RU2501886C1 - Катод установки для ионной имплантации - Google Patents

Катод установки для ионной имплантации Download PDF

Info

Publication number
RU2501886C1
RU2501886C1 RU2012140037/02A RU2012140037A RU2501886C1 RU 2501886 C1 RU2501886 C1 RU 2501886C1 RU 2012140037/02 A RU2012140037/02 A RU 2012140037/02A RU 2012140037 A RU2012140037 A RU 2012140037A RU 2501886 C1 RU2501886 C1 RU 2501886C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
cathode
lead
copper
alloy
microstructure
Prior art date
Application number
RU2012140037/02A
Other languages
English (en)
Inventor
Анатолий Дмитриевич Шляпин
Виктор Васильевич Овчинников
Юрий Михайлович Боровин
Антон Николаевич Кравченков
Надежда Владимировна Учеваткина
Елена Владимировна Лукьяненко
Светлана Викторовна Якутина
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный индустриальный университет"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный индустриальный университет" filed Critical Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный индустриальный университет"
Priority to RU2012140037/02A priority Critical patent/RU2501886C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2501886C1 publication Critical patent/RU2501886C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Изобретение относится к области получения мощных ионных пучков, а именно к катодам, которые могут быть использованы в установках для ионной имплантации металлов и сплавов, работающих в непрерывном и импульсном режимах. Катод выполнен из сплава меди со свинцом. Свинец содержится в количестве 36 мас.%, соответствующем монотектической точке сплава, в микроструктуре которого суммарная протяженность межфазных границ на 1 мм поверхности катода составляет 6,5…16,0 мм/мм2. Технический результат - повышение износостойкости имплантируемых деталей. 4 ил., 1 табл.

Description

Изобретение относится к области получения мощных ионных пучков (МИП) и может быть использовано в установках для ионной имплантации металлов и сплавов, работающих в непрерывном и импульсном режимах.
Известен составной молибденово-свинцовый цилиндрический катод для вакуумно-дугового источника металлов (см. Баталин В.А., Волков Ю.Н., Кулевой Т.В., Петренко С.В. Вакуумно-дуговой источник ионов металлов. // М.: Институт теоретической и экспериментальной физики, 1992. - 10 с.). Для этого в молибденовом катоде был выполнен ряд отверстий, в которые был вплавлен свинец.
Недостатком такого катода является то, что во время горения дуги катодное пятно переходит с более тугоплавкого элемента (молибдена) на менее тугоплавкий (свинец), когда обратный переход не наблюдается. При этом в ионном луче происходит накопление ионов свинца и снижение содержания ионов молибдена. Это сказывается на процессе имплантации: имплантация происходит не комплексом ионов, а практически только ионами свинца. Такое явление сказывается негативным образом на свойствах имплантированных сталей.
Наиболее близким к предлагаемому изобретению по технической сущности и достигаемому результату является катод установки для ионной имплантации выполненный в виде бинарного сплава меди со свинцом с содержанием свинца 25-45% (патент РФ на изобретение №2458182, МКП7 C23c 14/16). Такой катод позволяет получить пучки ионов плотностью тока 60 А/см2 и длительности импульса 60 нс.
Существенным недостатком такого катода является высокий энергетический порог плазмообразования и ограниченное увеличение износостойкости обработанной поверхности деталей. Увеличение дозы имплантирования ионов приводит к росту длительности обработки и появлению задиров на имплантированной поверхности при испытаниях на износостойкость.
Предлагаемый катод установки для ионной имплантации конструкционной стали ионами меди и свинца обеспечивает повышение износостойкости имплантированных деталей при эксплуатации при комнатной температуре.
Технический результат, на достижение которого направлено заявляемое изобретение, обеспечивается тем, что катод содержит свинец в количестве 35,7…36,2 мас.%, а суммарная протяженность межфазных границ между несмешивающимися компонентами меди и свинца на 1 мм2 поверхности катода составляет 6,5…16,0 мм/мм2.
Такая композиция позволяет получить рабочую поверхность катода с высокими электрофизическими характеристиками, необходимыми для возбуждения разряда и образование приповерхностной плазмы плотностью, достаточной для извлечения больших токов. Определяющим физическим параметром рабочей поверхности катода является работа выхода. Снижение работы выхода обеспечивает снижение значения тока, ниже которого самоподдерживающее состояние дугового разряда невозможно. Наблюдается повышение эмиссии и повышение тока в пучке при более низком пороговом значении напряжения. Снижение порога плазмообразования обеспечивает стабильно высокую интенсивность тока в импульсе при снижении энергоемкости процесса.
На глубину проникновения ионов и толщину слоя с измененной дислокационной структурой существенное влияние оказывает протяженность межфазных границ между несмешивающимися компонентами медью и свинцом в микроструктуре катода, приходящуюся на 1 мм2 поверхности катода.
Существенный рост глубины имплантированного слоя и слоя с измененной дислокационной структурой наблюдается при суммарной протяженности границ между несмешивающимися компонентами медью и свинцом в микроструктуре катода, приходящуюся на 1 мм2 поверхности катода в пределах 6,5…16,0 мм/мм2.
При суммарной протяженности границ между несмешивающимися компонентами медью и свинцом в микроструктуре катода, приходящуюся на 1 мм2 поверхности катода менее 6,5 мм/мм2 увеличения глубины имплантированного слоя не происходит. Измерение состава ионов в пучке показало, что в этом случае преобладают одно и двух зарядные ионы меди и свинца.
При суммарной протяженности границ между несмешивающимися компонентами медью и свинцом в микроструктуре катода, приходящуюся на 1 мм2 поверхности катода более 6,5 мм/мм2 увеличение глубины имплантированного слоя и слоя с измененной дислокационной структурой начинает проявляться. В составе пучка помимо одно и двух зарядных ионов меди и свинца появляются многозарядные ионы и кластеры - комплексы из атома свинца и двух однозарядных ионов меди.
По мере роста протяженности границ между несмешивающимися компонентами медью и свинцом в микроструктуре катода наблюдается рост количества кластеров в составе пучка. Максимума количество кластеров в пучке достигается при суммарной протяженности границ между несмешивающимися компонентами медью и свинцом в микроструктуре катода, приходящуюся на 1 мм2 поверхности катода 16,0 мм/мм2. Большее значение суммарной протяженности границ между несмешивающимися компонентами медью и свинцом в микроструктуре катода для монотектического сплава меди со свинцом получить не удается.
Подробнее сущность заявляемого катода установки для ионной имплантации поясняется схемами и фотографией:
- на фиг.1 представлена микроструктура монотектического сплава меди со свинцом с протяженностью протяженности границ между несмешивающимися компонентами медью и свинцом в микроструктуре катода, приходящуюся на 1 мм2 поверхности катода 12,2 мм/мм2.
- на фиг.2 представлена схема строения поверхностного слоя стали после ионной имплантации;
- на фиг.3 представлено изменение доли кластеров в ионном пучке в соответствии с ростом суммарной протяженности границ между несмешивающимися компонентами медью и свинцом в микроструктуре катода;
- на фиг.4 представлено изменение глубины имплантированного слоя h и слоя с измененной дислокационной структурой H при увеличении суммарной протяженности границ между несмешивающимися компонентами медью и свинцом в микроструктуре катода;
Пример конкретного использования заявляемого изобретения. Катод, представляющий по форме шайбу диаметром 28 мм и толщиной 5 мм изготавливали из монотектического сплава меди со свинцом. Содержание свинца в сплаве составляло 36 мас.%.
Особенность монотектического сплава меди со свинцом заключается в том, что его компоненты являются несмешивающимися. Относительная простота получения данного сплава объясняется особенностями диаграммы состояния данного сплава: невысоким куполом расслоения в жидком состоянии и высоким содержанием свинца в монотектической точки.
Для фиксации структуры монотектического сплава применялась закалка в воду из жидкого состояния. В зависимости от температуры нагрева сплава перед закалкой и температуры воды фиксировались структуры с различной протяженностью границ между несмешивающимися компонентами медью и свинцом в микроструктуре катода.
После токарной обработки катоды использовали в установке для ионной имплантации для получения мощных ионных пучков сложного состава наносекундной длительности. Испытания на пороговое напряжение плазмообразования проводили на установке для ионной имплантации.
Измерение плотности осуществлялось при одном и том же ускоряющем напряжении 30 кВ. Наилучшие результаты, достигнутые при использовании катода по прототипу следующие: амплитуда напряжения в первом импульсе 15 кВ, плотность тока 5,5…6,2 А/см2. Из представленных данных следует, что катод предложенного состава позволяет снизить амплитуду напряжения в первом импульсе до 8,6…9 кВ при незначительном снижении плотности тока. В результате величина коэффициента выхода (отношение плотности тока к напряжению в первом импульсе) возрастает в 1,5 раза по сравнению с соответствующей величиной коэффициента выхода при использовании катода, принятого в качестве прототипа.
Осуществляли имплантацию образцов стали 30ХГСН2А толщиной 3 мм и размерами 60×60 мм. Вакуумную камеру, в которой расположен источник ионов, откачивали до остаточного давления 10-3 Па. На первом этапе делали ионную очистку обрабатываемой поверхности с помощью газового источника ионами аргона. При этом энергия ионов не превышает 10…15 кэВ. Затем энергия ионов меди и свинца повышалась до 35…40 кэВ, и выполнялась имплантация с дозой 2,5×1017 ион/см2.
Образцы стали 30ХГСН2А в исходном состоянии и после имплантации быи подвергнуты испытаниям на износ, а также исследованиям с помощью метода вторичной ионной масс-спектрометрии и просвечивающего электронного микроскопа. Последние два метода позволяли определить толщину имплантированного слоя h и толщину H слоя с измененной дислокационной структурой.
Измерения содержания в ионом пучке кластеров в зависимости от суммарной протяженности границ между несмешивающимися компонентами медью и свинцом в микроструктуре катода осуществляли с помощью магнитного масс-зарядового сепаратора (GSI) и времяпролетного сепаратора (LBNL). Для исключения влияния длительности влияния длительности импульса дуги все измерения зарядового распределения ионов осуществлялись через 100 µs после зажигания разряда.
Результаты испытаний представлены в таблице.
Figure 00000001
Таким образом, использование в качестве катода установки для имплантации монотектического сплава меди со свинцом при суммарной протяженности границ между несмешивающимися компонентами медью и свинцом в микроструктуре катода, приходящуюся на 1 мм2 поверхности катода в пределах 6,5…16,0 мм/мм2 позволяет повысить глубину имплантированного слоя и слоя с измененной дислокационной структурой. Это в совокупности приводит к повышению износостойкости конструкционной стали 30ХГСН2А.

Claims (1)

  1. Катод установки для ионной имплантации, выполненный из сплава меди со свинцом, отличающийся тем, что сплав содержит свинец в количестве 36 мас.%, соответствующем монотектической точке сплава, в микроструктуре которого суммарная протяженность межфазных границ на 1 мм2 поверхности катода составляет 6,5…16,0 мм/мм2.
RU2012140037/02A 2012-09-19 2012-09-19 Катод установки для ионной имплантации RU2501886C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2012140037/02A RU2501886C1 (ru) 2012-09-19 2012-09-19 Катод установки для ионной имплантации

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2012140037/02A RU2501886C1 (ru) 2012-09-19 2012-09-19 Катод установки для ионной имплантации

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2501886C1 true RU2501886C1 (ru) 2013-12-20

Family

ID=49785186

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2012140037/02A RU2501886C1 (ru) 2012-09-19 2012-09-19 Катод установки для ионной имплантации

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2501886C1 (ru)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU172049U1 (ru) * 2016-06-24 2017-06-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский политехнический университет" Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов
CN112126818A (zh) * 2019-06-25 2020-12-25 国标(北京)检验认证有限公司 一种空心阴极铅灯阴极用铜铅合金及其制备方法
CN112680625A (zh) * 2020-12-04 2021-04-20 南京国重新金属材料研究院有限公司 一种Cu-Pb偏晶合金及其制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1483891A (en) * 1973-12-14 1977-08-24 Engel N Superhard martensite and method of making the same
RU2283367C1 (ru) * 2004-06-22 2006-09-10 Аплайд Филмс Гмбх Унд Ко. Кг Распылительный катод для процессов нанесения покрытий
RU2458182C1 (ru) * 2011-02-11 2012-08-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный индустриальный университет"(ФГБОУ ВПО "МГИУ") Способ имплантации конструкционной стали ионами меди и свинца

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1483891A (en) * 1973-12-14 1977-08-24 Engel N Superhard martensite and method of making the same
RU2283367C1 (ru) * 2004-06-22 2006-09-10 Аплайд Филмс Гмбх Унд Ко. Кг Распылительный катод для процессов нанесения покрытий
RU2458182C1 (ru) * 2011-02-11 2012-08-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный индустриальный университет"(ФГБОУ ВПО "МГИУ") Способ имплантации конструкционной стали ионами меди и свинца

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU172049U1 (ru) * 2016-06-24 2017-06-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский политехнический университет" Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов
CN112126818A (zh) * 2019-06-25 2020-12-25 国标(北京)检验认证有限公司 一种空心阴极铅灯阴极用铜铅合金及其制备方法
CN112126818B (zh) * 2019-06-25 2022-02-11 国标(北京)检验认证有限公司 一种空心阴极铅灯阴极用铜铅合金及其制备方法
CN112680625A (zh) * 2020-12-04 2021-04-20 南京国重新金属材料研究院有限公司 一种Cu-Pb偏晶合金及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Koval’ et al. Nanostructuring of surfaces of metalloceramic and ceramic materials by electron-beams
RU2501886C1 (ru) Катод установки для ионной имплантации
Devyatkov et al. Modernization of cathode assemblies of electron sources based on low pressure arc discharge
RU2413033C2 (ru) Способ плазменного азотирования изделия из стали или из цветного сплава
Law et al. Diagnosing asymmetric bipolar HiPIMS discharges using laser Thomson scattering
Shaim et al. Aluminum multicharged ion generation from laser plasma
Weijie et al. Theoretical model and experimental investigation optically triggered hollow-cathode discharge formation
Bolotov et al. Diagnosis of plasma glow discharge energy parameters in the processes of treatment small diameter long tubes
Ryabchikov et al. Modification of 40X13 steel at high-intensity nitrogen ion implantation
RU107657U1 (ru) Форвакуумный плазменный электронный источник
RU2436864C1 (ru) Способ нанесения композиционного ламинатного молибден-медного покрытия на медную контактную поверхность
RU2513119C2 (ru) Способ формирования самонакаливаемого полого катода из нитрида титана для системы генерации азотной плазмы
Fu et al. Characterization of high-current pulsed electron beam interaction with AISI 1045 steel and the microstructure evolution
Naeem et al. Development of a laser ablation-hollow cathode glow discharge emission source and the application to the analysis of steel samples
Sinelnikov et al. Arc tracks on nanostructured surfaces after microbreakdowns
RU2486281C1 (ru) Способ поверхностной модификации конструкционных материалов и изделий
RU155002U1 (ru) Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов
RU2483500C2 (ru) Способ локального нагрева участка поверхности катода
Teh et al. A Study on the Surface Hardness Obtained by Nitriding with a Plasma Focus Machine
Wood Fundamentals of plasma immersion ion implantation and deposition
Zeltser et al. Fabrication of nitrogen-containing coatings in reed switches by pulsed ion-plasma treatment
RU2339735C1 (ru) Способ нанесения пленочного покрытия
RU2725788C1 (ru) Устройство для поверхностной обработки металлических и металлокерамических изделий
RU2801364C1 (ru) Способ генерации потоков ионов твердого тела
Proskurovsky Use of droplet spots burning for decreasing of droplet fraction in vacuum arc plasma

Legal Events

Date Code Title Description
PC43 Official registration of the transfer of the exclusive right without contract for inventions

Effective date: 20161114

PD4A Correction of name of patent owner
PC43 Official registration of the transfer of the exclusive right without contract for inventions

Effective date: 20170427

MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20190920