RU2083064C1 - Способ изготовления электропроводящих серебряных покрытий - Google Patents

Способ изготовления электропроводящих серебряных покрытий Download PDF

Info

Publication number
RU2083064C1
RU2083064C1 SU5031835A RU2083064C1 RU 2083064 C1 RU2083064 C1 RU 2083064C1 SU 5031835 A SU5031835 A SU 5031835A RU 2083064 C1 RU2083064 C1 RU 2083064C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
naphthalene
silver
terpineol
organic binder
substrate
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
В.А. Сальский
Е.Б. Михайлова
Г.А. Кондратова
Original Assignee
Кемеровский государственный университет
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Кемеровский государственный университет filed Critical Кемеровский государственный университет
Priority to SU5031835 priority Critical patent/RU2083064C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2083064C1 publication Critical patent/RU2083064C1/ru

Links

Images

Abstract

Использование: радиоэлектроника и электротехника и может быть использовано для получения проводящих покрытий на подложках из металлов и неметаллических материалов. Сущность изобретения: на нагретую до 90 - 140oC подложку наносят композицию. Содержащую серебро коллоидных размеров, выделенное в процессе синтеза на кристаллах нафталина - органической основе, в которую дополнительно введены в качестве органического связующего дифенилформамид и терпинеол. После выдержки проводят дополнительную термообработку при температуре 350 - 450oC. 2 с.п. ф-лы, 4 табл.

Description

Изобретение относится к радиоэлектронике и электротехнике и может быть использовано для получения проводящих покрытий на различных подложках, в частности проводников на керамике, проводников интегральных микросхем, для металлизации верхних обкладок конденсаторов, микрополосовых линий и др.
Известен способ выполнения металлических покрытий пастовым методом (Красов В.Г. и др. Толстопленочная технология в СВЧ микроэлектронике. М. Радио и связь, 1985, с. 33), включающий нанесение композиции, содержащей частицы металла в органическом связующем, термообработку в две стадии: сушку при температуре до 250oC для удаления из композиции легколетучих составляющих, и высокотемпературную обработку при температуре до 1000oC, при которой происходит образование электропроводящего металлического покрытия.
Недостатком такой технологии является необходимость высоких температур, что ограничивает выбор подложек и требует использования сложного технологического оборудования, обеспечивающего высокотемпературные режимы.
Наиболее близким к предлагаемому по физической сущности является способ изготовления электропроводящих серебряных покрытий (авт. св. СССР N 1623544, кл. H 05 K 3/12, заявл. 23.01.91), включающий нанесение на диэлектрическую подложку композиции, содержащей частицы серебра коллоидных размеров, выделенные на кристаллах нафталина органического связующего, и сушку при 90 120oC, после чего подложку обрабатывают полярным растворителем с дипольным моментом 1,4 3,8 для удаления остатков органической фазы, сорбированной на частицах серебра.
Данный способ имеет ряд недостатков. В связи с тем, что в процессе отмывки покрытия полярным растворителем органическая фаза удаляется неполностью, пленка серебра получается тусклая, серого цвета, с недостаточной адгезией к положке. Возможно нанесение только одного слоя покрытия, т.к. после отмывки наращивание новых слоев не представляется возможным. Режим способа позволяет наносить покрытие только на неметаллическую подложку. Кроме того, ввиду твердой консистенции композиции затруднено ее локальное нанесение, что делает способ неприемлемым для изготовления микроминиатюрных изделий.
Задача технического решения создание толстопленочной технологии нанесения серебряных покрытий при пониженных температурах обработки на любых типах подложек, в т.ч. металлических, без использования полярных растворителей, а также выполнение локальной металлизации для микроэлектронных схем.
Задача решается за счет того, что при осуществлении способа изготовления электропроводящих серебряных покрытий путем нанесения на керамическую подложку композиции, содержащей частицы серебра коллоидных размеров, выделенных на кристаллах нафталина органическом связующем, и выполнения сушки, предлагается в органическое связующее дополнительно вводить дифенилформамид и терпинеол при следующем соотношении компонентов, мас.
Серебро коллоидных размеров 19 25
Нафталин 54 62
Дифенилформамид 7 10
Терпинеол 10 13,
а после сушки проводить термообработку при 350 450oC в течение 3 - 5 мин. Кроме того, при нанесении композиции на подложку из металлов или их сплавов предлагается после основной проводить дополнительную термообработку в атмосфере водорода при 400 450oC в течение 15 20 мин.
Способ включает нанесение пасты, выдавливаемой через полую иглу диаметром 0,5 1,5 мм, на нагретую до 90 140oC подложку, сушку в течение 5 10 сек. и последующую термообработку при 350 450oC в течение 3 5 мин.
В качестве дополнительных компонентов органического связующего данной композиции были выбраны дифенилформамид (ДМФ) и терминеол как вещества, позволяющие получить пасту с требуемыми реалогическими свойствами, обеспечивающими хорошее смачивание подложки и последующую хорошую адгезию покрытия, а также полностью удаляющиеся из покрытия при температуре отжига (350 450oC), т.к. температура их кипения значительно ниже (153oC и 226oC соответственно).
Кроме того, в процессе экспериментальных исследований было установлено, что из ряда органических веществ (этонол, ацетон, глицерин, этилцеллозолов и др. ) только ДМФ оказывает стабилизирующее действие на коллоидное серебро. Частицы серебра, выделенные на кристаллах нафталина, не агрегатируются друг с другом в течение длительного времени, тогда как в других опробованных веществах этот процесс происходит с выпадением осадка в течение 3 40 ч. Добавка ДМФ к композиции даже в небольших количествах позволяет получать однородную металлическую пленку с хорошей адгезией. При этом, при добавке менее 7,0 мас. пленка начинает отслаиваться, а при добавке более 10 мас. наблюдается расслоение пасты в шприце при хранении (см. табл.1).
Другим компонентом был выбран терпинеол, т.к. в смеси его с ДМФ замедляется рекристаллизация нафталина, что обеспечивает длительное сохранение реологических характеристик пасты. Как показывают данные табл.2, при добавке менее 10мас. терпинеола паста недостаточно однородна, а при добавке более 13 мас. паста чрезмерно жидкая.
Отжиг покрытия проводится при 350 450oC. Механизм образования монолитной структуры из коллоидных частиц заключается в десорбции сорбированных на их поверхности органических веществ с последующей их рекристаллизацией в монолитную пленку металла. Ниже 350oC органическая фаза, очевидно, не удаляется полностью, т.к. пленка получается матовая, серого цвета. Повышение температуры более 450oC не имеет смысла, т.к. процесс десорбции идет достаточно интенсивно до 450oC.
Длительность отжига составляет 3 5 мин. Она определяется визуально по образованию белой ровной пленки на поверхности подложки.
Кроме того, при металлизации металлов и сплавов в процессе отжига на воздухе на их поверхности образуется слой окислов, который препятствует взаимодиффузии металлов и адгезионному закреплению покрытий. Вследствие этого дополнительный отжиг проводят в атмосфере водорода при 400 450oC в течение 15 20 мин, необходимый для восстановления окисного слоя до металла основы и обеспечения взаимодиффузии металлов подложки и покрытия. При температуре отжига ниже 400oC не происходит полного восстановления окисной пленки, и адгезия покрытия недостаточна, тогда как выше 450oC взаимодиффузия металлов настолько сильна, что тонкая пленка покрытия (до 1 мкм) может практически полностью продиффундировать в поверхностные слои металла подложки, что также является нежелательным.
Пример I.
Для получения покрытий использовалась серебросодержащая паста следующего состава компонентов, мас.
Коллоидное серебро 22,0
Нафталин 57,0
Диметилформамид 8,5
Терпинеол 12,5
Вариант I. Паста наносилась из шприца в виде нескольких пятен диаметром по 3 мм на подложку из керамики ВК-94-1. Подложка была предварительно нагрета до 100oC. Нанесенные покрытия подсушивались на подложке 5 сек, после чего подложка помещалась в шкаф, нагретый до 350oC, и проводился отжиг в течение 3 мин. В результате получались белые гладкие покрытия толщиной до 1 мкм. После троекратного повторения всех предыдущих операций были получены пленки диаметром 3 мм толщиной 3 мкм. Величина удельного поверхностного сопротивления составила 0,006 0,007 Ом/□. Адгезия в 100 случаев удовлетворяла ГОСТ 9.307.89. (11.4.4.1).
Вариант II. Паста вышеприведенного состава наносилась из шприца в виде нескольких пятен диаметром 5 мм на подложку из сплава FeNi, предварительно нагретую до 140oC. Покрытия подсушивались в течение 10 сек, после чего проводился отжиг в шкафу при 450oC в течение 5 мин. Получались белые гладкие покрытия толщиной около 1 мкм. Однако адгезия этих покрытий к подложке была недостаточной. При механическом воздействии они удалялись. Оставшиеся покрытия на металлической подложке были помещены в вакуумный шкаф и подверглись дополнительному отжигу в атмосфере водорода при температуре 450oC в течение 15 мин. В результате были получены белые гладкие покрытия толщиной 1 мкм, адгезия которых в 100 случаев удовлетворяла требованиям ГОСТа 9.307.89 (II. 4.4.1).
В нижеприводимых примерах последовательность операций соответствует варианту 1 для керамических подложек и варианту II примера I для металлических подложек.
Пример II.
Для металлизации керамики ВК-94-1 использовалась паста следующего состава компонентов, мас.
Коллоидное серебро 19,0
Нафталин 62,0
Диметилформамид 6,0
Терпинеол 13,0
Было проведено 50 нанесений из шприца в температурно-временном режиме, приведенном в табл.3.
Толщина покрытия за 1 цикл нанесения составила 0,6 0,8 мкм. После пятикратного повторения операций 1 3 были получены пленки толщиной 3 мкм и диаметром 3 мм. Величина удельного поверхностного сопротивления составила 0,006 0,007 Ом/□. Адгезия в 98 случаев удовлетворяет ГОСТ 9.307.89 (п.4.4.1).
Пример III.
На керамику ВК-94-1 наносилась паста состава компонентов, мас.
Коллоидное серебро 26,0
Нафталин 56,0
Диметилформамид 9,0
Терпинеол 10,0
Было проведено 50 нанесений из шприца в режиме, приведенном в табл.3.
Толщина покрытия за 1 цикл нанесения 1,3 1,5 мкм. В результате двухкратного нанесения были получены пленки толщиной 3 мкм и диаметром 3 мм. Величина удельного поверхностного сопротивления составляет 0,006 0,007 Ом/□. Адгезия в 99 случаев удовлетворяет ГОСТ 9.307.89 (п.4.4.1).
В качестве металлических подложек были испробованы сплав FeNi, железо, никель, покрытие никель-бор на FeNi, латунь, медь и др. Во всех случаях адгезия нанесенного серебряного покрытия к металлу была недостаточно удовлетворительной. После дополнительного отжига в водороде окисная пленка восстановилась до металла, что обеспечивало взаимодиффузию в поверхностном слое материала подложки и покрытия. Приводим примеры различных видов металлических подложек и режимов нанесения на них серебряного покрытия.
Пример IV.
На никелевую фольгу наносилась паста состава компонентов, мас.
Коллоидное серебро 26,0
Нафталин 56,0
Диметилформамид 9,0
Терпинеол 10,0
Было проведено 14 нанесений из шприца и обработка в режиме, указанном в табл. 4. Толщина покрытия за 1 цикл нанесения 0,6 0,8 мкм. После трехкратного нанесения были получены пленки толщиной 2,0 2,5 мкм. Адгезия в 100 случаев удовлетворяет ГОСТ 9.307.89 (п.4.4.1).
Пример V. На очищенную тонкой шкуркой медную фольгу наносилась поста состава компонентов, мас.
Коллоидное серебро 26,0
Нафталин 56,0
Диметилформамид 9,0
Терпинеол 10,0
Было проведено 10 нанесений из шприца в температурно-временном режиме, указанном в табл. 4. Толщина покрытия за 4 цикла 2,5 3,0 мкм. Полученная пленка серебра соответствовала ГОСТ 9.307.89 (п.4.4.1) во всех случаях.
Данные экспериментальных исследований показывают, что удельное поверхностное электрическое сопротивление покрытий, полученных вышеописанным способом, находится в пределах 0,005 0,007 Ом/□, что значительно ниже в сравнении с 0,8 23,0 по прототипу. Прочность сцепления покрытий с поверхностью подложки удовлетворяет требованиям ГОСТ 9.307.89 (п.4.4.1).

Claims (2)

  1. Способ изготовления электропроводящих серебряных покрытий, включающий нанесение на керамическую подложку композиции, содержащей частицы серебра коллоидных размеров, выделенные на кристаллах нафталина органическом связующем, и сушку, отличающийся тем, что в органическое связующее дополнительно вводят дифенилформамид и терпинеол при следующем соотношении компонентов, мас.
    Серебро коллоидных размеров 19 25
    Нафталин 54 62
    Дифенилформамид 7 10
    Терпинеол 10 13
    а после сушки проводят термообработку при 350 450oС в течение 3 5 мин.
  2. 2. Способ изготовления электропроводящего серебряного покрытия, включающий нанесение на металлическую подложку композиции, содержащей частицы серебра коллоидных размеров, выделенные на кристаллах нафталина органическом связующем, и сушку, отличающийся тем, что в органическое связующее дополнительно вводят дифенилформамид и терпинеол при следующем соотношении компонентов, мас.
    Серебро коллоидных размеров 19 25
    Нафталин 54 62
    Дифенилформамид 7 10
    Терпинеол 10 13
    после сушки проводят термообработку при 350 450oС в течение 3-5 мин, а затем проводят дополнительную термообработку в атмосфере водорода при 400 450oС в течение 15 20 мин.
SU5031835 1992-03-10 1992-03-10 Способ изготовления электропроводящих серебряных покрытий RU2083064C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5031835 RU2083064C1 (ru) 1992-03-10 1992-03-10 Способ изготовления электропроводящих серебряных покрытий

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5031835 RU2083064C1 (ru) 1992-03-10 1992-03-10 Способ изготовления электропроводящих серебряных покрытий

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2083064C1 true RU2083064C1 (ru) 1997-06-27

Family

ID=21599107

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU5031835 RU2083064C1 (ru) 1992-03-10 1992-03-10 Способ изготовления электропроводящих серебряных покрытий

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2083064C1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2454841C2 (ru) * 2006-06-07 2012-06-27 Аб Микроэлектроник Гезелльшафт Мит Бешренктер Хафтунг Схемная подложка

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР N 1623544, кл. H 05 K 3/12, 1991. *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2454841C2 (ru) * 2006-06-07 2012-06-27 Аб Микроэлектроник Гезелльшафт Мит Бешренктер Хафтунг Схемная подложка

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5281326A (en) Method for coating a dielectric ceramic piece
JPS61113221A (ja) 容量装置とその製造方法
JPH0371726B2 (ru)
TW201511036A (zh) 用於氮化鋁基板的厚膜印刷銅糊漿
JPS63260197A (ja) 多層回路構造体の製造法
JP3563832B2 (ja) 表面還元を用いたフェライトの金属化方法
KR100194290B1 (ko) 전기 전도성 페이스트
US4317750A (en) Thick film conductor employing nickel oxide
RU2083064C1 (ru) Способ изготовления электропроводящих серебряных покрытий
JP4248944B2 (ja) 導電性ペースト、回路パターンの形成方法、突起電極の形成方法
JP3331566B2 (ja) チップ型電子部品の端子電極形成方法
JP2502682B2 (ja) 超伝導セラミック―金属の複合被覆の製造方法
US3676087A (en) Technique for the fabrication of a photolithographically definable,glass covered gold conductor pattern
US5059450A (en) Process for producing electric connecting means, in particular interconnection substrates for hybrid circuits
JPH0373503A (ja) 回路形成方法
JPH05330958A (ja) メタライズ下地層形成用ガラス組成物
Liu et al. Formation and performance of ohmic contact electrodes on BaTiO3-based thermistors by localized electroless Cu-plating
TWI796607B (zh) 銅銠鍍層的製備方法
JPH0349108A (ja) 銅導体組成物
JPH0227832B2 (ja) Seramitsukusukiban
EP0496364A1 (en) Composition for the production of seed layers
JPS58161760A (ja) アルミニウム基板のめつき方法
RU2024081C1 (ru) Электропроводящая паста
EP0481637A2 (en) Method for firing ceramic articles
US5194294A (en) Process for preparing electrical connection means, in particular interconnection substances of hybrid circuits