RU2639767C1 - Устройство для облучения образцов материалов электронами - Google Patents

Устройство для облучения образцов материалов электронами Download PDF

Info

Publication number
RU2639767C1
RU2639767C1 RU2016150753A RU2016150753A RU2639767C1 RU 2639767 C1 RU2639767 C1 RU 2639767C1 RU 2016150753 A RU2016150753 A RU 2016150753A RU 2016150753 A RU2016150753 A RU 2016150753A RU 2639767 C1 RU2639767 C1 RU 2639767C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
chamber
electrons
materials
diaphragm
sample
Prior art date
Application number
RU2016150753A
Other languages
English (en)
Inventor
Николай Павлович Бобырь
Дмитрий Ильич Черкез
Артем Алексеевич Медников
Александр Викторович Спицын
Сергей Станиславович Ананьев
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт" filed Critical Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт"
Priority to RU2016150753A priority Critical patent/RU2639767C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2639767C1 publication Critical patent/RU2639767C1/ru

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H5/00Direct voltage accelerators; Accelerators using single pulses

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

Изобретение относится к устройству для облучения образцов материалов электронами. Заявленное устройство состоит из герметичной камеры, представляющей собой цилиндрический корпус с патрубками, разделенный изолятором на две части, внутри которой расположены держатель образца, соединенный со средствами охлаждения, термопар, соединенных с вакуумным токовводом, расположенным на торцевой крышке камеры. На входе камеры установлена диафрагма для точной подачи электронов на образец. Техническим результатом является возможность проведения облучения образцов материалов потоком электронов от внешнего источника (ускорителя электронов). 3 з.п. ф-лы, 1 ил.

Description

Область техники
Изобретение относится к вакуумной технике, технике ускорителей и может быть использовано в области исследования взаимодействия электронов с материалами (металлами и их сплавами), а так же в области исследования влияния электронно-индуцированных дефектов структуры на свойства материалов.
Уровень техники
Устройства для облучения образцов материалов широко известны. Они, как правило, выполнены в различных конструктивных решениях и имеют однотипные по назначению элементы: ускоритель, пучок электронов которого проходит через диафрагму и попадает на образец материала, соединенного с различного рода измерительной аппаратурой (см., например, а.с. №1492321).
Известно устройство для облучения электронами рулонированных материалов (текстильных полотен, полимерных плёнок) (авторское свидетельство SU 812151). Данное устройство содержит ускоритель электронов, радиационную защиту и транспортную систему для подачи материала в зону облучения и вывода из неё. Для уменьшения габаритов и повышения качества облучаемого материала транспортная система выполнена в виде вращающегося барабана, установленного на подшипниковых опорах в кольцевой цилиндрической полости, образованной блоками радиационной защиты, коаксиально с этой полостью. На обечайке барабана имеются отверстия, конфигурация которых соответствует заданной форме локального облучения, а источник облучения расположен в барабане.
Данное устройство адаптировано только для облучения предметов, имеющих плоскую форму, обладающих достаточной гибкостью, и не может быть использовано для облучения образцов небольших размеров.
Известно устройство для облучения ускоренными электронами (авторское свидетельство SU 1828380), содержащее ускоритель электронов, из которого ускоренный пучок электронов по вакуумному электронопроводу попадает на вход импульсного электромагнита, к обмотке которого подключён генератор биполярных импульсов тока и генератор тока развертки, и, далее, в вакуумную камеру с окнами, на которых размещены электромагниты. Поле этих магнитов обеспечивают вход электронов в облучаемый объект под углом, близким к 90°.
Недостатком данного устройства является то, что электронно-оптические свойства магнитного поля зависят от величины зазора между полюсами электромагнитов и ширины выпускного окна, что затрудняет получение достаточно однородного поля облучения.
Вышеописанные устройства разработаны под конкретный источник электронов, который является одной из составных частей устройства и взаимосвязан с его другими узлами, и не подлежит замене в случае выхода из строя.
Наиболее близкого по технической сущности аналога к заявляемому изобретению не выявлено, поскольку устройства для облучения образцов материалов разрабатываются индивидуально под имеющийся в наличии ускоритель электронов и каждую конкретную научную задачу.
Раскрытие сущности изобретения
Техническим результатом изобретения является создание автономного универсального устройства, позволяющего проводить облучение образцов материалов (металлов и их сплавов) потоком электронов от внешнего источника (ускорителя электронов).
Для достижения этого результата предложено устройство для облучения образцов материалов электронами, состоящее из герметичной камеры, выполненной в виде цилиндрического корпуса с патрубками, разделённого изолятором на две части, на входе которой установлена диафрагма, внутри которой расположены водоохлаждаемый держатель образцов, соединённый со средствами охлаждения, и установленными на нем средствами измерения температуры, электрически связанными с вакуумным токовводом, расположенным на торцевой крышке камеры, при этом корпус камеры соединён с патрубком вакуумной откачки и патрубком для установки датчика измерения давления.
Кроме того:
- в диафрагме выполнено отверстие, конфигурация которого соответствует заданной форме локального облучения,
- средства охлаждения выполнены в виде трубок подачи и вывода воды, выведенных через торцевую крышку камеры наружу,
- средства измерения температуры выполнены в виде термопар.
Краткое описание чертежей
На чертеже схематично представлено устройство для облучения образцов материалов электронами.
Устройство содержит камеру 1, разделённую изолятором 6 на две части, внутри которой расположен водоохлаждаемый держатель образцов 2. На входе герметичной камеры расположена диафрагма 3 для формирования пучка электронов нужной конфигурации, отверстие которой соответствует заданной форме локального облучения, в частности отверстие выполнено в виде квадрата размером 22*22 мм, в котором все углы скруглены четвертью окружности с радиусом 3 мм. Камера 1 снабжена патрубком для вакуумной откачки 4 и патрубком 5 для присоединения датчика давления, например манометра. Кроме того, на торцевой крышке камеры 1 расположен вакуумный токоввод 8, к которому присоединены термопары 9.
Держатель образцов 2 охлаждается водой, которая поступает и отводится по трубкам водоохлаждения 7 за пределы камеры 1.
Габаритные размеры реально изготовленного образца устройства составляют 115*180*540 мм.
Осуществление изобретения
Устройство для облучения образцов материалов электронами работает следующим образом.
Устройство в сборе присоединяется к выходному фланцу любого линейного ускорителя электронов со стороны диафрагмы 3, таким образом, чтобы пучок электронов располагался осесимметрично с камерой 1. Устройство подключается к системе проточного водоснабжения посредством трубок водоохлаждения 7, соединенных с полым держателем образцов 2.
В держатель образцов 2 закрепляется исследуемый образец материала 10. Затем из камеры откачивается воздух и создаётся вакуум не хуже 10-5 Па, предотвращающий загрязнение поверхности образца посторонними веществами. Для этих целей можно использовать имеющуюся в присоединённом источнике электронов (ускорителе электронов) систему откачки, либо присоединить дополнительную систему откачки, используя патрубок для вакуумной откачки 4. Измерение остаточного давления в камере может производиться манометром, присоединенным к патрубку 5. Для измерения температуры образца используются установленные на нем термопары 9 (до 6 штук), сигнал с которых поступает на вакуумный токоввод 8 и контролируется дополнительно присоединённой к нему измерительной аппаратурой (на чертеже не показана).
Из линейного ускорителя электронов на исследуемый образец 10 подавался пучок электронов с интенсивностью 1-1015 эл/с⋅см2 и происходило его облучение. В ходе проведения облучения возможно измерение токовых характеристик пучка путем присоединения измерительной аппаратуры к части устройства электрически изолированной от камеры взаимодействия изолятором 6, например, торцевой крышке камеры 1 или трубкам водоохлаждения 7.
Камера 1 изготавливается из коррозионностойкой стали и предназначена для размещения в ней всех составных частей устройства. Водоохлаждаемый держатель образцов 2 изготовлен из меди и предназначен для размещения на нём образцов материалов; за счет проходящих через держатель трубок 7 с проточным водоснабжением происходит интенсивное охлаждение образца в процессе его облучения электронами и поддержания заданной температуры образца.
Диафрагма 3 выполнена из коррозионностойкой стали и предназначена для ограничения падающего потока электронов за счет того, что электроны либо не проникают через толщу материала (30 мм), либо существенно снижают свою энергию проходя через диафрагму. Таким образом, электроны с необходимой энергией проходят только в отверстие в центре диафрагмы, конфигурация которого соответствует заданной форме локального облучения. Это позволяет точно контролировать поток электронов, падающий на образец и профиль их распределения. Размеры диафрагмы могут быть рассчитаны под конкретные исследования.
Патрубок для вакуумной откачки 4 имеет фланцевое соединение для присоединения к нему системы откачки воздуха.
Патрубок 5 предназначен для закрепления на нём манометра, позволяющего контролировать давление внутри камеры.
Изолятор изготавливается из вакуумплотного керамического электроизолирующего материала и разделяет камеру на две части. Он предназначен для разделения электрических сигналов в процессе измерения зарядовых характеристик падающих электронов (отдельно для держателя для образцов и отдельно для диафрагмы). Электрическое разделение герметической камеры и водоохлаждаемого держателя образцов позволяет контролировать потоки электронов на различные части устройства. Для измерения электрических сигналов стандартная измерительная аппаратура (на фигуре не показана) присоединяется к любому токопроводящему элементу каждой части в отдельности.
Вакуумный токоввод 8 предназначен для подсоединения к нему термопар (до 6 штук) и измерительной аппаратуры. Таким образом, осуществляется непрерывное измерение температуры образца материала.
В ходе практического применения устройства были облучены образцы вольфрама. В качестве источника электронов был использован линейный ускоритель электронов со следующими параметрами: средняя энергия электронов 10 МэВ, импульсный ток 400 мА, длительность импульса 4-7 мксек, частота 10-50 Гц. Облучение происходило в непрерывном режиме в течение 29 ч при температуре образцов в диапазоне 50-150°C. В результате были получены образцы вольфрама, облученные потоком электронов 5*1013 эл/с⋅см2 до дозы 5*10 эл/с⋅см2. Для измерения температуры образцов в ходе облучения использовались 2 хромель-алюмелевые термопары. Для измерения токовых характеристик был использован осциллограф, измерявший падение напряжения на сопротивлении 50 Ом при прохождении через него импульсного тока, создаваемого в электрической цепи при попадании пучка электронов в держатель для образцов.
Таким образом, устройство для облучения образцов материалов электронами для последующего изучения его внутренней структуры позволяет повысить точность попадания потока электронов на исследуемый образец, контролировать количественные значения потока электронов, температуры образца и давления внутри камеры.
Преимуществом устройства является его автономность и универсальность, т.е. возможность присоединения к любому источнику электронов с помощью фланцевого соединения. Кроме того, имеется возможность подключения к устройству независимой системы вакуумной откачки, а также дополнительных измерительных устройств.

Claims (4)

1. Устройство для облучения образцов материалов электронами, состоящее из герметичной камеры, выполненной в виде цилиндрического корпуса с патрубками, разделенного изолятором на две части, на входе которой установлена диафрагма, а внутри которой расположены водоохлаждаемый держатель образцов, соединенный со средствами охлаждения, и установленными на нем средствами измерения температуры, электрически связанными с вакуумным токовводом, расположенным на торцевой крышке камеры, при этом корпус камеры соединен с патрубком вакуумной откачки и патрубком для установки датчика измерения давления.
2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что в диафрагме выполнено отверстие, конфигурация которого соответствует заданной форме локального облучения.
3. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что средства охлаждения выполнены в виде трубок подачи и вывода воды, выведенных через торцевую крышку камеры наружу.
4. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что средства измерения температуры выполнены в виде термопар.
RU2016150753A 2016-12-23 2016-12-23 Устройство для облучения образцов материалов электронами RU2639767C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016150753A RU2639767C1 (ru) 2016-12-23 2016-12-23 Устройство для облучения образцов материалов электронами

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016150753A RU2639767C1 (ru) 2016-12-23 2016-12-23 Устройство для облучения образцов материалов электронами

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2639767C1 true RU2639767C1 (ru) 2017-12-22

Family

ID=63857479

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016150753A RU2639767C1 (ru) 2016-12-23 2016-12-23 Устройство для облучения образцов материалов электронами

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2639767C1 (ru)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU186334U1 (ru) * 2018-10-19 2019-01-16 Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт" Держатель для облучения образцов заряженными частицами
RU200780U1 (ru) * 2020-07-09 2020-11-11 Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт" Держатель для облучения образцов на линейном плазменном генераторе
RU210024U1 (ru) * 2021-11-22 2022-03-24 Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт" Диодный узел для исследования прочностных свойств материалов облицовки плазменных установок при мощном импульсном энерговыделении

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU708544A1 (ru) * 1977-08-12 1980-01-05 Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом институте им. С.М.Кирова Устройство дл инжекции сильноточного электронного пучка в установку с магнитным полем
SU812151A1 (ru) * 1978-09-07 1984-03-30 Научно-исследовательский институт электрофизической аппаратуры им.Д.В. Ефремова Устройство дл облучени электронами
SU1828380A1 (ru) * 1991-06-27 1996-02-10 Научно-исследовательский институт электрофизической аппаратуры им.Д.Е.Ефремова Устройство для облучения ускоренными электронами
KR200451495Y1 (ko) * 2009-04-29 2010-12-21 이비테크(주) 전자선 가속장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU708544A1 (ru) * 1977-08-12 1980-01-05 Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом институте им. С.М.Кирова Устройство дл инжекции сильноточного электронного пучка в установку с магнитным полем
SU812151A1 (ru) * 1978-09-07 1984-03-30 Научно-исследовательский институт электрофизической аппаратуры им.Д.В. Ефремова Устройство дл облучени электронами
SU1828380A1 (ru) * 1991-06-27 1996-02-10 Научно-исследовательский институт электрофизической аппаратуры им.Д.Е.Ефремова Устройство для облучения ускоренными электронами
KR200451495Y1 (ko) * 2009-04-29 2010-12-21 이비테크(주) 전자선 가속장치

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU186334U1 (ru) * 2018-10-19 2019-01-16 Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт" Держатель для облучения образцов заряженными частицами
RU200780U1 (ru) * 2020-07-09 2020-11-11 Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт" Держатель для облучения образцов на линейном плазменном генераторе
RU210024U1 (ru) * 2021-11-22 2022-03-24 Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт" Диодный узел для исследования прочностных свойств материалов облицовки плазменных установок при мощном импульсном энерговыделении

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2639767C1 (ru) Устройство для облучения образцов материалов электронами
CN101297218B (zh) 用于检测电子束的暴露的导体件系统和方法
US10616989B2 (en) Plasma generation apparatus including measurement device and plasma thruster
Zhi et al. Tuning of the cosmic-ray test system of the BESIII drift chamber
CN111077561B (zh) 一种残留气体带电粒子束流监测装置及其方法
Drabinskiy et al. Conceptual design of the heavy ion beam probe diagnostic for the T-15MD tokamak
JP2010096763A (ja) 電離真空計用分子シールド
US3105899A (en) Electric mass filter
CN106707328B (zh) 一种利用单质子径迹成像的中子能谱测量装置及测量方法
Shcherbakov et al. An experimental study of current-density distributions of a technological electron beam
Wyckoff et al. The spatial asymmetry of Cerenkov radiation as a function of electron energy
CN111068189A (zh) 一种医用加速器、剂量监测系统及其剂量监测方法
Budin et al. An experimental stand for studying a high-current discharge in a dense gas
RU187849U1 (ru) Устройство для определения профиля распределения плотности ионов в пучках
RU186334U1 (ru) Держатель для облучения образцов заряженными частицами
RU2509389C1 (ru) Источник мягкого рентгеновского излучения на основе разборной рентгеновской трубки
JP2013004246A (ja) X線源
KR20150090502A (ko) 형광 분석용 디지털 엑스레이 소스
RU210024U1 (ru) Диодный узел для исследования прочностных свойств материалов облицовки плазменных установок при мощном импульсном энерговыделении
JP2019067942A (ja) 材料評価装置
JP7394350B2 (ja) 荷電粒子のビームを特性評価するためのシステムおよびそのようなシステムを含む荷電粒子のビームを生成するための機械
JP2018198136A (ja) 負イオン源装置
Artyomov et al. Radiographic research of the Bi plasma jet formed by the vacuum arc discharge
Di Ruzza Possibility of Total Ionizing Dose Effects measurements for LHC experiments elements in a medical facility: the TIFPA-INFN experience
Rout et al. A magnetic spectrograph for angular distribution measurements