RU172049U1 - Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов - Google Patents

Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов Download PDF

Info

Publication number
RU172049U1
RU172049U1 RU2016125195U RU2016125195U RU172049U1 RU 172049 U1 RU172049 U1 RU 172049U1 RU 2016125195 U RU2016125195 U RU 2016125195U RU 2016125195 U RU2016125195 U RU 2016125195U RU 172049 U1 RU172049 U1 RU 172049U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
cathode
lead
ions
disk
copper
Prior art date
Application number
RU2016125195U
Other languages
English (en)
Inventor
Виктор Васильевич Овчинников
Надежда Владимировна Учеваткина
Ольга Андреевна Жданович
Артем Геннадьевич Сбитнев
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский политехнический университет"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский политехнический университет" filed Critical Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский политехнический университет"
Priority to RU2016125195U priority Critical patent/RU172049U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU172049U1 publication Critical patent/RU172049U1/ru

Links

Images

Abstract

Предлагаемая полезная модель относится к области ионно-лучевой вакуумной обработки материалов и может быть использована в машиностроении для повышения износостойкости деталей машин и механизмов.Сущность полезной модели состоит в том, что катод выполнен в виде диска с чередующимися от периферии к центру диска кольцевыми канавками шириной (0,2 - 0,35)d, где d - диаметр активного пятна плазменной дуги на поверхности катода, причем чередование канавок осуществлено в последовательности снижения потенциала ионизации материала монотектический сплав меди со свинцом - свинец - олово. 4 фиг.

Description

Заявляемая полезная модель относится к области ионно-лучевой вакуумной обработки материалов и может быть использована в машиностроении для повышения триботехнических свойств деталей машин и механизмов из конструкционных материалов.
Известен катод имплантера для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов изготовленный из монотектического сплава меди с 36% свинца (патент РФ № 2501886, МПК С23С 14/48, опубл. 20.12.2013). Применение катода из монотектического сплава меди со свинцом позволяет повысить глубину проникновения имплантируемых ионов, что способствует росту износостойкости стали.
Недостатком упомянутого катода является отсутствие возможности регулирования содержания ионов свинца в плазме ионного пучка путем изменения концентрации свинца в сплаве, из которого изготовлен катод имплантера. Это лимитирует глубину проникновения имплантируемых ионов в облучаемую деталь и, в конечном счете, износостойкость детали после имплантации.
Известен катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов в виде диска из меди, отличающийся тем, что соосно в катоде выполнена круговая несквозная канавка диаметром (0,40 - 0,75)D, где D - диаметр дискового катода имплантера, которая залита свинцом (патент на полезную модель РФ № 143632, МПК С23С 14/48, опубл. 27.07.2014, бюл. № 21). Использование катода данной конструкции позволяет увеличить содержание ионов свинца в плазме ионного пучка и в имплантированном слое облученной детали.
Однако, по мере перемещения активного пятна дуги по поверхности катода наблюдается резкое изменение сортового состава плазмы ионного пучка. Первую половину длительности импульса горения плазменной дуги в ионном пучке присутствуют, преимущественно, ионы меди (пока активное пятно дуги перемещается по медной части катода). Во второй половине длительности импульса горения плазменной дуги ее активное пятно перемещается по поверхности поверхности вставки из свинца. При этом наблюдается резкое изменение сортового состава ионного пучка, в котором присутствуют в основном ионы свинца.
Такое распределение сортового состава ионов в ионном пучке по времени горения плазменной дуги сопровождается повышением содержания ионов свинца в имплантированном слое при одновременном снижении его толщины по сравнению с вариантом имплантации с использованием катода из монотектического сплава меди со свинцом на одинаковых параметрах режима имплнтации.
Наиболее близким по технической сущности к заявляемому катоду для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов является катод, выполненный в виде диска из монотектического сплава меди со свинцом, в котором выполнена кольцевая несквозная канавка с осевым диаметром 0,4 - 0,6 диаметра дискового катода и шириной 0,6-0,8 диаметра активного пятна плазменной дуги на поверхности дискового катода (патент на полезную модель РФ № 155002, МПК С23С 14/48, опубл. 20.09.2015, бюл. № 26). Применение монотектического сплава меди со свинцом позволяет повысить глубину проникновения имплантируемых ионов в мишень, что способствует росту износостойкости стали.
Существенным недостатком прототипа является то, что при перемещении плазменной дуги по поверхности катода во второй части импульса тока, оно тяготеет к фиксации на менее тугоплавком металле, т.е на вставке из свинца. В этот момент в плазме ионного потока преобладают ионы свинца и частично присутствуют кластеры из ионов меди и свинца, количество которых невелико. Эти кластеры имеют большую массу, и бомбардировка ими мишени позволяет увеличить глубину проникновения имплантируемых ионов, изменить дислокационную структуру слоя, расположенного под имплантированным слоем, что в конечном итоге благоприятно сказывается на увеличении износостойкости облученных деталей.
Кроме отмеченного недостатка в прототипе отсутствует возможность расширения сортового состава ионов в плазме ионного пучка за счет введения других элементов.
Заявляемый катод для ионной имплантации поверхностей деталей из конструкционной стали обеспечивает повышение износостойкости деталей из конструкционной стали в условиях трения с приложением внешней нагрузки к трущимся деталям.
Технический результат, на достижение которого направлена заявляемая полезная модель, обеспечивается тем, что катод выполнен в виде диска с чередующимися от периферии к центру диска кольцевыми канавками шириной (0,2 - 0,35)d, где d - диаметр активного пятна плазменной дуги на поверхности катода, причем чередование канавок осуществлено в последовательности снижения потенциала ионизации материала монотектический сплав меди со свинцом - свинец - олово.
Подробнее сущность заявляемой полезной модели поясняется чертежами:
на фиг. 1 - представлена схема составного катода;
на фиг. 2 - показано положение активного пятна плазменной дуги относительно канавок в катоде;
на фиг. 3 - представлено изменение во времени сортового состава ионного пучка при работе составного катода;
на фиг. 4 - дислокационная структура подповерхностного слоя при вариации ширины канавок в диске катода.
Выполнение совместной имплантации ионами с большой массой (свинец) в сочетании с ионами (медь), близкими по массе к основе мишени (железо), позволяет создавать большое количество радиационных дефектов, по которым ионы меди проникают вглубь мишени.
Максимальное значение глубины проникновения ионов в матрицу (стали 30ХГСН2А) достигается при использовании в качестве материала катода имплантера монотектического сплава меди со свинцом с содержанием свинца 36%. Дальнейшее увеличение содержания свинца в монотектическом сплаве невозможно. Поэтому увеличение концентрации ионов свинца в имплантированном слое, а также введение в него ионов олова возможно только за счет создания канавок в катоде, заполненных указанными элементами.
Заявляемый катод выполнен в виде диска 1 диаметром D из монотектического сплава меди со свинцом (фиг. 1). Соосно в катоде выполнены чередующиеся круговые несквозные канавки 2 и 3 шириной (0,2 - 0,35)d, где d - диаметр активного пятна плазменной дуги на поверхности катода, причем чередование канавок осуществлено в последовательности снижения потенциала ионизации материала монотектический сплав меди со свинцом - свинец - олово.
Изменяя ширину канавок 2 и 3, можно регулировать сортовой состав ионного пучка и длительность облучения имплантируемой мишени ионами каждого из элементов - меди, свинца и олова.
Увеличение содержания кластерных ионов (комбинации ионов меди, свинца и олова с большой суммарной массой) в пучке, связанное с уменьшением ширины канавок 2 и 3 и попаданию большего количества границ между канавками в пределы активного пятна 5 дуги 4, способствует увеличению глубины проникновения имплантируемых ионов в мишень (фиг. 2).
Однако, при ширине канавок 2 и 3 менее 0,2d отмечается интенсивное хаотичное блуждание активного пятна 5 по поверхности катода 1, сопровождающееся стабилизацию глубины проникновения ионов, которое отражается ростом коэффициента трения и снижением износостойкости имплантированной стали. Кроме того, выполнение канавок такой малой ширины и их заполнение оловом и свинцом становится технически сложным.
Увеличение ширины канавок 2 и 3 более 0,35d приводит к снижению количества кластерных ионов в плазме ионного пучка, что вызывает уменьшение глубины проникновения имплантируемых ионов в мишень и отсутствие упорядоченности дислокационной структуры подповерхностного слоя.
Поэтому оптимальной является ширина канавок (0,2 - 0,35)d, где d - диаметр активного пятна плазменной дуги на поверхности катода.
По мере прохождения импульса тока плазменной дуги наблюдается снижение ее напряжения. Поэтому для сохранения высокой концентрации ионов в ионном потоке необходимо, чтобы активное пятно 5 дуги 4 смещалось при этом на канавку с металлом с низкой работой образования ионов, в данном случае на канавку, заполненную оловом. Поэтому канавки чередуются в направлении к центральной части дискового катода в направлении уменьшения потенциала формирования ионов данного металла.
Был изготовлен катод имплантера в виде диска диаметром 30 мм и толщиной 6 мм из монотектического сплава меди и 36% свинца. В диске катода методом токарной обработки были выбраны глухие (несквозные) цилиндрические углубления шириной 0,8-1,4 мм (диаметр активного пятна дуги на поверхности катода составлял 4 мм) (фиг. 1).
Затем диск был нагрет в электрической печи до температуры 350°С, и в цилиндрические углубления были залиты жидкий свинец и олово. После кристаллизации свинца и олова, а также охлаждения диска до комнатной температуры, его поверхность со стороны канавок была обработана на токарном станке для формирования единой плоскости между диском 1 из монотектического сплава меди со свинцом и кольцевыми канавками 2 и 3, заполненными свинцом и оловом.
Затем полученный составной катод был установлен в имплантер, и была произведена имплантация образцов из стали 30ХГСН2А на режиме:
Остаточное давление в камере 6,6×10-4Па
Ускоряющее напряжение 30 кВ
Ток ионного пучка 0,1 А
Доза имплантации 1017 ион/см2.
Методом вторичной ионной масс-спектрометрии была определена глубина проникновения ионов в имплантируемую мишень. Образцы имплантированной стали были подвергнуты испытаниям на износостойкость с определением массового износа. На трибометре определялась величина коэффициента трения. Полученные результаты приведены в таблице.
Figure 00000001
Испытания также показали, что при увеличении ширины кольцевой канавки 2 более 0,35d в имплантированном слое происходит накопление атомов свинца, что сопровождается увеличением износа имплантированных образцов стали 30ХГСН2А при одновременном росте значений коэффициента трения.
Исследование изменения сортового состава ионов в течение импульса тока в источнике ионов при использовании катода с кольцевыми канавками шириной 0,30d (фиг. 3) показало, что в первые 5 мкс горения плазменной дуги в ионном пучке присутствуют только ионы меди и ионы свинца. По истечении 15 мкс горения плазменной дуги, в составе ионного пучка отмечаются кластерные комплексные ионы, ионы меди, свинца и ионы олова.
Начиная с 25 мкс горения плазменной дуги, в ионном пучке присутствуют в основном кластерные ионы, а также ионы олова. Примерно к 30 мкс в ионном луче нарастает присутствие двухзарядных ионов олова, а вместо трехзарядных появляются однозарядные ионы олова.
На фиг. 4 показана дислокационная структура подповерхностного слоя при вариации ширины канавок в диске катода от 0,15d (а) до 0,30d (б) и 0,50d (в). Из представленных фотографий видно, что наиболее организованная структура поля дислокаций, соответствующая наиболее высоким сжимающим напряжениям, соответствует ширине кольцевых канавок 0,30d (фиг. 4, б).
Таким образом, использование дискового составного катода с чередующимися от периферии к центру диска кольцевыми канавками шириной (0,2 - 0,35)d, где d - диаметр активного пятна плазменной дуги на поверхности катода, причем чередование канавок осуществлено в последовательности снижения потенциала ионизации материала монотектический сплав меди со свинцом - свинец - олово, позволяет повысить глубину проникновения ионов в мишень и износостойкость имплантированной стали 30ХГСН2А.

Claims (1)

  1. Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов, выполненный в виде диска из монотектического сплава меди со свинцом, отличающийся тем, что диск выполнен с чередующимися несквозными кольцевыми канавками шириной (0,2 - 0,35)d, где d - диаметр активного пятна плазменной дуги на поверхности катода, которые заполнены свинцом и оловом, причем канавки выполнены с чередованием материала монотектический сплав меди со свинцом - свинец - олово, в последовательности снижения потенциала ионизации и в направлении от периферии к центру диска.
RU2016125195U 2016-06-24 2016-06-24 Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов RU172049U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016125195U RU172049U1 (ru) 2016-06-24 2016-06-24 Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016125195U RU172049U1 (ru) 2016-06-24 2016-06-24 Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU172049U1 true RU172049U1 (ru) 2017-06-27

Family

ID=59240633

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016125195U RU172049U1 (ru) 2016-06-24 2016-06-24 Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU172049U1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112680625A (zh) * 2020-12-04 2021-04-20 南京国重新金属材料研究院有限公司 一种Cu-Pb偏晶合金及其制备方法
RU2797562C1 (ru) * 2022-10-03 2023-06-07 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" Способ нанесения слоистых покрытий и устройство для его осуществления (варианты)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0192360A (ja) * 1987-03-11 1989-04-11 Ulvac Corp ホロ−カソ−ド型イオン源
US20100159120A1 (en) * 2008-12-22 2010-06-24 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Plasma ion process uniformity monitor
RU2501886C1 (ru) * 2012-09-19 2013-12-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный индустриальный университет" Катод установки для ионной имплантации
CN104805402A (zh) * 2015-05-20 2015-07-29 东莞理工学院 一种太阳能前表面反射镜的制造方法
RU155002U1 (ru) * 2015-04-30 2015-09-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный индустриальный университет" Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0192360A (ja) * 1987-03-11 1989-04-11 Ulvac Corp ホロ−カソ−ド型イオン源
US20100159120A1 (en) * 2008-12-22 2010-06-24 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Plasma ion process uniformity monitor
RU2501886C1 (ru) * 2012-09-19 2013-12-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный индустриальный университет" Катод установки для ионной имплантации
RU155002U1 (ru) * 2015-04-30 2015-09-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный индустриальный университет" Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов
CN104805402A (zh) * 2015-05-20 2015-07-29 东莞理工学院 一种太阳能前表面反射镜的制造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112680625A (zh) * 2020-12-04 2021-04-20 南京国重新金属材料研究院有限公司 一种Cu-Pb偏晶合金及其制备方法
RU2797562C1 (ru) * 2022-10-03 2023-06-07 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" Способ нанесения слоистых покрытий и устройство для его осуществления (варианты)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU172049U1 (ru) Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов
US8153993B2 (en) Front plate for an ion source
WO2015134430A8 (en) Boron-containing dopant compositions, systems and methods of use thereof for improving ion beam current and performance during boron ion implantation
GB1438851A (en) Ion particle accelerator
US4568396A (en) Wear improvement in titanium alloys by ion implantation
Devyatkov et al. Modernization of cathode assemblies of electron sources based on low pressure arc discharge
RU155002U1 (ru) Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов
Devyatkov et al. Pulsed electron source with grid plasma cathode and longitudinal magnetic field for modification of material and product surfaces
RU143632U1 (ru) Катод для ионной имплантации поверхности деталей из конструкционных материалов
RU2501886C1 (ru) Катод установки для ионной имплантации
RU2458182C1 (ru) Способ имплантации конструкционной стали ионами меди и свинца
Zhao et al. Intense pulsed ion beam sources for industrial applications
Ryabchikov et al. Modification of 40X13 steel at high-intensity nitrogen ion implantation
RU2470091C1 (ru) Способ ионной имплантации поверхностей деталей из титановых сплавов
Koval et al. Formation of high intensity ion beams with ballistic focusing
RU2581536C1 (ru) Способ ионной имплантации поверхностей деталей из конструкционной стали
RU2509174C1 (ru) Способ имплантации ионами газов металлов и сплавов
Dudnikov Development of a surface plasma method for negative ion beams production
RU2513119C2 (ru) Способ формирования самонакаливаемого полого катода из нитрида титана для системы генерации азотной плазмы
RU2117073C1 (ru) Способ модификации поверхности титановых сплавов
RU2725788C1 (ru) Устройство для поверхностной обработки металлических и металлокерамических изделий
Perry et al. An overview of some advanced surface technology in Russia
RU2386705C1 (ru) Способ закалки стальных изделий
RU2430991C1 (ru) Способ ионной имплантации поверхности деталей из стали 30хгсн2а
Ryabchikov et al. Plasma-immersion formation of high-intensity ion beams

Legal Events

Date Code Title Description
MM9K Utility model has become invalid (non-payment of fees)

Effective date: 20190625