d打印改性聚乳酸复合光敏树脂及其制备方法
JP2023506819A (ja) 積層造形法用のポリエステル含有組成物
JP4788863B2 (ja) 光学的立体造形用樹脂組成物及び光学的立体造形方法
JP2018076455A (ja) 光学的立体造形用組成物