RU2556185C1 - Device for applying coating on powder of superconducting joints - Google Patents
Device for applying coating on powder of superconducting joints Download PDFInfo
- Publication number
- RU2556185C1 RU2556185C1 RU2013156073/02A RU2013156073A RU2556185C1 RU 2556185 C1 RU2556185 C1 RU 2556185C1 RU 2013156073/02 A RU2013156073/02 A RU 2013156073/02A RU 2013156073 A RU2013156073 A RU 2013156073A RU 2556185 C1 RU2556185 C1 RU 2556185C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- powder
- vacuum chamber
- tray
- evaporator
- arc evaporator
- Prior art date
Links
Abstract
Description
Изобретение относится к металлургическому оборудованию вакуумного ионно-плазменного напыления. Может быть использовано в производстве электротехнических сверхпроводящих проволок, лент, пленок, кабелей, объемных изделий различной формы из порошковых высокотемпературных сверхпроводящих (ВТСП) соединений, преимущественно сложных оксидов меди - купратов.The invention relates to metallurgical equipment of vacuum ion-plasma spraying. It can be used in the production of electrotechnical superconducting wires, tapes, films, cables, bulk products of various shapes from powder high-temperature superconducting (HTSC) compounds, mainly complex copper oxides - cuprates.
Известны способы и устройства производства изделий из ВТСП-соединений, называемых также ВТСП-керамиками, основанные на спекании формованных (прессованных) порошков соединений, например YBaCuO, BiPbSrCaCuO.Known methods and devices for the manufacture of products from HTSC compounds, also called HTSC ceramics, based on the sintering of molded (pressed) powders of compounds, for example YBaCuO, BiPbSrCaCuO.
В т.ч. известны процессы предварительной обработки поверхности частиц порошков ВТСП-керамики, способствующие улучшению электромагнитных свойств при эксплуатации готовых сверхпроводящих изделий, в частности повышению плотности критического тока. Предварительная обработка представляет собой нанесение наноразмерных покрытий на дисперсные частицы порошка.Including Known are the processes of preliminary surface treatment of particles of HTSC ceramic powders that contribute to the improvement of electromagnetic properties during operation of finished superconducting products, in particular, an increase in the critical current density. Pretreatment is the application of nanoscale coatings on dispersed powder particles.
Известны аналогичные процессы введения в состав ВТСП-порошка тугоплавких соединений - оксидов, карбидов, нитридов, силицидов и других более сложных соединений [Wey W., Swartz J., Goretta K.C. et al. Effects of nanosize MgO Additions Bulk Bi2Sr2CaCu2Ox Physica C, 1998, V.298, №3-4, P.279]; [Б.П. Михайлов, П.Е. Казин, B.B. Ленников и др. Влияние мелкодисперсных добавок карбида ниобия на структуру и сверхпроводящие свойства керамики (Bi,Pb)2Sr2Ca2Cu3O10+x. Неорганические материалы, 2001, Т.37, №6, с.753]; [Михайлов Б.П., Руднев И.А., Кадырбаев А.Р. и др. Свойства керамики: (Bi,Pb)2Sr2Ca2Cu3O10+x с нанодобавками тугоплавких нитридов. Неорганические материалы, 2007, №2, с.1-9]; [http://elibrary.ru/item.asp?id=9514176].Similar processes are known for introducing refractory compounds — oxides, carbides, nitrides, silicides, and other more complex compounds — into the composition of HTSC powder [Wey W., Swartz J., Goretta KC et al. Effects of nanosize MgO Additions Bulk Bi 2 Sr 2 CaCu 2 O x Physica C, 1998, V.298, No. 3-4, P.279]; [B.P. Mikhailov, P.E. Kazin, BB Lennikov et al. Influence of finely dispersed niobium carbide additives on the structure and superconducting properties of ceramics (Bi, Pb) 2 Sr 2 Ca 2 Cu 3 O 10 + x . Inorganic materials, 2001, T.37, No. 6, p.753]; [Mikhailov B.P., Rudnev I.A., Kadyrbaev A.R. et al. Ceramic properties: (Bi, Pb) 2 Sr 2 Ca 2 Cu 3 O 10 + x with nano-additives of refractory nitrides. Inorganic materials, 2007, No. 2, pp. 1-9]; [http://elibrary.ru/item.asp?id=9514176].
Известно аналогичное устройство для нанесения покрытий из металлов на полимерные мелкодисперсные и нанопорошки повышенной слеживаемости, например при помощи магнетрона [патент на изобретение РФ 2344902. Устройство для нанесения покрытий на порошки]. Устройство представляет собой вертикальную вакуумную камеру, оборудованную системой откачки воздуха и системой подачи инертного газа. В камере расположен генератор потока частиц напыляемого материала, направленного сверху вниз, и установленный под генератором виброперемешиватель-держатель порошка в виде цилиндрической чаши с плоским дном и погруженными в слой порошка горизонтальными пружинными перемешивателями. Чаша вращается и одновременно перемещается вертикально возвратно-поступательно.A similar device is known for applying coatings of metals on fine polymer and nanopowders of increased caking, for example using a magnetron [RF patent 2344902. Device for coating powders]. The device is a vertical vacuum chamber equipped with an air pumping system and an inert gas supply system. In the chamber there is a generator of a stream of particles of sprayed material directed from top to bottom, and a vibro-mixer of powder holder mounted under the generator in the form of a cylindrical bowl with a flat bottom and horizontal spring mixers immersed in the powder layer. The bowl rotates and simultaneously moves vertically back and forth.
Недостатком конструкции аналога является недостаточность регулирования структурой наносимого покрытия, что обусловливает ограничение технологических возможностей устройства.The disadvantage of the design of the analogue is the lack of regulation of the structure of the applied coating, which limits the technological capabilities of the device.
Прототипом изобретения является устройство для нанесения покрытий на порошки [патент на изобретение РФ 2486990. Устройство для нанесения покрытий на порошки]. Известное устройство предназначено для нанесения равномерного покрытия на порошковые полимерные материалы. Устройство состоит из дугового испарителя материала покрытия, металлической сетки и виброперемешивателя-держателя порошка, установленных соосно вертикально в вакуумной камере. Виброперемешиватель-держатель выполнен в виде цилиндрической плоской чаши с горизонтальными пружинными перемешивателями и оборудован виброприводом. Сетка и чаша укреплены на гибком токопроводящем валу на расстоянии 80-110 мм друг от друга. Токопроводящий вал соединен с внешним источником напряжения и с приводом вращения. Вакуумная камера снабжена системой откачки воздуха, системой подачи инертного газа. Обеспечиваются улучшение адгезионных свойств и повышение равномерности покрытия за счет предварительной очистки частиц порошка потоком высокоэнергетических ионов, активированных при помощи электропроводной сетки.The prototype of the invention is a device for coating powders [patent for the invention of the Russian Federation 2486990. Device for coating powders]. The known device is intended for applying a uniform coating on powder polymer materials. The device consists of an arc evaporator of the coating material, a metal mesh and a vibro-agitator-powder holder, mounted coaxially vertically in a vacuum chamber. The vibration mixer-holder is made in the form of a cylindrical flat bowl with horizontal spring mixers and is equipped with a vibro drive. The grid and the bowl are mounted on a flexible conductive shaft at a distance of 80-110 mm from each other. The conductive shaft is connected to an external voltage source and to a rotation drive. The vacuum chamber is equipped with an air pumping system, an inert gas supply system. They provide improved adhesion properties and increased uniformity of the coating due to preliminary cleaning of the powder particles by a stream of high-energy ions activated using an electrically conductive grid.
Недостатком конструкции прототипа является недостаточность регулирования образованием структуры покрытия с наноразмерными элементами.The disadvantage of the design of the prototype is the lack of regulation of the formation of the coating structure with nanoscale elements.
Задачей изобретения является совершенствование регулирования образованием структурных элементов покрытия при улучшении электрофизических (электромагнитных) свойств покрытия частиц ВТСП-порошка.The objective of the invention is to improve the regulation of the formation of structural elements of the coating while improving the electrophysical (electromagnetic) properties of the coating of particles of HTSC powder.
Задача решается тем, что в устройстве для нанесения покрытия на порошки сверхпроводящих соединений, включающем смонтированные в вакуумной камере соосные дуговой испаритель и лоток для порошка, оборудованный вибрационным перемешивателем, а также укрепленные между дуговым испарителем и лотком с возможностью вращения на гибком электропроводном валу металлический перфорированный диск и неэлектропроводный инерционный перемешиватель порошка, согласно изобретению между испарителем и диском на том же валу с возможностью вращения установлена катушка индуктивности, а вакуумная камера оборудована системой подачи реакционного газа. Электроды дугового испарителя соединены с источником напряжения с возможностью образования внутренней поверхностью вакуумной камеры и поверхностью электропроводного оборудования в ней положительного электрода (анода). Металлический перфорированный диск может быть выполнен в виде сетки.The problem is solved in that in a device for coating powders of superconducting compounds, including a coaxial arc evaporator mounted in a vacuum chamber and a powder tray equipped with a vibrating mixer, and also a metal perforated disk mounted between the arc evaporator and the tray with the possibility of rotation on a flexible electrically conductive shaft and non-conductive inertial powder mixer, according to the invention, between the evaporator and the disk on the same shaft with the possibility of rotation of the installation ene inductor, a vacuum chamber equipped with a reaction gas supply system. The electrodes of the arc evaporator are connected to a voltage source with the possibility of the formation of the inner surface of the vacuum chamber and the surface of the conductive equipment in it a positive electrode (anode). The metal perforated disk can be made in the form of a grid.
Техническим результатом изобретения является возможность регулирования образованием структурных элементов покрытия и, как следствие, улучшение квантовых электрофизических (электромагнитных) свойств кристаллических наноразмерных частиц покрытия ВТСП-порошка посредством оснащения устройства катушкой индуктивности, установленной в вакуумной камере на проводнике электрического тока - электропроводном валу - между катодом и анодом. Образованное катушкой магнитное поле по направлению силовых линий способствует инициированию образования центров кристаллизации и способствует формированию самоорганизующихся кристаллов CuO, размеры которых менее длины когерентности. Длина когерентности означает расстояние в пределах нескольких десятков нанометров, при котором электроны вещества проводника взаимодействуют друг с другом, создавая сверхпроводящее состояние. Увеличение количества кристаллов, размеры которых менее длины когерентности, обусловливает увеличение количества центров пиннинга на поверхности дисперсных частиц ВТСП-порошка. В целом, образование центров пиннинга и увеличение их количества способствует улучшению сверхпроводящих свойств проводника, повышению величины критического тока сверхпроводящего проводника путем подавления возникновения магнитного поля. Центры пиннинга (pinning - закрепление, англ.) препятствуют движению (циркулированию) возникающих в условиях отсутствия сопротивления магнитных вихрей (вихревых нитей), образованию магнитного поля, потере свойства сверхпроводимости и нагреву проводника при его эксплуатации. Критический ток Ik в сверхпроводниках означает предельное значение постоянного незатухающего электрического тока в проводнике при охлаждении до определенной температуры. В сверхпроводнике при этом отсутствует электрическое сопротивление и эффект его нагревания. Практическое значение указанного технического результата проявляется при эксплуатации промышленных энергетических объектов, в работе которых используются сверхпроводники. Повышение величины критического тока и отсутствие потерь на нагревание, например кабеля линии электропередачи, способствует снижению затрат на ее создание и эксплуатацию.The technical result of the invention is the ability to control the formation of the structural elements of the coating and, as a result, the improvement of the quantum electrophysical (electromagnetic) properties of crystalline nanosized particles of the coating of HTSC powder by equipping the device with an inductor installed in a vacuum chamber on an electric current conductor - an electrically conductive shaft - between the cathode and anode. The magnetic field formed by the coil in the direction of the lines of force helps initiate the formation of crystallization centers and promotes the formation of self-organizing CuO crystals, the sizes of which are less than the coherence length. The coherence length means a distance within a few tens of nanometers at which the electrons of the conductor matter interact with each other, creating a superconducting state. An increase in the number of crystals whose sizes are less than the coherence length leads to an increase in the number of pinning centers on the surface of dispersed particles of HTSC powder. In general, the formation of pinning centers and an increase in their number helps to improve the superconducting properties of the conductor, increase the critical current of the superconducting conductor by suppressing the occurrence of a magnetic field. Pinning centers (pinning - pinning, English) impede the movement (circulation) of magnetic vortices (vortex filaments) arising in the absence of resistance, the formation of a magnetic field, the loss of superconductivity and heating of the conductor during its operation. The critical current I k in superconductors means the limit value of a constant undamped electric current in a conductor when cooled to a certain temperature. In this case, there is no electrical resistance in the superconductor and the effect of its heating. The practical significance of this technical result is manifested in the operation of industrial energy facilities in which superconductors are used. Increasing the critical current and the absence of heating losses, for example, a cable of a power line, helps to reduce the cost of its creation and operation.
Общий вид устройства для нанесения покрытия на порошки сверхпроводящих соединений представлен на эскизе. Устройство состоит из вакуумной камеры 1, установленной на раме. Корпус вакуумной камеры 1 снабжен системой термостатирования, например водяной, системой откачки воздуха, системой подачи инертного газа, например аргона, системой подачи рабочего газа - кислорода, вакуумными уплотнительными вводами и выводами. В верхней стенке камеры 1 выполнено окно, на котором герметично смонтирован корпус 2 электродугового испарителя. В корпусе 2 электродугового испарителя установлен электрод - катод 3, выполненный из металлической меди. Катод 3 установлен с возможностью направления испаряемого потока вещества в вакуумную камеру 1. В вакуумной камере 1 вертикально соосно катоду 3 смонтированы катушка индуктивности 4, электростатический ускоритель ионов в виде металлического перфорированного диска, круглый лоток 6 для порошка виброперемешиватель (вибратор) 7. Катушка индуктивности 4 и диск 5 укреплены на гибком электропроводном валу 8 с возможностью вращения. Лоток 6 установлен на вибратор 7, оборудован неэлектропроводным крепежным кронштейном 9, соединенным при помощи подшипника с валом 8, а также оборудован горизонтальными бесприводными диэлектрическими перемешивающими устройствами 10, например спиральными. Вибратор 7 установлен на дно вакуумной камеры 1. Гибкий электропроводный вал 8 оборудован приводом вращения, расположенным вне корпуса вакуумной камеры 1. Расстояние от катода 3 до поверхности порошка в лотке 6 составляет 650-850 мм. Катушка индуктивности 4 расположена на расстоянии не выше 110 мм от поверхности порошка в лотке 6, сетка 5 - не ниже 80 мм. Корпус вакуумной камеры 1, катод 3 соединены с источником напряжения, электропроводный вал 8 также соединен с автономным источником напряжения. Источники напряжения на эскизе не показаны. Корпус вакуумной камеры 1 выполняет функцию анода электродугового испарителя. Лоток 6 и перемешиватели 10 выполнены из немагнитного материала. Вибратор 7 снабжен электромагнитом и импульсным источником регулирования частоты и амплитуды вибрации. Привод вращения соединен с двигателем постоянного тока.A general view of the device for coating powders of superconducting compounds is shown in the sketch. The device consists of a vacuum chamber 1 mounted on a frame. The housing of the vacuum chamber 1 is equipped with a temperature control system, for example water, an air pumping system, an inert gas supply system, such as argon, a working gas-oxygen supply system, vacuum sealing inlets and outlets. A window is made in the upper wall of chamber 1, on which the casing 2 of the electric arc evaporator is hermetically mounted. An electrode, a cathode 3, made of metallic copper, is installed in the casing 2 of the electric arc evaporator. The cathode 3 is installed with the possibility of directing the vaporized flow of matter into the vacuum chamber 1. In the vacuum chamber 1, an inductor 4, an electrostatic ion accelerator in the form of a metal perforated disk, a circular tray 6 for powder, a vibration mixer (vibrator) are mounted vertically coaxially to the cathode 7. 7. Inductor 4 and the disk 5 is mounted on a flexible conductive shaft 8 with the possibility of rotation. The tray 6 is mounted on a vibrator 7, is equipped with a non-conductive mounting bracket 9, connected by a bearing to the shaft 8, and is also equipped with horizontal driveless dielectric mixing devices 10, for example spiral ones. The vibrator 7 is installed on the bottom of the vacuum chamber 1. A flexible electrically conductive shaft 8 is equipped with a rotation drive located outside the housing of the vacuum chamber 1. The distance from the cathode 3 to the powder surface in tray 6 is 650-850 mm. The inductor 4 is located at a distance of not higher than 110 mm from the surface of the powder in the tray 6, the grid 5 is not lower than 80 mm. The housing of the vacuum chamber 1, the cathode 3 are connected to a voltage source, the conductive shaft 8 is also connected to a stand-alone voltage source. Voltage sources are not shown in the sketch. The housing of the vacuum chamber 1 performs the function of the anode of the electric arc evaporator. Tray 6 and mixers 10 are made of non-magnetic material. The vibrator 7 is equipped with an electromagnet and a pulse source for controlling the frequency and amplitude of vibration. The rotation drive is connected to a DC motor.
Устройство работает следующим образом. Готовят вакуумную камеру 1 к работе. В вакуумной камере 1 посредством системы откачки воздуха создают вакуум 10-3 Па. В лоток 6 помещают порошок, например оксид меди YBaCuO. В камеру подают аргон. Включают вибратор 7, подбирают частоту вибрации от долей до десятков герц и амплитуду - от долей до нескольких миллиметров. Лоток 6 с находящимся в нем порошком перемещается с частотой, соответствующей вибрационным импульсам. Включают привод вращения со скоростью 5-20 об/мин. Происходит вращение гибкого электропроводного вала 8, катушки индуктивности 4, перфорированного диска 5, крепежного кронштейна 9 и перемешивателей 10. Происходит перемешивание порошка. Одновременно с этим катод 3 и корпус вакуумной камеры 1 (анод) подключают к источнику электрического тока, зажигают дугу. Происходит ионизация дугового промежутка, и устанавливается дуговой разряд. В катодных пятнах на поверхности катода плотность тока достигает больших значений, происходит мгновенный нагрев и испарение материала катода. Далее облако испаренного вещества меди (Cu) взаимодействует с потоком электронов и нагревается с образованием плазмы. Температура плазмы, доходящая до 10 000 К, определяет наличие в ней ионов, электронов и нейтральных частиц, находящихся в возбужденном состоянии. В камеру подают реакционный газ, например кислород. Наличие таких частиц приводит к высоким скоростям взаимодействия и быстрому (за 10-3 - 10-6 с) протеканию реакции взаимодействия меди с кислородом. Высокая температура обеспечивает переход практически всех исходных веществ в газообразное состояние с их последующим взаимодействием с реакционным газом (например, окислением облака испаренного металла меди кислородом). Одновременно с вышеуказанным на гибкий электропроводный вал 8 подают постоянный электрический ток в 1A напряжением 5000 B. Электрический ток поступает на катушку индуктивности 4, на сетку 5. На сетке 5 происходит образование электростатического поля, которое передает энергию ионам аргона. Под действием ускоренного потока ионов происходит очистка поверхности дисперсных частиц порошка, что способствует улучшению адгезионных свойств поверхности. Катушка индуктивности 4 образует магнитное поле, которое способствует инициированию зарождения центров кристаллизации CuO и формированию структуры кристаллов по направлению силовых линий. Оксид меди в виде несверхпроводящих наноразмерных кристаллов осаждается (напыляется) на поверхность дисперсных частиц ВТСП-порошка при его постоянном перемешивании.The device operates as follows. Prepare the vacuum chamber 1 for work. In the vacuum chamber 1 through a system of pumping air create a vacuum of 10 -3 Pa. Powder, for example YBaCuO copper oxide, is placed in tray 6. Argon is introduced into the chamber. The vibrator 7 is turned on, the vibration frequency is selected from fractions to tens of hertz and the amplitude is from fractions to several millimeters. Tray 6 with the powder in it moves with a frequency corresponding to vibrational pulses. Turn on the rotation drive at a speed of 5-20 rpm. The flexible conductive shaft 8, the inductor 4, the perforated disk 5, the mounting bracket 9 and the mixers 10 rotate. The powder is mixed. Simultaneously, the cathode 3 and the housing of the vacuum chamber 1 (anode) are connected to an electric current source, and an arc is ignited. Ionization of the arc gap occurs, and an arc discharge is established. In cathode spots on the cathode surface, the current density reaches high values, instantaneous heating and evaporation of the cathode material occurs. Next, a cloud of evaporated copper substance (Cu) interacts with the electron flow and heats up with the formation of plasma. The plasma temperature, reaching 10,000 K, determines the presence of ions, electrons, and neutral particles in it in an excited state. A reaction gas, such as oxygen, is supplied to the chamber. The presence of such particles leads to high rates of interaction and a fast (in 10 -3 - 10 -6 s) course of the reaction of the interaction of copper with oxygen. High temperature ensures the transition of almost all the starting materials into a gaseous state with their subsequent interaction with the reaction gas (for example, oxidation of a cloud of an evaporated copper metal with oxygen). Simultaneously with the above, a direct electric current of 1 A with a voltage of 5000 V is supplied to the flexible conductive shaft 8. Electric current is supplied to the inductor 4, to the grid 5. An electrostatic field is generated on the grid 5, which transfers energy to argon ions. Under the influence of the accelerated ion flow, the surface of the dispersed powder particles is cleaned, which helps to improve the adhesion properties of the surface. The inductor 4 forms a magnetic field, which contributes to the initiation of nucleation of crystallization centers of CuO and the formation of the crystal structure in the direction of the lines of force. Copper oxide in the form of nonsuperconducting nanosized crystals is deposited (sprayed) on the surface of dispersed particles of an HTSC powder with constant stirring.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2013156073/02A RU2556185C1 (en) | 2013-12-17 | 2013-12-17 | Device for applying coating on powder of superconducting joints |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2013156073/02A RU2556185C1 (en) | 2013-12-17 | 2013-12-17 | Device for applying coating on powder of superconducting joints |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2013156073A RU2013156073A (en) | 2015-06-27 |
| RU2556185C1 true RU2556185C1 (en) | 2015-07-10 |
Family
ID=53497062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2013156073/02A RU2556185C1 (en) | 2013-12-17 | 2013-12-17 | Device for applying coating on powder of superconducting joints |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2556185C1 (en) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1097449A2 (en) * | 1983-02-09 | 1984-06-15 | Одесский Проектно-Конструкторский Технологический Институт Нучно-Производственного Объединения "Спецтехоснастка" | Device for applying coatings on powders |
| US6149785A (en) * | 1996-04-03 | 2000-11-21 | The Regents Of The University Of California | Apparatus for coating powders |
| RU2344902C1 (en) * | 2007-03-29 | 2009-01-27 | Федеральное государственное учреждение Российский научный центр "Курчатовский институт" | Device used for applying coatings to powders |
| RU2486990C1 (en) * | 2012-04-19 | 2013-07-10 | Федеральное Государственное Автономное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Сибирский Федеральный Университет" (Сфу) | Device to apply coats on powders |
-
2013
- 2013-12-17 RU RU2013156073/02A patent/RU2556185C1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1097449A2 (en) * | 1983-02-09 | 1984-06-15 | Одесский Проектно-Конструкторский Технологический Институт Нучно-Производственного Объединения "Спецтехоснастка" | Device for applying coatings on powders |
| US6149785A (en) * | 1996-04-03 | 2000-11-21 | The Regents Of The University Of California | Apparatus for coating powders |
| RU2344902C1 (en) * | 2007-03-29 | 2009-01-27 | Федеральное государственное учреждение Российский научный центр "Курчатовский институт" | Device used for applying coatings to powders |
| RU2486990C1 (en) * | 2012-04-19 | 2013-07-10 | Федеральное Государственное Автономное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Сибирский Федеральный Университет" (Сфу) | Device to apply coats on powders |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2013156073A (en) | 2015-06-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10752994B2 (en) | Apparatus and method for depositing a coating on a substrate at atmospheric pressure | |
| CN102758171B (en) | A physical vapor deposition plasma reactor with RF source power applied to the target | |
| TWI545218B (en) | Method for generating a plasma discharge and magnetron sputtering facility | |
| US5269898A (en) | Apparatus and method for coating a substrate using vacuum arc evaporation | |
| EP1727406B1 (en) | Plasma generator | |
| KR101353348B1 (en) | Nanoparticle Synthesizing Apparatus and Nanoparticle Synthesizing Method | |
| TW201204858A (en) | Deposition apparatus and methods to reduce deposition asymmetry | |
| TW201002844A (en) | Microwave-assisted rotatable PVD | |
| SE519931C2 (en) | Device and method for pulsed, highly ionized magnetron sputtering | |
| EP3127136A1 (en) | Methods and apparatus for material processing using plasma thermal source | |
| JP2008280195A (en) | Method for growing cnt (carbon nanotube) | |
| CN101845616A (en) | Conductor electric exploding plasma-based low-energy metal ion implantation (PBLEMII) device | |
| CN110526237B (en) | Device and method for preparing noble metal/graphene composite nano material | |
| CN107151783B (en) | It can keep mum and clean the magnetic control sputtering device and clean method of anode cap | |
| RU2556185C1 (en) | Device for applying coating on powder of superconducting joints | |
| KR102219134B1 (en) | Manufacturing method of nanopowder using DC arc plasma and apparatus for manufacturing the same | |
| TW202007781A (en) | Plasma spray systems and methods | |
| JP2008231471A (en) | Film-forming method using progressive plasma, plasma-baked substrate, and apparatus for forming film with plasma | |
| Karpov et al. | Device for increasing the magnetic flux pinning in granular nanocomposites based on the high-temperature superconducting ceramic | |
| Wang et al. | Two-dimensional simulation of dielectric barrier discharge with ring electrodes at atmospheric pressure | |
| JP4565136B2 (en) | Electrostatic chuck | |
| EP0306286A2 (en) | Method and apparatus for manufacturing superconducting ceramics materials | |
| WO2018021282A1 (en) | Method for manufacturing electride-form mayenite compound | |
| CN109989042A (en) | A kind of combination field and liner conical pipe and the compound vacuum coating method of ladder pipe | |
| JP6573276B2 (en) | Thin film generator using magnetized coaxial plasma generator |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20191218 |