RU2425176C2 - Способ получения электрода, электрод (варианты) и электролитическая ячейка (варианты) - Google Patents
Способ получения электрода, электрод (варианты) и электролитическая ячейка (варианты) Download PDFInfo
- Publication number
- RU2425176C2 RU2425176C2 RU2007111999/02A RU2007111999A RU2425176C2 RU 2425176 C2 RU2425176 C2 RU 2425176C2 RU 2007111999/02 A RU2007111999/02 A RU 2007111999/02A RU 2007111999 A RU2007111999 A RU 2007111999A RU 2425176 C2 RU2425176 C2 RU 2425176C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- mol
- oxide
- coating
- electrode
- metal
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 105
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 105
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 92
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 81
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N oxopalladium Chemical compound [Pd]=O HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910003445 palladium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 6
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N oxorhodium Chemical compound [Rh]=O SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 229910003450 rhodium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 38
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 36
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 33
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 30
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 22
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 17
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 14
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 13
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 13
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 8
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- -1 platinum group metal oxide Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 7
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 6
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 claims description 6
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 5
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 4
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 3
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- ROZSPJBPUVWBHW-UHFFFAOYSA-N [Ru]=O Chemical class [Ru]=O ROZSPJBPUVWBHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011029 spinel Substances 0.000 claims description 2
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 claims description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims description 2
- YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N dioxolead Chemical compound O=[Pb]=O YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 claims 2
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000005480 shot peening Methods 0.000 claims 2
- YJZATOSJMRIRIW-UHFFFAOYSA-N [Ir]=O Chemical class [Ir]=O YJZATOSJMRIRIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WZOZCAZYAWIWQO-UHFFFAOYSA-N [Ni].[Ni]=O Chemical compound [Ni].[Ni]=O WZOZCAZYAWIWQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 claims 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 claims 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 claims 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 19
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 3
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000003842 bromide salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 2
- 239000011262 electrochemically active material Substances 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)Cl DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- NGCRLFIYVFOUMZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloroquinoxaline-6-carbonyl chloride Chemical compound N1=C(Cl)C(Cl)=NC2=CC(C(=O)Cl)=CC=C21 NGCRLFIYVFOUMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021638 Iridium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004353 Ti-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004337 Ti-Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910011212 Ti—Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910011209 Ti—Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- DHOCGIHFPKXZJB-UHFFFAOYSA-N [Cl+].N[H] Chemical class [Cl+].N[H] DHOCGIHFPKXZJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001462 antimony Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- PVZMSIQWTGPSHJ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;tantalum Chemical compound [Ta].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO PVZMSIQWTGPSHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000001860 citric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000009503 electrostatic coating Methods 0.000 description 1
- 238000010285 flame spraying Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- KHYBPSFKEHXSLX-UHFFFAOYSA-N iminotitanium Chemical compound [Ti]=N KHYBPSFKEHXSLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000011416 infrared curing Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 150000004704 methoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound CCCO[Ti](OCCC)(OCCC)OCCC HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWUQLGUXYUKOKE-UHFFFAOYSA-N propan-2-ol;tantalum Chemical compound [Ta].CC(C)O.CC(C)O.CC(C)O.CC(C)O.CC(C)O KWUQLGUXYUKOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical class [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Abstract
Настоящее изобретение относится к способу получения электрода, электроду и электролитической ячейке. Способ получения электрода для электролиза галогенсодержащего раствора с уменьшенным рабочим потенциалом электролиза включает получение основы электрода из вентильного металла, нанесение на нее промежуточного электрокаталитического покровного слоя. Затем проводят нанесение на указанную основу из вентильного металла верхнего покровного слоя посредством раствора, содержащего по меньшей мере один оксид переходного металла, выбранного из группы, включающей оксид палладия, оксид родия и оксид кобальта, в количестве от приблизительно 0,01 мол.% до приблизительно 10 мол.% в расчете на суммарное содержание оксидов переходных металлов в покрытии. Техническим результатом является то, что электрокаталитическое покрытие можно применять в качестве анодного компонента в электролитической ячейке для электролиза галогенсодержащих растворов, причем указанные компоненты снижают рабочий потенциал анода и исключают необходимость в периоде "прерывания" для снижения анодного потенциала. 9 н. и 31 з.п. ф-лы, 2 табл.
Description
Область техники, к которой относится изобретение
Настоящее изобретение относится к электродным и электрокаталитическим покрытиям для применения в водных галогенсодержащих растворах, которые обеспечивают низкое начальное и общее рабочее напряжение.
Уровень техники
Описаны электроды для применения в электролитических процессах, которые включают металлическую основу или ядро, покрытое слоем из оксидов металлов. Металлическое ядро электрода может быть вентильным металлом, таким как титан, тантал, цирконий, ниобий или вольфрам. Если в качестве покрытия используют смесь оксидов, оксид ядра или субстрата может содержаться в смеси. Такая смесь может включать оксиды металлического субстрата плюс, по крайней мере, один оксид металла, такого как платина, иридий, родий, палладий, рутений и осмий. Такие электроды известны в данной области и в основном обозначаются как "неизменяющие размеры".
Основной недостаток таких покрытий при применении хлор/хлоратов заключается в отрицательном действии на потенциал выделения хлора, который приводит к более высокому рабочему потенциалу и необходимости периода "прерывания" напряжения, в течение которого анод эксплуатируется при повышенном потенциале в течение нескольких месяцев.
Попытки преодолеть недостатки, связанные с ростом потенциала выделения хлора, описаны в патенте США №4,233,340, в котором разработан нерастворимый электрод с покрытием, содержащим прокаленную взвесь оксида палладия, в смеси с соединением платины, которое разлагается при нагревании с образованием металлической платины. Покрытие содержит от 99 до 5 мол.% оксида палладия и от 1 до 95 мол.% металлической платины. В патенте США №4,443,317 описан электрод для электролиза с покрытием, содержащим от 40 до 90 мол.% оксида палладия, от 0,1 до 20 мол.% платины и от 5 до 50 мол.% (RUxTi1-x))2.
Таким образом, в настоящее время существует необходимость в разработке электрода с покрытием, которое исключает необходимость периода "прерывания" напряжения и обеспечивает более низкий общий рабочий потенциал. Кроме того, такие электроды необходимы, чтобы предотвратить или исключить повышение напряжения при последующей термообработке покрытия.
Раскрытие изобретения
В настоящем изобретении предлагается электрод с электрокаталитическим покрытием, которое обеспечивает уменьшение рабочего потенциала на электроде в электрохимической ячейке для окисления галогенсодержащих растворов. Кроме того, покрытие позволяет исключить период "прерывания" напряжения, что необходимо для получения низкого анодного потенциала, и позволяет исключить повышение анодного потенциала, которое наблюдается после этапа термообработки/магнитного изменения свойств.
Осуществление изобретения
В настоящем изобретении предлагается электрод, содержащий электрокаталитическое покрытие, которое характеризуется более низким рабочим потенциалом и позволяет исключить период "прерывания" напряжения. Электрод по настоящему изобретению можно применять в процессе электролитического получения хлора и гидроксидов щелочных металлов в мембранных ячейках в процессах электролитического получения хлоратов и гипохлоритов.
Электрод по настоящему изобретению содержит электрокаталитически активную пленку на проводящем субстрате. В качестве покрытия электрода можно применять любые металлы для нанесения покрытий. Для электрокаталитического покрытия можно использовать металл, такой как никель или марганец, но в большинстве случаев используют "пленкообразующий" металл. Термин "пленкообразующий" металл означает металл или сплав, который после его нанесения на анод и погружения в электролит (в котором предполагается применять указанный анод) быстро образует пассивирующую оксидную пленку, которая защищает нижележащий слой металла от короззии электролитом, т.е. означает металлы и сплавы, которые называются "вентильными металлами". Такие вентильные металлы включают титан, тантал, цирконий, ниобий, вольфрам и кремний, а также сплавы, содержащие один или более из перечисленных металлов, и металлические сплавы и интерметаллические смеси, керамика и металлокерамика, содержащие вентильные металлы (например, Ti-Ni, Ti-Co, Ti-Fe и Ti-Cu). Более подробно, титан класса 5 может включать вплоть до 6,75 мас.% аллюминия и 4,5 мас.% ванадия, титан класса 6 - вплоть до 6 мас.% аллюминия и 3 мас.% олова, титан класса 7 - вплоть до 0,25 мас.% палладия, титан класса 10 - от 10 до 13 мас.% плюс от 4,5 до 7,5 мас.% циркония и т.д. Практический интерес связан с их прочностью, коррозийной стойкостью и доступностью титана.
Использование элементарных металлов в большинстве случаев означает использование металлов в их нормальном состоянии, т.е. содержащих минимальное количество примесей. Таким образом, особенный интерес представляют металлы, такие как титан, различные классы металла, включая титан, в котором другими компонентами являются сплавы или сплавы плюс примеси. Классы титана более подробно описаны в стандартных нормативах титана ASTM В 265-79.
В качестве основы для электродной базы можно использовать пластины, стержни, трубки, проволоку или спаянную проволоку и растянутую металлическую сетку из титана или других пленкообразующих металлов. Можно также использовать титан или другие пленколобразующие металлы, покрывающие проводящий сердечник.
Независимо от выбранного металла и от вида основы для анода поверхность такого субстрата является очищенной поверхностью. Для получения чистой металлической поверхности можно применять любые известные методы очистки поверхности металла, включая механическую очистку. Можно применять стандартные способы обезжиривания, химические и электролитические или другие химические способы очистки. Если способ получения основы включает прокаливание и в качестве металла используют титан класса 1, титан прокаливают при температуре по крайней мере около 450°С в течение времени, по крайней мере, приблизительно 15 минут, но в большинстве случаев используют более высокую температуру прокаливания от 600°С до 875°С, которая является более предпочтительной.
Если очищенная поверхность или полученная и очищенная поверхность предназначены прежде всего для нанесения нескольких слоев покрытия на основе вентильных металлов, то поверхность основы подвергают дальнейшей обработке для повышения адгезии, например электрокаталитических слоев покрытия к вентильному металлу. Такая обработка включает межкристаллитное травление металлического субстрата, жесткая обработка поверхности острой крошкой, насечку, абразивную обработку, плазменное напыление или их комбинации с последующей необязательной обработкой поверхности для удаления вкрапленной металлической крошки.
Для подготовки металла, такого как титан для травления, наиболее подходящим способом является обработка металла прокаливанием, при котором примеси диффундируют к границам блоков. Например, при соответствующем прокаливании титана класса 1 повышается концентрация железа на границах блоков. При травлении желательно совмещать металлическую поверхность с правильной границей зерен и соответствующий размер зерен. С другой стороны, говоря о титане в качестве примера, предпочительным является, когда, по меньшей мере, значительное количество зерен имеют размер в пределах интервала примерно от 3 до 7. Размер зерен, описанный в данном контексте, соответствует инструкциям, как указано в ASTM Е 112-84. Пригодный металлический субстрат с указанными свойствами описан в патенте США №5,167,788.
Пригодную шероховатую металлическую поверхность получают с помощью специальной обработки поверхности острой крошкой с последующим удалением вкрапленной в поверхность крошки. Крошка, которая обычно содержит остроугольные частицы, режет металлическую поверхность, как только соприкасается с поверхностью. Пригодная для этой цели крошка включает песок, оксид аллюминия, сталь и карбид кремния.
Для удаления вкрапленной крошки и/или очистки поверхности можно применять травление или другую обработку, такую как водоструйная обработка, с последующей пескоструйной обработкой. Травление проводят с применением достаточно активного травильного раствора, обычно раствора кислоты, что обеспечивает шероховатость поверхности и/или поверхностную морфологию, можно применять агрессивную атаку на границах кристаллических блоков. С этой целью используют хлорводородную, серную, перхлористую, азотную, щавелевую, винную и фосфорную кислоты и их смеси, включая водные растворы. Другие травильные средства включают щелочные травильные средства, такие как раствор гидроксида калия в смеси с нитратом калия. После травления протравленную металлическую поверхность промывают и сушат.
Электрод с электрокаталитическим покрытием, описанным в контексте данного изобретения, в основном выполняет функцию анода. Таким образом, термин "анод"в данном контексте для простоты часто означает электрод, что не ограничивает объем настоящего изобретения.
Если используют плазменное напыление для получения пригодной шероховатой поверхности, материал применяется в форме частиц, таких как капли расплавленного металла. При плазменном напылении металл расплавляют и обрабатывают плазменной струей, генерируемой при нагревании электрической дуги до высокой температуры в инертном газе, таком как аргон или азот, необязательно содержащем минимальное количество водорода. Следует понимать, что термин "плазменное напыление", использованный в данном контексте, предпочтительно означает плазменную обработку и включает в основном газопламенное напыление и электродуговую металлизацию. Таким образом, для простоты указанный термин означает "напыление в расплаве" или "термическое напыление".
В качестве зернистого материала можно применять вентильный металл или его оксид, например оксид титана, оксид тантала и оксид ниобия. Для напыления в расплаве можно применять магнетит, оксид олова, оксид свинца, оксид марганца и перовскиты. Предполагается, что распыляемые оксиды могут быть допированы различными добавками, включающими допанты в ионной форме, такие как ниобий, или олово, или индий.
Предполагается также, что плазменное напыление можно применять в сочетании с травлением поверхности металлического субстрата. Или электродную основу сначала подвергают пескоструйной обработке, как указано выше, с последующим использованием травления или без него.
Следует понимать, что поверхность обрабатывают различными способами, например, перед нанесением покрытия поверхность предварительно обрабатывают указаным выше напылением оксидного покрытия на вентильный металл. Можно также применять другие способы предварительной обработки. Например, поверхность подвергается гидрированию или нитрованию. Перед нанесением покрытия электрохимически активным материалом на поверхности формируют слой оксида при нагревании субстрата на воздухе или с помощью анодного окисления субстрата, как описано в патенте США 3,234,110. Существуют различные варианты обработки, в которых внешний слой электрохимически активного материала наносят на подслой, который, главным образом, служит в качестве проводящего промежуточного слоя. Различные подслои на основе олова описаны в патентах США 4,272,354, 3,882,002 и 3,950,240. На поверхность можно также наносить антипассивирующий слой.
После подготовки поверхности, которая может включать нанесение специального слоя, как описанно выше, на субстрат наносят элекрохимически активное покрытие. Типичный пример электрохимически активного покрытия включает покрытия из активных оксидов, таких как оксиды металлов платиновой группы, магнетит, феррит, кобальтовая шпинель или покрытия из смесей оксидов металлов. Можно применять водные смеси, такие как водные растворы, или на основе растворителей, например, с применением спиртов. Однако основной объект настоящего изобретения включает предпочтительное применение для электродов растворов композиций для покрытий, которые содержат оксиды переходных металлов, включающие один или более следующих металлов: палладий, родий или кобальт, причем наиболее предпочтительным является палладий. Композиции покрытий содержат PdCl2, RhCl3 или CoCl2 и хлороводородную кислоту или спиртовой раствор. В качестве солей металлов используют PdCl2×H2O, RhCl3×H2O или CoCl2×H2O. Для простоты изложения такие формы далее упоминаются как PdCl2, RhCl3 или CoCl2. В основном, хлориды металлов растворяют в спиртах, таких как изопропанол или бутанол, в присутствии или отсутствии небольшого количества хлористой кислоты, причем предпочтительным является н-бутанол.
В каждом варианте осуществления настоящего изобретения композиции покрытия содержат компонент переходного металла в количестве от 0,1 мол.% до приблизительно 10 мол.% в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металлов платиновой группы, предпочтительно в интервале от 0,4 мол.% до приблизительно 6 мол.%. Следует понимать, что в качестве составных частей в основном присутствуют их оксиды, а ссылка на металлы при описании соотношений дана для простоты описания.
Неожиданно было установлено, что применение таких небольших количеств переходных металлов в составе композиции для покрытий по настоящему изобретению позволяет снизить рабочий потенциал при электролизе галогенсодержащих растворов от приблизительно 10 мВ до приблизительно 100 мВ в зависимости от значения потенциала покрытия в отсутствии переходного металла. Полученные ранее покрытия, как описано выше, содержат значительное количество оксида палладия вплоть до 40% или более в комбинации с другими металлами. Таким образом нельзя было предположить, что требуемый эффект, как описано при применении композиции по настоящему изобретению, можно получить простым упрощением состава известной композиции, как описано в заявке РСТ №PCT/US04/14357, которая в полном объеме включена в настоящее описание композиции для покрытия и содержит, кроме Pd-компонента, как описано выше, оксид рутения в комбинации с оксидом титана и оксидами сурьмы или олова. Композиция для покрытия необязательно может содержать оксид иридия. Композиции для покрытия согласно первому варианту включают RuCl3, ТiCl3, SbСl3 и хлористоводородную кислоту, все в водных растворах. Установлено, что в качестве электрохимически активных покрытий по первому варианту осуществления предпочтительный состав покрытия получают с применением водной основы в отличие от спиртовой основы.
В первом варианте осуществления композиция для покрытия содержит значительное количество рутения, по крайней мере от приблизительно 10 мол.% до приблизительно 30 мол.% и предпочтительно от приблизительно 15 мол.% до приблизительно 25 мол.%, в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металлов в покрытии. Следует понимать, что составные компоненты в основном присутствуют в виде их оксидов, а ссылки на металлы при описании соотношений даны для простоты описания.
В первом варианте осуществления компонент вентильного металла включен в композицию для покрытия. Можно использовать различные вентильные металлы, включая титан, тантал, ниобий, цирконий, гафний, ванадий, молибден и вольфрам, предпочтительнее титан. Соли растворимых металлов также могут использоваться, а также пригодные неорганические заместители, включающие хлориды, иодиды, бромиды, сульфаты, бораты, карбонаты, ацетаты и цитраты, например ТiCl3 или TiCl4, в растворах кислот. Такие композиции для покрытий содержат в значительном количестве компонент Ti, т.е. по крайней мере от приблизительно 50 мол.% до 85 мол.% и предпочтительно от приблизительно 60 мол.% до приблизительно 75 мол.% в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металлов в покрытии.
Если в первом варианте композиция для покрытия содержит оксид иридия, то в качестве пригодных предшественников можно использовать IrСl3 и H2IrCl6. Оксид иридия присутствует в количестве от приблизительно 1 мол.% до приблизительно 25 мол.% в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металлов в покрытии.
В предпочтительном первом варианте осуществления композиция для покрытия содержит оксид сурьмы. Пригодные предшественники включают SbСl3, SbCl5 или другие неорганические соли сурьмы. Оксид сурьмы в основном присутствует в количестве приблизительно от 5 мол.% до 20 мол.% и предпочтительно от 10 мол.% до 15 мол.% в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металлов в покрытии.
Как упоминалось ранее, в первом варианте осуществления электрокаталитическое покрытие содержит оксид олова вместо оксида сурьмы или в смеси с ним. Если предпочтительным является оксид олова, то пригодные предшественники включают SnCl2, SnSО4 или другие неорганические соли олова. Если используется оксид олова, его содержание в основном составляет от приблизительно 2 мол.% до приблизительно 20 мол.% и предпочтительнее от приблизительно 3 мол.% до приблизительно 15 мол.% в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металлов в покрытии.
В первом варианте отношение рутения к сурьме или олову в композиции покрытия в основном составляет от приблизительно 2:1 до приблизительно 0,1:1 и предпочтительно приблизительно 1,5:1, причем отношение титана к сурьме или олову составляет приблизительно от 19:1 до 1:1 и предпочтительно 5,7:1. Если необязательно используется компонент иридий, отношение рутения к иридию в основном составляет от приблизительно 1:1 до приблизительно 99:1.
Во втором варианте осуществления настоящего изобретения, как описано в заявке РСТ №10/395939, которая в полном объеме включена в настоящее описание в качестве ссылки, предпочтительные растворы композиции для покрытия включают RuСl3 и IrСl3 и хлористоводородную кислоту, все в спиртовом растворе в присутствии или отсутствии компонентов вентильных металлов. Можно также использовать хлориридиевую кислоту H2lrCl6. Следует понимать, что RuCl3 можно использовать в форме RuCl3×H2O, а IrСl3 в форме IrCl3×H2O. Для простоты описания такие формы в основном обозначаются как RuCl3 и IrСl3. В основном хлорид рутения растворяют вместе с хлоридом иридия в спирте, таком как изопропанол или бутанол, в присутствии или отсутствии небольшого количества хлористоводородной кислоты, предпочтительный спирт - н-бутанол.
Во втором варианте осуществления композиция для покрытия содержит достаточное количество компонента рутения, содержание которого составляет по крайней мере приблизительно от 5 мол. % до приблизительно 50 мол. % металлического рутения в расчете на 100 мол. % суммарного содержания металлов в покрытии, предпочтительно в интервале от приблизительно 15 мол. % до приблизительно 35 мол. % рутения. Следует понимать, что составные компоненты в основном присутствуют в виде их оксидов, а ссылки на металлы при описании соотношений даны для простоты описания.
Во втором варианте осуществления композиция для покрытия содержит достаточное количество Ir, содержание которого составляет от приблизительно 50 мол.% до приблизительно 95 мол.% металлического иридия в расчете на 100 мол.% металлов иридия и рутения, предпочтительно в интервале от приблизительно 50 мол.% до приблизительно 75 мол.% иридия. Для улучшения характеристик покрытия молярное соотношение Ru/lr составляет приблизительно от 1:1 до приблизительно 1:4, предпочтительно приблизительно 1:1,6.
Во втором варианте осуществления в композицию для покрытия необязательно включен вентильный металл для дальнейшей стабилизации покрытия и/или для изменения эффективности анода. Как описано выше, в первом варианте осуществления настоящего изобретения можно использовать вентильные металлы, включая титан, тантал, ниобий, цирконий, гафний, ванадий, молибден и вольфрам. Компоненты вентильных металлов получают из алкоксидов вентильных металлов в спиртовом растворителе в присутствии или отсутствие кислоты. Такие алкоксиды вентильных металлов по настоящему изобретению включают метоксиды, этоксиды, изопропоксиды и бутоксиды. Например, можно использовать этоксид титана, пропоксид титана, бутоксид титана, этоксид тантала, изопропоксид тантала или бутоксид тантала.
Если во втором варианте осуществления в композиции используют компонент вентильного металла, то покрытие содержит от приблизительно 0,1 мол.% вплоть до 25 мл.% в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металлов в покрытии, предпочтительно содержание в композиции составляет от приблизительно 5 мол.% до приблизительно 15 мол.%.
В третьем варианте осуществления, как описано в патенте США 5,230,780, который в полном объеме включен в данное описание в качестве ссылки, композиция покрытия включает, кроме переходного металла, раствор оксидов иридия, рутения и титана. Обычно каждый предшественник является солью, наиболее предпочтительно галогенидом и наиболее предпочтительно используют все компоненты в виде хлоридов. Однако другие приемлемые соли включают иодиды, бромиды и аммонийные хлорсодержащие соли, такие как гексахлориридат или рутенат аммония. Композицию для покрытия наносят на металлический субстрат в виде водного раствора, предпочтительно с использованием только простой воды без дополнительных жидкостей. Предпочтительным является использование деионизированной или дистиллированной воды, чтобы исключить присутствие неорганических примесей.
В третьем варианте осуществления изобретения в отдельный раствор или комбинацию растворов, кроме пригодного предшественника, в большинстве случаев не добавляют никаких дополнительных ингредиентов за одним исключением. Таким исключением является присутствие неорганической кислоты. Например, в раствор трихлорида иридия добавляют сильную кислоту, наиболее предпочтительно хлористоводородную кислоту, содержание которой обычно составляет от приблизительно 5 до приблизительно 20 мас.%. Обычно рН отдельного раствора или комбинированного раствора составляет менее 1, например в интервале от приблизительно 0,2 до приблизительно 0,8.
В третьем варианте осуществления композиция для покрытия содержит по крайней мере приблизительно 15, но менее 25 мол.% иридия, от приблизительно 35 до приблизительно 50 мол.% рутения и по крайней мере приблизительно 30, но не менее 45 мол.% титана в расчете на 100 мол.% суммарного количества указанных компонентов. Для улучшения характеристик покрытия молярное соотношение оксида рутения и оксида иридия в полученном покрытии составляет более чем приблизительно 1,5:1 до приблизительно 3:1. Более того, молярное соотношение оксида титана и общего количества оксидов иридия и рутения составляет менее приблизительно 1:1, но в большинстве случаев более 0,5:1.
В четвертом варианте осуществления настоящего изобретения предпочтительные композиции содержат оксиды рутения, иридия и титана. Как описано выше, пригодные предшественники включают RuCl3, IrCl3 и орто-бутилтитанат в спиртовом растворе. В четвертом варианте осуществления композиции для покрытия содержат от приблизительно 2 до приблизительно 20 мол.% компонента иридия, от приблизительно 10 до приблизительно 30 мол.% компонента рутения и от приблизительно 50 до приблизительно 85 мол.% компонента титана в расчете на 100 мол.% суммарного содержания указанных компонентов.
В каждом следующем варианте осуществления композиции для покрытия содержащее оксид переходного металла совместно со смесью оксидов металлов покрытие наносят в качестве электрохимически активного слоя. В пятом варианте осуществления настоящего изобретения верхний слой покрытия на основе переходного металла содержит один или более следующих металлов: палладий, родий или кобальт, предпочтительно палладий, и такой слой наносят на промежуточный слой электрохимически активного покрытия. Верхний слой покрытия формируют из разбавленного раствора переходного металла в спирте или воде в присутствии или в остутствие кислоты. В основном содержание компонента переходного металла составляет от примерно 0,2 до примерно 10 г/л металла. Предпочтительный верхний покрывающий слой формируют из раствора PdCl2 в хлористоводородной кислоте.
Любую из описанных выше композиций для покрытия можно наносить на металлический субстрат любым стандартным методом для нанесения жидких композиций на металлический субстрат. Такие методы включают методы центрифугирования и погружения в потоке, нанесение кистью, нанесение валиком и нанесение напылением и комбинацию методов, например погружение в потоке с напылением. Для нанесения покрытия напылением можно использовать стандартный сжатый газ или покрытие наносят электростатическим напылением. Из указанных выше композиций покрытия для обеспечения электрохимически активного покрытия наиболее пригодным является метод нанесения покрытия валиком.
Независимо от метода нанесения покрытия обычно процедура нанесения покрытия повторяется для обеспечения равномерного покрытия с более высокой плотностью, т.к. такое покрытие нельзя сформировать однократным нанесением. Однако достаточная плотность нанесения покрытия составляет от приблизительно 0,1 г/м2 суммарного металла до приблизительно 20 г/м2 и предпочтительно от приблизительно 3 г/м2 до приблизительно 12 г/м2.
После нанесения покрытия нанесенную композицию нагревают для образования смешанных оксидов за счет термического разложения предшествеников, присутствующих в композиции покрытия, при этом получают покрытие из смеси оксидов, содержащих смешанные оксиды в молярном соотношении в зависимости от содержания металлов, как описано выше. Такое нагревание для термического разложения проводят при температуре по крайней мере приблизительно 350°С в течение по крайней мере 3 мин. Обычно нанесенное покрытие нагревают при более высоких температурах вплоть до 550°С в течение не более 20 мин. Пригодные условия включают нагревание на воздухе или в атмосфере кислорода. В основном для нагревания используют методы, которые используются для отверждения покрытия на металлическом субстрате. Таким образом можно использовать нанесение покрытия в печи, включая конвекторные печи, кроме того, используют методы инфракрасного отверждения. После такого нагревания и перед дополнительным нанесением покрытия, если требуется дополнительное нанесение композиции покрытия, нагретый субстрат с покрытием обычно охлаждают по крайней мере до комнатной температуры. Прежде всего после завершения нанесения композиций покрытия можно использовать повторное прокаливание. Типичные условия повторного прокаливания включают температуры от приблизительно 400°С до приблизительно 550°С. Время прокаливания варьирует от приблизительно 10 мин до приблизительно 300 мин.
Как описанно выше, покрытие по настоящему изобретению прежде всего предназначено для анода, который используют в электрокаталитических процессах для получения хлоратов и гидроксидов щелочных металлов. Однако также электроды можно применять в других процессах, таких как получение хлора и гипохлоритов.
Пример 1
Плоские титановые пластины из чистого титана первого класса подвергают травлению при 90-95°С в 18-20% растворе хлороводородной кислоты в течение 25 мин для получения шероховатой поверхности для нанесения покрытия.
Таблица 1
Для нанесения используют композиции для покрытия, указанные в таблице 1. Растворы для покрытий получают добавлением перечисленных металлов в виде хлоридов в растворитель бутанол или смесь вода/HCl. После перемешивания до полного растворения всех солей растворы наносят на каждый отдельный образец подготовленных титановых пластин. Покрытия наносят слоями, каждое покрытие в отдельности с последующим высушиванием при комнатной температуре, затем нагревают на воздухе в указанных условиях отвердения. После нанесения последного слоя покрытия, некоторые образцы подвергают дополнительному прокаливанию на воздухе (температура/продолжительность указаны в таблице в столбце "дополнительное прокаливание").
Стандартный электродный потенциал покрытых образцов (SEP) измеряют при 50°С в растворе NaCl (300 г/л). В таблице 1 указаны измеренные значения и показано, что для всех перечисленных покрытий присутствие палладия в составе понижает значение SEP в отсутствие или в присутствии дополнительного прокаливания.
Пример 2
Три коммерческих образца покрытий получают со склада. Состав композиций для покрытий и субстраты представлены в таблице 2.
Для удаления любых поверхностных примесей субстраты с покрытием №1-3 нагревают в печи до 450-470°С приблизительно 5 мин и измеряют SEP, результаты измерений представлены в таблице 2. Следует отметить, что образец №1 подвергали дополнительному прокаливанию, в результате он характеризуется повышенным значением SEP. Готовят раствор Pd 0,7 г/л (в виде PdCl2) в 18 мас.% HCl, и образцы № 1-3 покрывают одним слоем раствора, таким образом получают образцы №4-6. Покрытие сушат на воздухе и образцы прокаливают в печи при 460-490°С в течение 3-6 мин для отверждения покрытия. После удаления из печи и последующего периода охлаждения снова измеряют SEP. Данные таблицы 2 свидетельствуют о том, что в образце №4 значение SEP уже не увеличивается, что связано с нанесением верхнего слоя раствора палладия.
Затем три образца №4-6 прокаливают при 470°С в течение 90 мин, при этом получают образцы №7-9, в которых снова измеряют SEP. Данные таблицы 2 свидетельствуют о том, что ни одно значение SEP не повышается после дополнительного прокаливания, что связано нанесением верхнего слоя раствора палладия.
В настоящем описании приведены только наиболее эффективные способы осуществления изобретения, которые не ограничивают объем изобретения, который определен в пунктах формулы изобретения.
Claims (40)
1. Способ получения электрода для электролиза галогенсодержащего раствора с уменьшенным рабочим потенциалом электролиза, включающий получение основы электрода из вентильного металла, нанесение на нее промежуточного электрокаталитического покровного слоя, затем нанесение на указанную основу из вентильного металла верхнего покровного слоя посредством раствора, содержащего по меньшей мере один оксид переходного металла, выбранного из группы, включающей оксид палладия, оксид родия и оксид кобальта, в количестве от приблизительно 0,01 мол.% до приблизительно 10 мол.% в расчете на суммарное содержание оксидов переходных металлов в покрытии.
2. Способ по п.1, в котором указанная основа из вентильного металла выполнена в виде по меньшей мере одной формы, выбранной из группы, включающей сетку, лист, стержень, трубку, штампованную пластину и проволоку, а указанный вентильный металл представляет собой по меньшей мере одно вещество, выбранное из группы, включающей титан, тантал, аллюминий, гафний, ниобий, цирконий, молибден и вольфрам, их сплавы и интерметаллические смеси.
3. Способ по п.2, в котором поверхность указанной основы электрода из вентильного металла представляет собой шероховатую поверхность, которую получают посредством по меньшей мере одного метода, выбранного из группы, включающей межкристалитное травление, дробеструйную обработку, насечку, шлифовку абразивом и плазменное напыление.
4. Способ по п.3, в котором на указанную шероховатую поверхность в качестве подготовительного слоя наносят защитный оксидокерамический слой.
5. Способ по п.3, в котором указанный промежуточный электрокаталитический покровный слой включает металл или оксид металла платиновой группы, магнетит, феррит, шпинель оксида кобальта, оксид олова и оксид сурьмы, и/или содержит смешанный кристаллический материал, включающий по крайней мере один оксид вентильного металла и по крайней мере один оксид металла платиновой группы, и/или содержит по меньшей мере один компонент, выбранный из группы, включающей диоксид марганца, диоксид свинца, платинаты-заместители, никель-никель оксид и смесь оксидов никеля и лантана.
6. Способ по п.5, в котором указанный оксид переходного металла в составе указанного верхнего покровного слоя представляет собой оксид палладия, присутствующий в количестве от приблизительно 0,1 мол.% до приблизительно 8 мол.%.
7. Способ по п.1, в котором дополнительно осуществляют нагревание указанного покрытия, которое осуществляют прокаливанием при температуре по крайней мере от приблизительно 350°С до приблизительно 550°С в течение времени по крайней мере от приблизительно 3 мин до приблизительно 20 мин.
8. Способ по п.1, в котором указанный электрод представляет собой анод, который используют в процессе получения по меньшей мере одного вещества, выбранного из группы, включающей хлор, хлорат и гипохлорит.
9. Способ по п.1, в котором уменьшение рабочего потенциала во время электролиза составляет от приблизительно 10 мВ до приблизительно 100 мВ.
10. Способ по п.1, в котором указанный промежуточный электрокаталитический покровный слой и указанный верхний покровный слой наносят на указанную основу из вентильного металла посредством одного способа, выбранного из группы, включающей центрифугирование растворов, погружение в потоке, нанесение кистью, нанесение валиком и нанесение напылением.
11. Электролитическая ячейка для электролиза галогенсодержащего раствора, содержащая электрод, полученный способом по п.1.
12. Электрод с электрокаталитическим покрытием для электролиза галогенсодержащего раствора, содержащий основу электрода из вентильного металла, на которую нанесен покровный слой, имеющий электрохимически активное покрытие в виде смеси оксидов переходных металлов, по существу, состоящую из по меньшей мере одного оксида, выбранного из группы, включающей оксиды платины, родия или кобальта, в количестве от приблизительно 0,01 мол.% до приблизительно 10 мол.% в расчете на суммарное содержание оксидов переходных металлов в составе покрытия, а также смесь оксидов металлов платиновой группы и необязательно оксид вентильного металла в количестве не более 25 мол.%, причем указанная смесь оксидов металлов платиновой группы, по существу, состоит из по меньшей мере одного оксида металла, выбранного из группы, включающей оксиды рутения и иридия, в количестве от приблизительно 5 мол.% до приблизительно 50 мол.% рутения, от приблизительно 50 мол.% до приблизительно 95 мол.% иридия в расчете на 100 мол.% металлов в составе покрытия, при этом указанное электрохимически активное покрытие обеспечивает уменьшение рабочего потенциала во время указанного электролиза.
13. Электрод по п.12, в котором указанная основа электрода из вентильного металла представляет собой основу, выбранную из группы, включающей сетку, лист, стержень, трубку, штампованную пластину и проволоку, а указанная основа электрода из вентильного металла представляет собой по меньшей мере одно вещество, выбранное из группы, включающей титан, тантал, алюминий, гафний, ниобий, цирконий, молибден и вольфрам, их сплавы и интерметаллические смеси.
14. Электрод по п.13, в котором поверхность указанной основы электрода из вентильного металла представляет собой шероховатую поверхность, которая получена посредством по меньшей мере одного метода, выбранного из группы, включающей межкристалитное травление, дробеструйную обработку, насечку, шлифовку абразивом и термонапыление.
15. Электрод по п.14, в котором на указанную шероховатую поверхность в качестве подготовительного слоя нанесен оксидокерамический защитный слой.
16. Электрод по п.13, в котором указанное электрокаталитическое покрытие включает указанный оксид вентильного металла.
17. Электрод по п.16, в котором указанный оксид вентильного металла представляет собой по меньшей мере один оксид, выбранный из группы, включающей оксиды титана, тантала, циркония, ниобия, гафния, оксид олова, а содержание указанного оксида вентильного металла составляет от приблизительно 0,1 мол.% до приблизительно 25 мол.%.
18. Электрод по п.14, в котором молярное соотношение оксида рутения и оксида иридия составляет от приблизительно 1:1 до приблизительно 1:4.
19. Электрод по п.15, в котором молярное соотношение указанных оксидов металлов платиновой группы и указанного оксида вентильного металла находится в интервале от приблизительно 4:1 до приблизительно 1:4.
20. Электрод по п.19, в котором на указанное электрокаталитическое покрытие нанесен по крайней мере один верхний покровный слой, включающий покрытие на основе оксида вентильного металла или на основе оксида олова или их смесей.
21. Электрод по п.12, в котором указанный оксид переходного металла представляет собой оксид палладия, присутствующий в количестве от приблизительно 0,1 мол.% до приблизительно 8 мол.%.
22. Электрод по п.12, в котором указаное покрытие дополнительно включает оксид иридия в количестве от приблизительно 1 мол.% до приблизительно 25 мол.% в расчете на 100 мол.% содержания металлов в покрытии, а соотношение металлического рутения к иридию составляет от приблизительно 1:1 до приблизительно 99:1.
23. Электрод, используемый в электрокаталитических процессах для электролиза галогенсодержащего раствора, содержащий основу из вентильного металла, в котором на указанную основу из вентильного металла нанесено электрокаталитическое поверхностное покрытие, по существу, состоящее из смеси оксидов по меньшей мере одного переходного металла, выбранного из группы, включающей палладий, родий и кобальт, в комбинации с оксидом рутения, оксидом титана и одним или более оксидами, выбранными из группы, включающей оксид олова и оксид сурьмы, в количестве по крайней мере от приблизительно 0,01 мол.% до приблизительно 10 мол.% указаного оксида переходного металла, по крайней мере от 10 мол.% до приблизительно 30 мол.% рутения и по крайней мере от приблизительно 50 мол.% до приблизительно 85 мол.% титана в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металлов в покрытии, причем указанное электрокаталитическое покрытие обеспечивает уменьшение рабочего потенциала во время указанного электролиза.
24. Электрод по п.23, в котором содержание указанного оксида рутения составляет от приблизительно 10 мол.% до приблизительно 25 мол.%, а содержание указанного титана составляет от приблизительно 60 мол.% до приблизительно 75 мол.% в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металла в покрытии.
25. Электрод по п.23, в котором указанное покрытие содержит от приблизительно 5 мол.% до приблизительно 20 мол.% оксида сурьмы в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металла в покрытии.
26. Электрод по п.23, в котором указанное покрытие содержит от приблизительно 2 мол.% до приблизительно 20 мол.% оксида олова в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металла в покрытии.
27. Электрод по п.23, в котором указанное покрытие содержит от приблизительно 10 мол.% до приблизительно 15 мол.% оксида сурьмы и от приблизительно 2 мол.% до приблизительно 15 мол.% оксида олова в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металла в покрытии.
28. Электрод по п.23, в котором отношение металлического рутения к сурьме или олову составляет от приблизительно 2:1 до приблизительно 0,1:1, а отношение титана к сурьме или олову составляет от приблизительно 19:1 до приблизительно 1:1.
29. Электрод по п.23, в котором указанное покрытие представляет собой покрытие на водной основе.
30. Электрод по п.23, в котором указанное покрытие дополнительно включает оксид иридия в количестве от приблизительно 1 мол.% до приблизительно 25 мол.% в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металла в покрытии, а соотношение металлического рутения к иридию составляет от приблизительно 1:1 до приблизительно 99:1.
31. Электрод по п.23, который обеспечивает уменьшение рабочего потенциала во время указанного электролиза на величину от приблизительно 10 мВ до приблизительно 100 мВ.
32. Электролитическая ячейка для электролиза галогенсодержащего, преимущественно хлорсодержащего, раствора, характеризующаяся тем, что содержит электрод по п.23.
33. Электрод для электролиза галогенсодержащего раствора, содержащий основу из вентильного металла, на которую нанесено электрокаталитическое поверхностное покрытие, по существу, состоящее из смеси оксидов по меньшей мере одного переходного металла, выбранного из группы, включающей палладий, родий и кобальт, в комбинации с оксидом рутения, оксидом иридия и оксидом титана в количествах по крайней мере от приблизительно 0,01 мол.% до приблизительно 10 мол.% указанного оксида переходного металла, по крайней мере от приблизительно 15 мол.%, но не более чем приблизительно 25 мол.% оксида иридия, от приблизительно 35 мол.% до приблизительно 50 мол.% оксида рутения и по крайней мере от приблизительно 30 мол.%, но не более чем 45 мол.% оксида титана в расчете на 100 мол.% суммарного содержания оксидов в покрытии, причем молярное соотношение оксида титана и общего количества оксидов иридия и рутения составляет менее чем 1:1, а молярное соотношение оксида рутения и оксида иридия составляет от более 1,5:1 вплоть до 3:1, и указанное электрокаталитическое покрытие обеспечивает уменьшение рабочего потенциала во время указанного электролиза.
34. Электрод по п.33, в котором указанный оксид переходного металла представляет собой оксид палладия, присутствующий в количестве от приблизительно 0,1 мол.% до приблизительно 8 мол.%.
35. Электрод по п.33, в котором указанный рабочий потенциал при электролизе уменьшается на величину от приблизительно 10 мВ до приблизительно 100 мВ.
36. Электролитическая ячейка для электролиза галогенсодержащих растворов, характеризующаяся тем, что содержит электрод по п.33.
37. Электрод для электролиза галогенсодержащего раствора, содержащий основу из вентильного металла, на которую нанесено электрокаталитическое поверхностное покрытие, по существу, состоящее из смеси оксидов по меньшей мере одного переходного металла, выбранного из группы, включающей палладий, родий и кобальт, в комбинации с оксидом рутения, оксидом иридия и оксидом титана, в количествах по крайней мере от приблизительно 0,01 мол.% до приблизительно 10 мол.% указанных оксидов переходных металлов, от приблизительно 10 мол.% до приблизительно 30 мол.% рутения, от приблизительно 2 мол.% до приблизительно 20 мол.% иридия и от приблизительно 50 мол.% до приблизительно 85 мол.% титана, причем указанное электрокаталитическое покрытие обеспечивает уменьшение рабочего потенциала во время указанного электролиза.
38. Электрод по п.37, в котором указанный оксид переходного металла представляет собой оксид палладия, присутствующий в количестве от приблизительно 0,1 мол.% до приблизительно 8 мол.%.
39. Электрод по п.37, в котором указанный рабочий потенциал при электролизе уменьшается на величину от приблизительно 10 мВ до приблизительно 100 мВ.
40. Электролитическая ячейка для электролиза галогенсодержащего раствора, характеризующаяся тем, что содержит электрод по п.37.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2007111999/02A RU2425176C2 (ru) | 2004-09-01 | 2004-09-01 | Способ получения электрода, электрод (варианты) и электролитическая ячейка (варианты) |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2007111999/02A RU2425176C2 (ru) | 2004-09-01 | 2004-09-01 | Способ получения электрода, электрод (варианты) и электролитическая ячейка (варианты) |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2007111999A RU2007111999A (ru) | 2008-10-10 |
| RU2425176C2 true RU2425176C2 (ru) | 2011-07-27 |
Family
ID=39927365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2007111999/02A RU2425176C2 (ru) | 2004-09-01 | 2004-09-01 | Способ получения электрода, электрод (варианты) и электролитическая ячейка (варианты) |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2425176C2 (ru) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2478142C1 (ru) * | 2011-09-13 | 2013-03-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" | Способ получения композиций карбида вольфрама с платиной |
| RU2757638C1 (ru) * | 2021-02-25 | 2021-10-19 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физической химии и электрохимии им. А.Н. Фрумкина Российской академии наук (ИФХЭ РАН) | Электрод многофункционального назначения на титане с надежным электрическим контактом и способ его получения |
| RU2835975C1 (ru) * | 2020-04-15 | 2025-03-07 | Фундасио Институт Катала Д'Инвестигасио Кимика (Исик) | Способ изготовления электрода для электрокатализа |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2409705C1 (ru) * | 2009-08-13 | 2011-01-20 | Жанна Ивановна Беспалова | Способ изготовления электрода для электрохимических процессов |
| RU2480855C1 (ru) * | 2011-09-15 | 2013-04-27 | Открытое акционерное общество "Элеконд" | Способ получения катодной обкладки оксидно-полупроводникового конденсатора |
| RU2468126C1 (ru) * | 2011-11-11 | 2012-11-27 | ООО "Компания МеталлРесурс" | Способ изготовления нерастворимого анода на титановой основе |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4003817A (en) * | 1967-12-14 | 1977-01-18 | Diamond Shamrock Technologies, S.A. | Valve metal electrode with valve metal oxide semi-conductive coating having a chlorine discharge in said coating |
| GB1508091A (en) * | 1975-06-09 | 1978-04-19 | Tdk Electronics Co Ltd | Electrode |
| US4233340A (en) * | 1977-12-02 | 1980-11-11 | Tdk Electronics Company, Limited | Process for preparing insoluble electrode |
| WO1983002288A1 (en) * | 1981-12-28 | 1983-07-07 | Hinden, Jean, Marcel | Electrocatalytic electrode |
| US4530742A (en) * | 1983-01-26 | 1985-07-23 | Ppg Industries, Inc. | Electrode and method of preparing same |
| RU2069239C1 (ru) * | 1994-02-08 | 1996-11-20 | Научно-исследовательский физико-технический институт при Дальневосточном государственном университете | Способ изготовления электрода для электрохимических процессов |
-
2004
- 2004-09-01 RU RU2007111999/02A patent/RU2425176C2/ru active IP Right Revival
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4003817A (en) * | 1967-12-14 | 1977-01-18 | Diamond Shamrock Technologies, S.A. | Valve metal electrode with valve metal oxide semi-conductive coating having a chlorine discharge in said coating |
| GB1508091A (en) * | 1975-06-09 | 1978-04-19 | Tdk Electronics Co Ltd | Electrode |
| US4233340A (en) * | 1977-12-02 | 1980-11-11 | Tdk Electronics Company, Limited | Process for preparing insoluble electrode |
| WO1983002288A1 (en) * | 1981-12-28 | 1983-07-07 | Hinden, Jean, Marcel | Electrocatalytic electrode |
| US4530742A (en) * | 1983-01-26 | 1985-07-23 | Ppg Industries, Inc. | Electrode and method of preparing same |
| RU2069239C1 (ru) * | 1994-02-08 | 1996-11-20 | Научно-исследовательский физико-технический институт при Дальневосточном государственном университете | Способ изготовления электрода для электрохимических процессов |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2478142C1 (ru) * | 2011-09-13 | 2013-03-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" | Способ получения композиций карбида вольфрама с платиной |
| RU2835975C1 (ru) * | 2020-04-15 | 2025-03-07 | Фундасио Институт Катала Д'Инвестигасио Кимика (Исик) | Способ изготовления электрода для электрокатализа |
| RU2757638C1 (ru) * | 2021-02-25 | 2021-10-19 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физической химии и электрохимии им. А.Н. Фрумкина Российской академии наук (ИФХЭ РАН) | Электрод многофункционального назначения на титане с надежным электрическим контактом и способ его получения |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2007111999A (ru) | 2008-10-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI404829B (zh) | 用於低氯過電壓之含鈀塗層 | |
| RU2330124C2 (ru) | Способ электролиза водных хлорно-щелочных растворов, электрод для электролиза хлорно-щелочного раствора и способ изготовления электролитного электрода | |
| CN101111631B (zh) | 高效率次氯酸盐阳极涂层 | |
| US8142898B2 (en) | Smooth surface morphology chlorate anode coating | |
| US20070261968A1 (en) | High efficiency hypochlorite anode coating | |
| JP5582762B2 (ja) | ハロゲン含有溶液の電気分解において用いるための電極 | |
| RU2425176C2 (ru) | Способ получения электрода, электрод (варианты) и электролитическая ячейка (варианты) | |
| RU2379380C2 (ru) | Высокоэффективное анодное покрытие для получения гипохлорита | |
| AU2011221387B2 (en) | Pd-containing coating for low chlorine overvoltage | |
| JP2012067390A (ja) | 低い塩素過電圧のためのＰｄ含有コーティング |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FA92 | Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted) |
Effective date: 20090917 |
|
| FZ9A | Application not withdrawn (correction of the notice of withdrawal) |
Effective date: 20100916 |
|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20110902 |
|
| NF4A | Reinstatement of patent |
Effective date: 20130110 |