RU2465612C2 - Method for comparative assessment of transistor batches by reliability - Google Patents
Method for comparative assessment of transistor batches by reliability Download PDFInfo
- Publication number
- RU2465612C2 RU2465612C2 RU2009142349/28A RU2009142349A RU2465612C2 RU 2465612 C2 RU2465612 C2 RU 2465612C2 RU 2009142349/28 A RU2009142349/28 A RU 2009142349/28A RU 2009142349 A RU2009142349 A RU 2009142349A RU 2465612 C2 RU2465612 C2 RU 2465612C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- batches
- reliability
- transistor
- transistors
- potential
- Prior art date
Links
Landscapes
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к обеспечению надежности транзисторов, и может быть использовано для сравнительной оценки надежности партий транзисторов по стойкости с электростатическими разрядами (ЭСР) на этапах выпуска и применения.The invention relates to microelectronics, in particular to ensuring the reliability of transistors, and can be used to comparatively evaluate the reliability of batches of transistors in terms of resistance with electrostatic discharges (ESD) at the stages of production and use.
Известно [1], что с увеличением подаваемого напряжения ЭСР на полупроводниковые изделия, в том числе и на транзисторы, их электрические параметры изменяются в худшую строну.It is known [1] that with increasing supply voltage of ESD to semiconductor products, including transistors, their electrical parameters change for the worse.
Известен способ [2] сравнительной оценки надежности партий транзисторов по влиянию величины ЭСР на появление параметрических и катастрофических отказов. При этом на транзисторы подается ЭСР потенциалом, вдвое большим, чем допустимый по техническим условиям (ТУ) с последующим его увеличением ступенчато на 20-30 В.A known method [2] of a comparative assessment of the reliability of batches of transistors by the influence of the ESR value on the appearance of parametric and catastrophic failures. In this case, ESR potential is applied to the transistors, which is twice as large as permissible according to the technical specifications (TU) with its subsequent increase stepwise by 20-30 V.
Недостаток данного метода: необходимость проведения воздействия ЭСР, начиная с удвоенной величины допустимого по ТУ напряжения разряда и продолжения увеличения напряжения до появления параметрического или катастрофического отказа.The disadvantage of this method is the need for ESD exposure, starting with the doubled value of the discharge voltage permissible according to the technical specifications and continuing to increase the voltage until a parametric or catastrophic failure occurs.
Изобретение направлено на устранение указанного недостатка, а именно в предлагаемом способе ЭСР подается отдельно на переходы эмиттер-база и коллектор-база потенциалом, начиная с допустимого, а затем увеличивая его, но не более чем в два раза, с числом воздействий соответственно 5, 4, 2, 1 различной полярности. Значения величины низкочастотного шума измеряются на различных переходах до испытаний и после каждого последующего воздействия ЭСР. По разности значений интенсивности шума на переходах коллектор-эмиттер и коллектор-база судят о потенциальной надежности сравниваемых партий транзисторов.The invention is aimed at eliminating this drawback, namely, in the proposed method, the ESD is supplied separately to the emitter-base and collector-base transitions with a potential, starting from the permissible, and then increasing it, but not more than twice, with the number of effects, respectively, 5, 4 , 2, 1 of different polarity. Low-frequency noise values measured at various transitions before testing and after each subsequent exposure to ESD. The difference in the values of the noise intensity at the collector-emitter and collector-base junctions judges the potential reliability of the compared batches of transistors.
Способ апробирован на 10 транзисторах типа КТ838А (мощные биполярные транзисторы p-n-p проводимости), у которых измеряли величину интенсивности шума при прямом рабочем токе 3 мА до и после воздействия ЭСР. Воздействие ЭСР осуществляли по модели тела человека с потенциалом 500 В (допустимое значение по ТУ), 650 В, 850 В, 1000 В с числом воздействий ЭСР соответственно 5, 4, 2, 1 различной полярности. Результаты измерений , а также значения изменения величины (разность напряжения шума эмиттерного и коллекторного перехода) после воздействий ЭСР приведены в таблицах 1 и 2.The method was tested on 10 transistors type KT838A (high-power bipolar transistors pnp conductivity), which measured the magnitude of the noise intensity at a direct operating current of 3 mA before and after exposure to ESD. The impact of ESD was carried out according to the model of a human body with a potential of 500 V (permissible value according to TU), 650 V, 850 V, 1000 V with the number of ESR effects, respectively, 5, 4, 2, 1 of different polarity. Measurement results , as well as the values of the change in value (the difference between the noise voltage of the emitter and collector junction) after exposure to ESD are shown in tables 1 and 2.
В таблицах 1 и 2 показаны результаты измерений при различных напряжениях с целью представления изменения низкочастотного шума с увеличением напряжения. Практически замеряют начальное и после 1000 В. На второй партии замеры проведены только после воздействия ЭСР напряжением 1000 В (см. рис.).Tables 1 and 2 show the measurement results. at various voltages in order to represent the change in low-frequency noise with increasing voltage. Practically measure initial and after 1000 V. On the second batch, measurements were carried out only after exposure to an ESD of 1000 V (see Fig.).
Так как в этом способе воздействие ЭСР осуществляют напряжением больше допустимого, то он может применяться только для выборочной оценки партий транзисторов по потенциальной надежности. Из рисунка видно, что партия I более надежна, чем партия II.Since in this method the effect of ESD is carried out with a voltage exceeding the permissible value, it can be used only for a selective assessment of transistor batches by potential reliability. It can be seen from the figure that party I is more reliable than party II.
Источники информацииInformation sources
1. Горлов М.И., Емельянов А.В., Плебанович В.И. Электростатический заряд в электронике // Мн.: Бел. наука, 2006. - 295 с.1. Gorlov M.I., Emelyanov A.V., Plebanovich V.I. Electrostatic charge in electronics // Mn .: Bel. Science, 2006 .-- 295 p.
2. Патент РФ №2226698, МПК G01R 31/26. Опубликован 10.04.2004. Бюл. №10.2. RF patent No. 2226698, IPC G01R 31/26. Published April 10, 2004. Bull. No. 10.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2009142349/28A RU2465612C2 (en) | 2009-11-17 | 2009-11-17 | Method for comparative assessment of transistor batches by reliability |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2009142349/28A RU2465612C2 (en) | 2009-11-17 | 2009-11-17 | Method for comparative assessment of transistor batches by reliability |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2009142349A RU2009142349A (en) | 2011-05-27 |
RU2465612C2 true RU2465612C2 (en) | 2012-10-27 |
Family
ID=44734369
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2009142349/28A RU2465612C2 (en) | 2009-11-17 | 2009-11-17 | Method for comparative assessment of transistor batches by reliability |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2465612C2 (en) |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000241491A (en) * | 1999-02-24 | 2000-09-08 | Nec Corp | Method and device for evaluating bipolar transisitor |
US6184048B1 (en) * | 1999-11-03 | 2001-02-06 | Texas Instruments Incorporated | Testing method and apparatus assuring semiconductor device quality and reliability |
US6292011B1 (en) * | 1998-07-16 | 2001-09-18 | Nec Corporation | Method for measuring collector and emitter breakdown voltage of bipolar transistor |
RU2230335C1 (en) * | 2002-10-21 | 2004-06-10 | Воронежский государственный технический университет | Procedure establishing potentially unreliable semiconductor devices |
RU2234104C1 (en) * | 2003-02-26 | 2004-08-10 | Воронежский государственный технический университет | Method for determination of potentially unstable semiconductor devices |
RU2234163C1 (en) * | 2003-04-07 | 2004-08-10 | Воронежский государственный технический университет | Method for detecting a priori defective transistors |
RU2249227C1 (en) * | 2003-07-31 | 2005-03-27 | Воронежский государственный технический университет | Method for detecting potentially unstable semiconductor devices |
RU2258234C1 (en) * | 2004-06-30 | 2005-08-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Воронежский научно-исследовательский институт связи" | Method of reliability separation of semiconductor devices |
RU2276379C1 (en) * | 2004-10-06 | 2006-05-10 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" | Method for selecting semiconductor devices with high reliability |
RU2309417C2 (en) * | 2005-12-01 | 2007-10-27 | Открытое акционерное общество "Концерн "Созвездие" | Method for detecting potentially unreliable bipolar transistors |
RU2317560C1 (en) * | 2006-06-26 | 2008-02-20 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" | Method of comparative estimation of stability of bipolar resistors set to electrostatic charge |
-
2009
- 2009-11-17 RU RU2009142349/28A patent/RU2465612C2/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6292011B1 (en) * | 1998-07-16 | 2001-09-18 | Nec Corporation | Method for measuring collector and emitter breakdown voltage of bipolar transistor |
JP2000241491A (en) * | 1999-02-24 | 2000-09-08 | Nec Corp | Method and device for evaluating bipolar transisitor |
US6184048B1 (en) * | 1999-11-03 | 2001-02-06 | Texas Instruments Incorporated | Testing method and apparatus assuring semiconductor device quality and reliability |
RU2230335C1 (en) * | 2002-10-21 | 2004-06-10 | Воронежский государственный технический университет | Procedure establishing potentially unreliable semiconductor devices |
RU2234104C1 (en) * | 2003-02-26 | 2004-08-10 | Воронежский государственный технический университет | Method for determination of potentially unstable semiconductor devices |
RU2234163C1 (en) * | 2003-04-07 | 2004-08-10 | Воронежский государственный технический университет | Method for detecting a priori defective transistors |
RU2249227C1 (en) * | 2003-07-31 | 2005-03-27 | Воронежский государственный технический университет | Method for detecting potentially unstable semiconductor devices |
RU2258234C1 (en) * | 2004-06-30 | 2005-08-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Воронежский научно-исследовательский институт связи" | Method of reliability separation of semiconductor devices |
RU2276379C1 (en) * | 2004-10-06 | 2006-05-10 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" | Method for selecting semiconductor devices with high reliability |
RU2309417C2 (en) * | 2005-12-01 | 2007-10-27 | Открытое акционерное общество "Концерн "Созвездие" | Method for detecting potentially unreliable bipolar transistors |
RU2317560C1 (en) * | 2006-06-26 | 2008-02-20 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" | Method of comparative estimation of stability of bipolar resistors set to electrostatic charge |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2009142349A (en) | 2011-05-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8283941B2 (en) | Alternating current (AC) stress test circuit, method for evaluating AC stress induced hot carrier injection (HCI) degradation, and test structure for HCI degradation evaluation | |
US20130049779A1 (en) | Integrated circuit | |
RU2465612C2 (en) | Method for comparative assessment of transistor batches by reliability | |
US9519015B2 (en) | Rise time and fall time measurement | |
Li et al. | An exploration of thermo-sensitive electrical parameters to estimate the junction temperature of silicon carbide mosfet | |
CN102590630B (en) | The method for testing resistance of the test probe of semiconductor parametric tester device | |
CN108205074A (en) | Saturation voltage measuring circuit and method based on IGBT module | |
CN107991543B (en) | Gate charge quantity measuring circuit and method of insulated gate bipolar transistor | |
CN104515968A (en) | Calibration device for capacitor instant open/short circuit tester and calibration method | |
RU2538032C2 (en) | Method for comparative assessment of reliability of batches of semiconductor articles | |
US10295583B2 (en) | Circuit for measuring flicker noise and method of using the same | |
RU2311653C1 (en) | Method for dividing analog integration chips on basis of reliability | |
RU2490655C2 (en) | Method for comparative assessment of semiconductor reliability | |
US9772366B2 (en) | Circuits and methods of testing a device under test using the same | |
RU2309417C2 (en) | Method for detecting potentially unreliable bipolar transistors | |
CN100552461C (en) | A kind of method and circuit structure thereof of measuring capacitance mismatch | |
Liang et al. | Analysis of temperature effect on electromagnetic susceptibility of microcontroller | |
RU2511633C2 (en) | Method of screening low-quality semiconductor articles from batches of high-reliability articles | |
RU2374658C1 (en) | Separation method of semi-conducting items as to reliability | |
Dilli et al. | An enhanced specialized SiC power MOSFET simulation system | |
Li et al. | A simple transfer capacitance measurement method of SiC MOSFET in high-voltage applications | |
RU2317560C1 (en) | Method of comparative estimation of stability of bipolar resistors set to electrostatic charge | |
RU2234163C1 (en) | Method for detecting a priori defective transistors | |
RU2324194C1 (en) | Method of integrated circuit division upon reliability criterion | |
CN112269115B (en) | Test structure and test method of semiconductor device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20121118 |