RU2187866C1 - Микрополосковая нагрузка - Google Patents

Микрополосковая нагрузка Download PDF

Info

Publication number
RU2187866C1
RU2187866C1 RU2000131840A RU2000131840A RU2187866C1 RU 2187866 C1 RU2187866 C1 RU 2187866C1 RU 2000131840 A RU2000131840 A RU 2000131840A RU 2000131840 A RU2000131840 A RU 2000131840A RU 2187866 C1 RU2187866 C1 RU 2187866C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
film resistor
sections
width
microstrip
protrusions
Prior art date
Application number
RU2000131840A
Other languages
English (en)
Inventor
Д.И. Кузнецов
Р.М. Овечкин
А.С. Протас
Original Assignee
Казанский государственный технический университет им. А.Н.Туполева
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Казанский государственный технический университет им. А.Н.Туполева filed Critical Казанский государственный технический университет им. А.Н.Туполева
Priority to RU2000131840A priority Critical patent/RU2187866C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2187866C1 publication Critical patent/RU2187866C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Non-Reversible Transmitting Devices (AREA)

Abstract

Изобретение относится к области техники СВЧ. Технический результат состоит в увеличении допустимой рассеиваемой мощности и в увеличении ширины рабочей полосы частот. Микрополосковая нагрузка содержит диэлектрическую подложку, на одной стороне которой расположено заземляющее основание, а на другой стороне - пленочный резистор, подключенный одним концом к короткозамыкателю, а другим концом - к последовательно соединенным участкам микрополосковых линий, соединяющим пленочный резистор со входной микрополосковой линией, участки микрополосковых линий выполнены из слоя резистивного материала, ступенчато увеличивающегося по ширине по направлению от входной микрополосковой линии к пленочному резистору. В местах соединения участков микрополосковых линий между собой, соединения со входной микрополосковой линией, соединения с пленочным резистором на участки микрополосковых линий нанесены проводники, имеющие на наружных краях скругления, а на внутренних краях - выступы. Ширина слоя резистивного материала может быть выполнена изменяющейся через четверть длины волны, скругления могут иметь форму частей окружности, выступы соседних проводников могут быть выполнены соприкасающимися. 2 з.п.ф-лы, 2 ил.

Description

Изобретение относится к радиотехнике, а более конкретно к технике сверхвысоких частот (СВЧ), и может быть использовано в радиолокации, радиосвязи и измерительной технике, преимущественно в качестве оконечной нагрузки.
Известен высокочастотный резистор, содержащий диэлектрическую подложку, на одной стороне которой расположено заземляющее основание, а на другой стороне - резистивная пленка, имеющая форму полукольца, к внутренней дуге которого присоединена входная микрополосковая линия, а к внешней короткозамыкатель. Резистивная пленка разделена по концентрическим дугам на участки с различным удельным поверхностным сопротивлением, величина которого возрастает в направлении от внутреннего участка к внешнему (см. А.с. СССР N 664250, Н 01 Р 1/24, БИ N 19, 1979).
Недостатками указанного устройства являются: во-первых, малая допустимая рассеиваемая мощность (так как указанное устройство является сосредоточенным резистором); во-вторых, указанное устройство очень сложно в изготовлении (так как для каждой концентрической резистивной области приходится формировать пленку со своим значением удельного поверхностного сопротивления).
Известна микрополосковая нагрузка, содержащая диэлектрическую подложку, на одной стороне которой расположено заземляющее основание, а на другой стороне - тонкопленочный резистор, подключенный одним концом к короткозамыкателю, а другим концом - к входной микрополосковой линии. На тонкопленочный резистор нанесен дополнительный резистивный слой, удельное поверхностное сопротивление которого в четыре раза меньше удельного поверхностного сопротивления тонкопленочного резистора, а ширина экспоненциально убывает по направлению от входной микрополосковой линии к короткозамыкателю (см. А.с. СССР N 1156169, Н 01 Р 1/26, БИ N 18, 1985).
Недостатком указанного устройства является то, что оно сложно в изготовлении (так как нужно формировать резистивные участки с существенно (в четыре раза) разными удельными поверхностными сопротивлениями).
Известна взятая в качестве прототипа микрополосковая нагрузка, содержащая диэлектрическую подложку, на одной стороне которой расположено заземляющее основание, а на другой стороне сосредоточенный пленочный резистор, подключенный одним концом к короткозамыкателю, а другим концом - к последовательно соединенным участкам микрополосковых линий, соединяющим пленочный резистор со входной микрополосковой линией (см. А.с. СССР N 1443061, Н 01 Р 1/26, БИ N 45, 1988).
Недостатками указанного устройства являются: во-первых, малая допустимая рассеиваемая мощность в связи с малой площадью резистивного элемента; во-вторых, малая ширина рабочей полосы частот; в-третьих, возможность локального перегрева в местах соединения участков микрополосковой линии (из-за скачков ширины микрополосковой линии, вызывающей неоднородности распределения электромагнитного поля); в-четвертых, возможность электрического пробоя в местах соединения участков микрополосковой линии (из-за скачков ширины микрополосковой линии, вызывающей неоднородности распределения электромагнитного поля).
Решаемой технической задачей изобретения является, во-первых, увеличение допустимой рассеиваемой мощности; во-вторых, увеличение ширины рабочей полосы частот; в-третьих, устранение возможного локального перегрева в местах соединения участков микрополосковой линии; в-четвертых, устранение возможности электрического пробоя в местах соединения участков микрополосковой линии.
Решаемая техническая задача достигается за счет того, что в известной микрополосковой нагрузке, содержащей диэлектрическую подложку, на одной стороне которой расположено заземляющее основание, а на другой стороне - пленочный резистор, подключенный одним концом к короткозамыкателю, а другим концом - к последовательно соединенным участкам микрополосковых линий, соединяющим пленочный резистор со входной микрополосковой линией, введено выполнение участков микрополосковых линий из слоя резистивного материала, ступенчато увеличивающегося по ширине по направлению от входной микрополосковой линии к пленочному резистору, в местах соединения участков микрополосковых линий между собой, соединения со входной микрополосковой линией, соединения с пленочным резистором на участки микрополосковых линий нанесены проводники, имеющие на наружных краях скругления, а на внутренних краях - выступы. Ширина слоя резистивного материала может быть выполнена изменяющейся через четверть длины волны, скругления могут иметь форму частей окружности, выступы соседних проводников могут быть выполнены соприкасающимися.
На фиг.1 и фиг.2 изображены варианты конструкции предложенного устройства.
Микрополосковая нагрузка содержит диэлектрическую подложку 1 (например, поликоровую подложку толщиной 1 мм с относительной диэлектрической проницаемостью, равной 9,6), на одной стороне которой расположено заземляющее основание (не показано), а на другой стороне пленочный резистор 2 (например, 35-омный резистор из резистивного материала с удельным поверхностным сопротивлением 80 Oм/□), подключенный одним концом к короткозамыкателю 3 (например, состоящему из контактной площадки и перемычки из медной фольги, соединяющих резистор 2 (через край подложки) с заземляющим основанием), а другим концом - к последовательно соединенным участкам 4 микрополосковых линий (например, два четвертьволновых участка микрополосковых линий), соединяющим пленочный резистор 2 со входной микрополосковой линией 5 (например, 50-омная микрополосковая линия, ширина которой равна 1 мм). Участки микрополосковых линий 4 выполнены из слоя резистивного материала (например, с удельным поверхностным сопротивлением 80 Oм/□), ступенчато увеличивающегося по ширине по направлению от входной микрополосковой линии 5 к пленочному резистору 2, в местах соединения участков 4 микрополосковых линий между собой, соединения со входной микрополосковой линией 5, соединения с пленочным резистором 2 на участки 4 микрополосковых линий нанесены проводники 6, имеющие на наружных краях скругления 7, а на внутренних - выступы 8. Изменения ширины слоя резистивного материала могут происходить через четверть длины волны (например, ширины слоев резистивного материала двух четвертьволновых участков 4 микрополосковых линий (соответственно, по направлению от входной микрополосковой линии 5 к пленочному резистору 2) w'=1,3 мм, w''=1,6 мм таковы, что образуется двухступенчатый чебышевский трансформатор, причем длина каждого из участков равна, например, 5,5 мм (для центральной частоты 5 ГГц)), скругления 7 могут иметь форму частей окружности. В варианте конструкции устройства (см. фиг. 1) выступы 8 могут иметь треугольную форму. В варианте конструкции устройства (см.фиг.2) выступы 8 могут иметь трапециидальную форму, причем выступы соседних проводников соприкасаются (например, вершинами трапеций).
Поступившая во входную микрополосковую линию 5 предложенного устройства (см. фиг.1, фиг.2) мощность СВЧ-сигнала (например, с рабочей частотой 5 ГГц) на резистивном материале участков 4 микрополосковых линий и в пленочном резисторе 2 преобразуется в тепловую мощность.
По сравнению с прототипом в предложенном устройстве увеличена допустимая рассеиваемая мощность за счет того, что, во-первых, мощность СВЧ-сигнала преобразуется в тепловую как на резистивном материале участков 4 микрополосковых линий, так и на пленочном резисторе 2; во-вторых, ширина слоя резистивного материала и пленочного резистора увеличена по сравнению с шириной входной микрополосковой линии 5, что увеличивает площадь резистивного слоя, на котором происходит рассеивание мощности; в-третьих, выступы 8 регулируют распределение рассеиваемой мощности по длине устройства, делая, например, рассеивание мощности более равномерным по длине устройства (регулировку осуществляют, например, за счет изменения расстояния между выступами (фиг.1), ширины области соприкосновения выступов (фиг.2): чем меньше расстояние между выступами (фиг.1) или чем больше ширина области соприкосновения (фиг.2), тем меньше выделяемая на этом участке мощность).
По сравнению с прототипом в предложенном устройстве увеличена ширина рабочей полосы частот, так как, во-первых, скругления 7 и выступы 8 плавно изменяют, соответственно, общую ширину устройства и ширину проводников, практически полностью устраняя неоднородности электрического поля, вызывающие отражения СВЧ-волн в области высоких частот рабочей полосы частот, во-вторых, отраженные СВЧ-волны гасятся резистивным материалом участков микрополосковых линий. Кроме того, изменения ширины слоя резистивного материала через четверть длины волны обеспечивают взаимокомпенсацию отраженных волн (приходящих на вход устройства в противофазе). В результате, обеспечено согласование (коэффициент стоячей волны по напряжению (КСВН) менее 1,25) в широком диапазоне частот (от 1 до 9 ГГц (с наилучшим согласованием для центральной частоты 5 ГГц)).
По сравнению с прототипом в предложенном устройстве устранена возможность локального перегрева в местах соединения участков 4 микрополосковой линии (как между собой, так и в местах соединения со входной микрополосковой линией 5 и с пленочным резистором 2), так как, во-первых, в этих местах на слой резистивного материала нанесены проводники 6 (препятствующие тепловыделению за счет высокой проводимости и улучшающие рассеивание тепла за счет высокой теплопроводности), во-вторых, скругления 7 плавно изменяют общую ширину устройства, не допуская неоднородностей электрического поля (в частности, вызывающих локальный перегрев локальных максимумов электрического поля), в-третьих, выступы 8 плавно меняют ширину проводников, не допуская неоднородностей электрического поля (в частности, вызывающих локальный перегрев локальных максимумов электрического поля).
По сравнению с прототипом в предложенном устройстве устранена возможность электрического пробоя в местах соединения участков 4 микрополосковой линии (как между собой, так и в местах соединения со входной микрополосковой линией 5 и с пленочным резистором 2), так как, во-первых, скругления 7 плавно изменяют общую ширину устройства, не допуская неоднородностей электрического поля (в частности, вызывающих электрический пробой локальных максимумов электрического поля), во-вторых, выступы 8 плавно меняют ширину проводников, не допуская неоднородностей электрического поля (в частности, вызывающих локальный перегрев локальных максимумов электрического поля).
К достоинствам предложенного устройства следует отнести то, что выступы позволяют легко менять распределение рассеиваемой мощности по длине устройства (например, за счет удаления концов несоприкасающихся выступов или перерезая перемычку между соприкасающимися выступами; чем больше расстояние между выступами (фиг.1) или чем меньше ширина области соприкосновения (фиг. 2), тем больше выделяемая на этом участке мощность). При этом можно осуществить максимальное рассеивание на том участке, который расположен вблизи теплорассеивающего радиатора (например, боковая стенка металлического корпуса).
Кроме того, к достоинствам предложенного устройства следует отнести то, что выступы позволяют легко менять распределение рассеиваемой мощности по ширине (поперечной оси участков) устройства (например, за счет удаления концов несоприкасающихся выступов или перерезая перемычку между соприкасающимися выступами; чем больше расстояние между выступами (фиг.1) или чем меньше ширина области соприкосновения (фиг.2), тем больше выделяемая на этой части участка устройства мощность). При этом можно осуществить максимальное рассеивание на той части участка устройства, который расположен вблизи теплорассеивающего радиатора.
Также к достоинствам предложенного устройства следует отнести то, что предложенное устройство изготавливается в едином технологическом цикле с изготовлением СВЧ интегральной схемы, так как все резистивные участки предложенного устройства имеют одинаковое удельное поверхностное сопротивление.

Claims (3)

1. Микрополосковая нагрузка, содержащая диэлектрическую подложку, на одной стороне которой расположено заземляющее основание, а на другой стороне - пленочный резистор, короткозамыкатель, резистивные и проводящие участки, при этом пленочный резистор подключен одним концом к короткозамыкателю, а другим концом - к последовательно соединенным резистивным и проводящим участкам, причем соединенным так, что они увеличиваются по ширине по направлению к пленочному резистору, отличающаяся тем, что содержит входную микрополосковую линию, подключенную к последовательно соединенным резистивным и проводящим участкам с противоположной по отношению к пленочному резистору стороны, резистивные участки выполнены в виде микрополосковых линий четвертьволновой длины и постоянной на всем участке ширины, изменяющейся ступенчато от участка к участку, проводящие участки имеют на наружных краях скругления, а на внутренних краях - выступы из проводящего материала.
2. Микрополосковая нагрузка по п.1, отличающаяся тем, что скругления имеют форму частей окружности.
3. Микрополосковая нагрузка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что выступы соседних проводящих участков выполнены соприкасающимися.
RU2000131840A 2000-12-18 2000-12-18 Микрополосковая нагрузка RU2187866C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2000131840A RU2187866C1 (ru) 2000-12-18 2000-12-18 Микрополосковая нагрузка

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2000131840A RU2187866C1 (ru) 2000-12-18 2000-12-18 Микрополосковая нагрузка

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2187866C1 true RU2187866C1 (ru) 2002-08-20

Family

ID=20243648

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2000131840A RU2187866C1 (ru) 2000-12-18 2000-12-18 Микрополосковая нагрузка

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2187866C1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU181510U1 (ru) * 2018-04-16 2018-07-17 Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Новосибирский Государственный Технический Университет" Микрополосковая нагрузка

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
СТЕПАНОВ Ю.Г. Противолокационная маскировка. - М.: Советское радио, 1968, с.52, рис.3.6. *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU181510U1 (ru) * 2018-04-16 2018-07-17 Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Новосибирский Государственный Технический Университет" Микрополосковая нагрузка

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6950590B2 (en) Transmission lines and components with wavelength reduction and shielding
Hyltin Microstrip transmission on semiconductor dielectrics
US5973653A (en) Inline coaxial balun-fed ultrawideband cornu flared horn antenna
GB2222488A (en) Broad bandwidth planar power combiner/divider device
US7855614B2 (en) Integrated circuit transmission lines, methods for designing integrated circuits using the same and methods to improve return loss
Zheng et al. Frequency-agile patch element using varactor loaded patterned ground plane
US20120169431A1 (en) Microwave harmonic processing circuit
KR102650548B1 (ko) 간단한 구조의 단극 다투 스위치 장치
RU2187866C1 (ru) Микрополосковая нагрузка
Nayak et al. Wideband transition from tapered microstrip to corrugated siw
CN113287226B (zh) 传输线路及移相器
RU2046469C1 (ru) Полосковый шлейфный направленный ответвитель
US7161244B2 (en) Microwave device for dissipating or attenuating power
RU2185010C1 (ru) Микрополосковый аттенюатор
RU2034375C1 (ru) Микрополосковая нагрузка
JPS5930323B2 (ja) ストリツプ線路用無反射終端
US3582833A (en) Stripline thin-film resistive termination wherein capacitive reactance cancels out undesired series inductance of resistive film
JP4142072B2 (ja) 分配移相器
RU2048694C1 (ru) Микрополосковый аттенюатор
RU2786505C1 (ru) Свч аттенюатор
KR101815768B1 (ko) 광대역 매칭이 가능한 임피던스 변환기 및 그를 이용한 안테나
KR102709957B1 (ko) 개구 영역을 구비한 전극을 포함하는 광대역 터미네이션
US4034321A (en) Method and apparatus for microstrip termination
KR102699882B1 (ko) 공통 전극을 포함하는 고출력 터미네이션
Wu et al. Design of Rectangular Waveguide-to-Microstrip Transition for Millimeter Wave Application