RU2599587C1 - Устройство для нанесения диффузионных покрытий - Google Patents
Устройство для нанесения диффузионных покрытий Download PDFInfo
- Publication number
- RU2599587C1 RU2599587C1 RU2015120148/02A RU2015120148A RU2599587C1 RU 2599587 C1 RU2599587 C1 RU 2599587C1 RU 2015120148/02 A RU2015120148/02 A RU 2015120148/02A RU 2015120148 A RU2015120148 A RU 2015120148A RU 2599587 C1 RU2599587 C1 RU 2599587C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- ion source
- chamber
- target
- anode
- holder
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/46—Sputtering by ion beam produced by an external ion source
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий на изделия и может быть использовано для вакуумно-плазменной обработки изделий, в том числе оснастки, инструмента и деталей в машиностроении, деревообработке, теплоэнергетике, приборостроении и других областях. Техническим результатом изобретения является расширение функциональных возможностей устройства за счет создания условий для нанесения многокомпонентных (однофазных или многофазных) и/или многослойных покрытий, а также переходных слоев на обрабатываемые изделия. Камера источника ионов устройства сформирована двумя коаксиальными цилиндрами, ограниченными с одной стороны кольцевым участком стенки вакуумной камеры, а с другой стороны - прикрепленной через изоляторы к коаксиальным цилиндрам кольцевой пластиной, выполняющей роль анода источника ионов и имеющей по меньшей мере одно кольцевое щелевое отверстие, соосное с цилиндрическими стенками камеры источника ионов. Мишень расположена вне камеры источника ионов и закреплена параллельно аноду соосно с кольцевым отверстием. Держатель обрабатываемого изделия имеет цилиндрическую форму и установлен внутри меньшего из цилиндров камеры источника ионов вдоль оси источника ионов. На торце держателя обрабатываемых изделий закреплен узел фиксации обрабатываемых изделий, расположенный на уровне анода и параллельно ему. 3 з.п. ф-лы, 3 ил.
Description
°°°°°°°Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий на изделия и может быть использовано для вакуумно-плазменной обработки изделий, в том числе оснастки, инструмента и деталей в машиностроении, деревообработке, теплоэнергетике, приборостроении и других областях.
Известна установка «Булат-6», которая предназначена для синтеза твердых материалов из дугового разряда и нанесения их в виде диффузионных покрытий на горячие детали инструментальной оснастки и детали машин. Она содержит вакуумную камеру, блок управления, высоковольтный выпрямитель и электрические источники питания дуговых испарителей. Установка снабжена системой подачи плазмообразующего газа с автоматическим поддержанием давления в камере в диапазоне от 0,1 до 15 Па. [Справочник оператора установок по нанесению покрытий в вакууме / А.И. Костржицкий, в. Ф. Карпов, М.П. Кабанченко и др. - М.: Машиностроение, 1991. - 176 с.]. Недостатком установки является то, что адгезионная связь образованных покрытий не обеспечивает прочную связь покрытия с поверхностью изделия, что приводит к отслоению покрытий в процессе эксплуатации изделия, а также то, что при нанесении покрытия деталь должна иметь температуру поверхности порядка 800 градусов Цельсия, необходимую для диффузионного нанесения покрытия.
Наиболее близким к изобретению является "Устройство для распыления материалов в вакууме" (RU №2049152, С23С 14/46). Устройство состоит из вакуумной камеры, внутри которой размещены источник ионов, распыляемая ионами мишень и обрабатываемое изделие, на которое происходит нанесение покрытия из материала мишени. Ионы из источника фокусируются на мишень различной формы, а распыляемый материал осаждается на поверхность обрабатываемого изделия. Смена распыляемого участка мишени осуществляется за счет перемещения мишени или источника ионов.
Основным недостатком вышеописанного устройства является невозможность фокусировки пучка ионов одновременно на несколько участков мишени, состоящих из разных материалов. Данный недостаток не позволяет наносить на изделия многокомпонентные и/или многослойные покрытия.
Техническим результатом изобретения является расширение функциональных возможностей напылительного устройства за счет создания условий для нанесения многокомпонентных (однофазных или многофазных) и/или многослойных покрытий, а также переходных слоев на обрабатываемые изделия.
Технический результат достигается тем, что в известном устройстве, содержащем вакуумную камеру, источник ионов, систему откачки, мишень, систему напуска рабочих газов, держатель обрабатываемого изделия, камера источника ионов сформирована двумя коаксиальными цилиндрами, ограниченными с одной стороны кольцевым участком стенки вакуумной камеры, а с другой стороны - прикрепленной через изоляторы к коаксиальным цилиндрам кольцевой пластиной, выполняющей роль анода источника ионов и имеющей, как минимум, одно кольцевое щелевое отверстие, соосное с цилиндрическими стенками камеры источника ионов, а мишень расположена вне камеры источника ионов и закреплена параллельно аноду соосно с кольцевым отверстием, кроме того, держатель обрабатываемого изделия имеет цилиндрическую форму и установлен внутри меньшего из цилиндров камеры источника ионов вдоль оси источника ионов, а на торце держателя обрабатываемых изделий закреплен узел фиксации обрабатываемых изделий, расположенный на уровне анода и параллельно ему.
Аксиальная симметрия источника ионов позволяет получать равномерные потоки распыленного с мишени материала на обрабатываемое изделие, а анод, выполненный, как минимум, с одним кольцевым щелевым отверстием, позволяет производить смену распыляемого участка мишени без перемещения источника ионов и мишени, кроме того, узел фиксации обрабатываемых изделий, расположенный на уровне анода и параллельно ему, позволяет осаждать наибольшее количество атомов, распыленных с мишени, на обрабатываемом изделии.
В частном случае мишень может быть выполнена в виде коаксиальных колец из различных по отношению друг к другу материалов так, что внешний диаметр меньшего по размерам из двух соседних колец меньше, чем внутренний диаметр большего по размерам из двух соседних колец, что позволяет эффективно использовать площадь мишени, т.е. не образуется участков мишени, затеняющих друг друга.
В другом частном случае распыляемые поверхности каждого из коаксиальных колец мишени могут иметь форму усеченного прямого кругового конуса с таким углом наклона, что перпендикуляр, проведенный через середину образующей конуса, пересекает поверхность обрабатываемого изделия, что дает возможность более эффективно расходовать материал мишени, а также увеличить скорость напыления.
Кроме того, источник ионов может быть дополнен, как минимум, одним накальным катодом, закрепленным на стенке вакуумной камеры внутри пространства камеры источника ионов, что позволяет более гибко варьировать процесс обработки изделия.
На фиг. 1 представлена общая схема устройства, на фиг. 2 - схема устройства с мишенью, выполненной в виде коаксиальных колец, а на фиг. 3 - схема устройства с мишенью, выполненной в виде коаксиальных колец, с распыляемыми поверхностями, имеющими форму усеченных конусов, где 1 - вакуумная камера, 2 - источник ионов, 3 - система напуска рабочих газов, 4 - система вакуумной откачки, 5 - мишень, 6 - держатель обрабатываемого изделия, 7 - анод источника ионов, 8 - катод источника ионов, 9 - узел фиксации обрабатываемых изделий, 10 - система питания мишени, 11 - система питания источника ионов, 12 - обрабатываемое изделие.
Внутри вакуумной камеры 1 закреплен источник ионов 2. Камера источника ионов 2 сформирована двумя коаксиальными цилиндрами, ограниченными с одной стороны кольцевым участком стенки вакуумной камеры, а с другой стороны - прикрепленной через изоляторы к коаксиальным цилиндрам кольцевой пластиной, выполняющей роль анода 7 источника ионов и имеющей, как минимум, одно кольцевое щелевое отверстие, соосное с цилиндрическими стенками камеры источника ионов. Катоды 8 закреплены на стенке вакуумной камеры 1 внутри пространства камеры источника ионов 2 через изоляторы. Мишень 5, выполненная в виде коаксиальных колец из различных по отношению друг к другу материалов так, что внешний диаметр меньшего по размерам из двух соседних колец меньше, чем внутренний диаметр большего по размерам кольца, расположена вне камеры источника ионов 2 и закреплена параллельно аноду 7 источника ионов 2 соосно с кольцевым отверстием. Держатель обрабатываемого изделия 6 имеет цилиндрическую форму и установлен внутри меньшего из цилиндров камеры источника ионов 2 вдоль оси источника ионов, а на торце держателя обрабатываемых изделий закреплен узел фиксации обрабатываемых изделий 9, расположенный на уровне анода 7 источника ионов 2 и параллельно ему
Устройство работает следующим образом.
Обрабатываемое изделие 12 крепится в узле фиксации обрабатываемых изделий 9. Вакуумная камера 1 откачивается до давления 10-4…10-6 Па с помощью системы вакуумной откачки 4. В камеру ионного источника 2 с помощью системы напуска рабочих газов 3 напускается рабочий газ до давления 1…10-3 Па, один из катодов 8 накаляется электрическим током до температуры 1700-1800°С, на анод 7 источника ионов 2 подается напряжение +100…200 В относительно катода, в результате чего внутри камеры источника ионов 2 зажигается несамостоятельный газовый разряд с накальным катодом 8. На распыляемую мишень 5 подается напряжение 10…25 кВ относительно анода. Электроны плазмы отталкиваются от мишени 5, плазма «задавливается» внутрь плазменной камеры 2, граница плазмы отодвигается от анода и принимает форму вогнутого внутрь плазменной камеры мениска. Таким образом, положительно заряженные ионы, бомбардирующие мишень, вытягиваются с вогнутой границы плазмы, в результате чего происходит фокусировка ионного пучка на мишени. Изменения потенциала мишени, мощности разряда, а также взаимного расположения частей мишени и анода источника ионов позволяют обеспечить заданную скорость напыления, заданный состав и структуру покрытия. Регулируя параметры импульсов высокого напряжения на мишени такие, как величина импульса, его периодичность и скважность можно добиться облучения разных участков мишени и, как следствие, формирования однокомпонентных, многокомпонентных (однофазных или многофазных) и/или многослойных покрытий, переходных слоев на обрабатываемом изделии. При импульсном изменении потенциалов на мишени место фокусировки пучка ионов, бомбардирующих мишень, меняется, чем обеспечивается ввод примесей в покрытие. Равномерность покрытия по толщине обеспечивается аксиальной симметрией системы «источник ионов-мишень».
Ниже приведен пример формирования на поверхности изделия покрытия из карбида бора с использованием устройства для получения комбинированного стационарного и импульсного потока частиц.
Мишень состоит из двух соосных колец, выполненных соответственно из графита МПГ-8 и спеченного порошка бора. Вакуумная камера откачивается до давления 1×10-5 Па. В камеру источника ионов напускается аргон до давления 4×10-2 Па. Зажигается разряд со следующими параметрами: ток разряда 6 А, смещение анода относительно катода 100 В. Подается смещение на мишени относительно анода: на углеродное кольцо мишени - 4 кВ, на борное кольцо мишени - 15 кВ. Распыление мишени длится 1 ч. Толщина покрытия составляет 1 мкм. После остывания обрабатываемого изделия в течение 30 мин изделие удаляется из камеры.
Таким образом, из вышеуказанного следует, что предлагаемое устройство позволяет наносить на изделия покрытия с заданным составом, который определяется материалом, из которого выполнена мишень, структурой и толщиной, в том числе однослойные покрытия, многослойные покрытия, многокомпонентные однофазные и многофазные покрытия.
Claims (4)
1. Устройство для нанесения диффузионных покрытий, содержащее вакуумную камеру, источник ионов, систему откачки, мишень, систему напуска рабочих газов, держатель обрабатываемого изделия, отличающееся тем, что источник ионов содержит камеру, которая сформирована двумя коаксиальными цилиндрами, которые ограничены с одной стороны кольцевым участком стенки вакуумной камеры, а с другой стороны прикреплены через изоляторы к коаксиальным цилиндрам кольцевой пластиной, выполняющей роль анода источника ионов и имеющей по меньшей мере одно кольцевое щелевое отверстие, соосное с цилиндрическими стенками камеры источника ионов, при этом мишень расположена вне камеры источника ионов и закреплена параллельно аноду соосно с кольцевым отверстием, а держатель обрабатываемого изделия выполнен цилиндрической формой и установлен внутри меньшего из цилиндров камеры источника ионов вдоль оси источника ионов, а на торце держателя обрабатываемого изделия закреплен узел фиксации обрабатываемого изделия, расположенный на уровне анода источника ионов и параллельно ему.
2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что мишень выполнена в виде коаксиальных колец из различных по отношению друг к другу материалов, при этом внешний диаметр меньшего по размерам кольца из двух соседних колец меньше, чем внутренний диаметр большего по размерам кольца из двух соседних колец.
3. Устройство по п. 2, отличающееся тем, что распыляемые поверхности каждого из коаксиальных колец мишени имеют форму усеченного прямого кругового конуса с углом наклона , при котором перпендикуляр, проведенный через середину образующей конуса, пересекает поверхность обрабатываемого изделия.
4. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что источник ионов дополнительно содержит по меньшей мере один накальный катод , закрепленный на стенке вакуумной камеры внутри пространства камеры источника ионов.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2015120148/02A RU2599587C1 (ru) | 2015-05-27 | 2015-05-27 | Устройство для нанесения диффузионных покрытий |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2015120148/02A RU2599587C1 (ru) | 2015-05-27 | 2015-05-27 | Устройство для нанесения диффузионных покрытий |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2599587C1 true RU2599587C1 (ru) | 2016-10-10 |
Family
ID=57127529
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2015120148/02A RU2599587C1 (ru) | 2015-05-27 | 2015-05-27 | Устройство для нанесения диффузионных покрытий |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2599587C1 (ru) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1233404A (ru) * | 1967-06-22 | 1971-05-26 | ||
RU2049152C1 (ru) * | 1992-03-26 | 1995-11-27 | Научно-производственное объединение "Оптика" | Устройство для распыления материалов в вакууме |
CN1169620A (zh) * | 1996-06-14 | 1998-01-07 | 惠尔普尔公司 | 电动机控制器与控制方法 |
RU2113538C1 (ru) * | 1996-07-09 | 1998-06-20 | Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете | Способ импульсно-периодической ионной и плазменной обработки изделия и устройство для его осуществления |
RU2155242C2 (ru) * | 1998-01-13 | 2000-08-27 | Институт проблем машиноведения РАН | Устройство для нанесения покрытий в вакууме |
CN203695858U (zh) * | 2014-01-27 | 2014-07-09 | 无锡锡南铸造机械有限公司 | 智能化短流程砂再生系统 |
RU2540318C2 (ru) * | 2013-03-18 | 2015-02-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственное предприятие "Исток" (ФГУП "НПП "Исток") | Устройство для ионно-плазменного травления и нанесения тонких пленок |
-
2015
- 2015-05-27 RU RU2015120148/02A patent/RU2599587C1/ru active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1233404A (ru) * | 1967-06-22 | 1971-05-26 | ||
RU2049152C1 (ru) * | 1992-03-26 | 1995-11-27 | Научно-производственное объединение "Оптика" | Устройство для распыления материалов в вакууме |
CN1169620A (zh) * | 1996-06-14 | 1998-01-07 | 惠尔普尔公司 | 电动机控制器与控制方法 |
RU2113538C1 (ru) * | 1996-07-09 | 1998-06-20 | Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете | Способ импульсно-периодической ионной и плазменной обработки изделия и устройство для его осуществления |
RU2155242C2 (ru) * | 1998-01-13 | 2000-08-27 | Институт проблем машиноведения РАН | Устройство для нанесения покрытий в вакууме |
RU2540318C2 (ru) * | 2013-03-18 | 2015-02-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственное предприятие "Исток" (ФГУП "НПП "Исток") | Устройство для ионно-плазменного травления и нанесения тонких пленок |
CN203695858U (zh) * | 2014-01-27 | 2014-07-09 | 无锡锡南铸造机械有限公司 | 智能化短流程砂再生系统 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6101238B2 (ja) | 基体を被覆するための被覆装置及び基体を被覆する方法 | |
US4461689A (en) | Method and apparatus for coating a graphite member | |
CN107227445B (zh) | 一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备 | |
US20100276283A1 (en) | Vacuum coating unit for homogeneous PVD coating | |
EP3209445A1 (en) | Method and system for manufacturing of three dimensional objects | |
WO2001090438A1 (en) | A process and apparatus for plasma activated deposition in a vacuum | |
TW200415248A (en) | Method and apparatus of plasma-enhanced coaxial magnetron for sputter-coating interior surfaces | |
JP2014162992A (ja) | 円筒形の蒸着源 | |
US20160177434A1 (en) | Metal coated fibre forming apparatus and method of forming a metal coated fibre | |
EP2638182A1 (en) | Apparatus and method for surface processing | |
EP2482303B1 (en) | Deposition apparatus and methods | |
RU2599587C1 (ru) | Устройство для нанесения диффузионных покрытий | |
CN103469164A (zh) | 一种实现等离子体激活电子束物理气相沉积的装置和方法 | |
KR20140108617A (ko) | 디엘씨 박막 증착용 이온 플레이팅 장치 | |
JP2019023351A (ja) | 低温アーク放電イオンめっきコーティング | |
KR101696838B1 (ko) | 나노 구조 형성용 스퍼터링 장치 | |
US10573499B2 (en) | Method of extracting and accelerating ions | |
US11214861B2 (en) | Arrangement for coating substrate surfaces by means of electric arc discharge | |
RU144198U1 (ru) | Устройство для нанесения тонкопленочных покрытий | |
RU2653399C2 (ru) | Способ нанесения покрытия из аморфного оксида алюминия реактивным испарением алюминия в разряде низкого давления | |
RU2554252C2 (ru) | Способ нанесения покрытия и электродуговой испаритель для осуществления способа | |
RU2657896C1 (ru) | Устройство для синтеза покрытий | |
RU2607398C2 (ru) | Способ нанесения покрытий путем плазменного напыления и устройство для его осуществления | |
RU2110606C1 (ru) | Устройство для формирования поверхностных слоев на изделиях методом обработки в плазме газового разряда | |
RU161743U1 (ru) | Вакуумная установка для нанесения сверхтвердого покрытия на основе аморфного углерода |