RU2061092C1 - Установка для нанесения покрытий - Google Patents

Установка для нанесения покрытий Download PDF

Info

Publication number
RU2061092C1
RU2061092C1 SU5024440A RU2061092C1 RU 2061092 C1 RU2061092 C1 RU 2061092C1 SU 5024440 A SU5024440 A SU 5024440A RU 2061092 C1 RU2061092 C1 RU 2061092C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
partition
chamber
electrodes
cathode
product
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
Л.П. Саблев
С.Н. Григорьев
Original Assignee
Научно-производственное предприятие "Новатех"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Научно-производственное предприятие "Новатех" filed Critical Научно-производственное предприятие "Новатех"
Priority to SU5024440 priority Critical patent/RU2061092C1/ru
Priority to EP92911913A priority patent/EP0583473B1/en
Priority to US08/146,043 priority patent/US5503725A/en
Priority to DE69227313T priority patent/DE69227313T2/de
Application granted granted Critical
Publication of RU2061092C1 publication Critical patent/RU2061092C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Использование: для вакуумно-плазменной обработки инструмента, деталей машин и прочих изделий из различных материалов. Вакуумная камера разделена на две симметричные полости посредством перегородки, закрепленной на стенке камеры, а между вторым концом перегородки и противолежащей стенкой камеры имеется зазор, через который сообщаются упомянутые полости. Анод и катод двуступенчатого вакуумно-дугового разряда расположены на стенке камеры со стороны закрепленного конца перегородки по обе стороны от нее. В каждой из упомянутых полостей камеры, параллельно перегородке установлены распыляемые электроды со смещением относительно осей симметрии полостей к соответствующей стенке камеры, параллельной перегородке. В качестве перегородки может быть использована непосредственно обрабатываемая деталь, установленная на соответствующим образом расположенном держателе. Данное конструктивное выполнение позволяет создать два встречно направленных тока разряда, протекающих от анода к катоду. Встречно направленные токи создают магнитные поля, которые отклоняют электронный поток в направлении распыляемой мишени (распыляемых электродов), тем самым увеличивая плотность ионного тока на мишень и, соответственно, производительность установки. 2 с. и 2 з. п. ф-лы, 4 ил, 1 табл.

Description

Изобретение относится к области вакуумно-плазменного напыления и может быть использовано для нанесения упрочняющих покрытий на инструмент, детали машин и иные изделия, преимущественно длинномерные.
Известна установка для нанесения покрытий, содержащая вакуумную камеру, в которой установлен интегрально-холодный катод вакуумно-дугового разряда, анод, оптически непрозрачный, но непроницаемый для электронов, экран для возбуждения двуступенчатого разряда с разделенными посредством экрана металлогазовой и газовой ступенями, распыляемые электроды, расположенные в зоне газовой ступени разряда, и держатели изделий, расположенные оппозитно распыляемой поверхности электродов [1]
Недостатком известной установки является то, что она не позволяет наносить равномерное по толщине покрытие на длинномерные изделия, так как плотность тока разряда вдоль распыляемой поверхности электродов в значительной степени изменяется в направлении от анода к катоду.
Цель изобретения повышение однородности покрытий по толщине при обработке длинномерных изделий и повышение производительности.
Цель достигается тем что в установке для нанесения покрытий, содержащей вакуумную камеру, в которой установлен интегрально-холодный катод вакуумно-дугового разряда, анод, оптически непрозрачный, но проницаемый для электронов экран для возбуждения двуступенчатого разряда с разделенными посредством экрана металлогазовой и газовой ступенями, распыляемые электроды, расположенные в зоне газовой ступени разряда, и держатели изделий, расположенные оппозитно распыляемой поверхности электродов, вакуумная камера снабжена перегородкой, разделяющей камеру на две симметричные полости, один конец перегородки расположен с зазором относительно стенки камеры, расположенной противоположно катоду, анод и катод размещены со стороны второго, закрепленного на соответствующей стенке конца перегородки по разные стороны от нее, распыляемые электроды и держатели изделий расположены вдоль перегородки по обе стороны от нее, причем распыляемые электроды расположены со смещением в сторону стенок камеры, расположенных параллельно перегородке.
В качестве перегородки может быть использована непосредственно обрабатываемая деталь. Камера установки для нанесения покрытий в поперечном сечении может быть выполнена прямоугольной формы, распыляемые электроды в виде пластин. Камера установки для нанесения покрытий в поперечном сечении может быть выполнена круглой формы, а распыляемые электроды в виде протяженных элементов с дугообразным поперечным сечением.
Сущность предлагаемого изобретения заключается в том, что в установке благодаря вышеописанному конструктивному исполнению от анода к катоду протекают два встречно направленных тока.
Эти встречно направленные токи создают магнитные поля, которые отклоняют электронный поток, проводящий ток в промежутке анод-катод, в направлении распыляемых электродов, увеличивая плотность ионного тока в зоне электродов, а следовательно, производительность установки.
Симметрия линий тока в установке в зоне распыляемых электродов предполагает близость по абсолютным величинам значений плотности тока на различных участках распыляемых электродов и, как следствие, одинаковую скорость распыления их участков. Все вышеперечисленное способствует однородности покрытий по толщине на изделиях, установленных эквидистантно распыляемым электродам.
На фиг.1 изображена установка с камерой прямоугольной или цилиндрической формы, сечение; на фиг.2 сечение А-А на фиг.1; на фиг.3 схема установки, в которой роль перегородки выполняет обрабатываемое изделие; на фиг.4 экспериментальный макет установки, на котором проводились испытания.
Установка (фиг. 1) содержит вакуумную камеру 1, имеющую в сечении вид прямоугольника или цилиндра. Посредине камеры 1 установлена перегородка 2, начинающаяся у основания 3 и недоходящая до противоположного основания 4. Между перегородкой 2 и основанием 4 имеется щелевой зазор 5, через который соединяются обе полости вакуумной камеры 1. На основании 3 вакуумной камеры 1 установлены интегрально-холодный катод 6 вакуумно-дугового разряда и анод 7. Рабочая поверхность катода отделена от объема вакуумной камеры оптически непрозрачным но проницаемым для электронов разряда экраном 8. Перегородка 2 вынуждает ток вакуумно-дугового разряда Iр течь в сечении пути, обозначенном на фиг.1 штриховкой.
У стенок 9 и 10 вакуумной камеры, вдоль линии тока разряда установлены распыляемые электроды 11 и 12. Напротив распыляемых электродов 11 и 12 установлены плоские протяженные изделия 13 и 14.
Питание установки осуществляется посредством источников 15, 16, 17, причем источники 16 и 17 подключены к электродам 11, 12 через управляемые ключи 18 и 19.
На фиг. 2 показаны вакуумная камера 1 цилиндрической формы, распыляемые электроды 11 и 12 выполнены в форме сегментов, установленных у стенок камеры противоположно перегородке 2.
На фиг. 3 показан вариант выполнения установки с изделием 13, которое одновременно выполняет роль перегородки 2.
На фиг. 4 изображены: короб 20, два анода 7 отверстие 21 в коробе 20, экран 8 и зонды Ленгмюра 22, 23, 24.
Работает заявляемая установка для нанесения покрытий следующим образом.
Вакуумная камера системой высоковакуумной откачки (не показана) откачивается до давления 5х10-3 Па, а затем в нее через систему напуска рабочего газа (не показана) производится напуск газа до давления (1-5) х 10-1 Па. Таким рабочим газом может быть, например, аргон или смесь аргона с реактивным газом (азотом, кислородом, углеводородом). В вакуумной камере установки с помощью системы запуска (не показана) возбуждается вакуумно-дуговой разряд, благодаря перегородке 2 путь разряда в установке имеет вид, показанный штриховкой. Экран 8 отделяет рабочее пространство вакуумной камеры от потока металла, генерируемого катодным пятном вакуумной дуги. Ток разряда по обе стороны от перегородки течет в противоположных направлениях.
Возникающие при протекании тока разряда магнитные поля расталкивают плоский плазменный токовый шнур к стенкам камеры, где установлены плоские электроды из распыляемого металла. Благодаря магнитному взаимодействию ветвей разрядного тока плотность тока разряда у распыляемых электродов максимальная, а поэтому максимальна плотность ионного тока, извлекаемого из плазмы на распыляемые электроды. Благодаря симметричному обтеканию распыляемых электродов линией тока плотности ионного тока на электродах, на их различных участках примерно одинаковые, что обуславливает равномерность распыления электродов, а следовательно, и однородность покрытия по толщине. Работа установок, изображенных на фиг.1 и 3, идентична.
Для проверки работоспособности предлагаемых установок была изготовлена модель (фиг. 4) в виде короба размерами 400х100х70. Пунктирными стрелками показаны короткий и длинный пути тока разряда (короткий до правого анода, длинный до левого анода).
В короб устанавливалась стеклянная перегородка, которая делила разрядную полость на две части шириной по 50 мм каждая, и одна из стенок короба, вдоль которой проходит перегородка, была стеклянной для возможности визуального наблюдения за токовым шнуром.
Зазор между перегородкой и основанием короба составлял 50 мм.
В каждой из полостей короба на основании устанавливался анод 7. У одного из оснований короба имелось отверстие размером 70х50. Вдоль пути разряда, вблизи стенок установлены зонды Ленгмюра 22, 23, 24. Проводились замеры плотности ионного тока при последовательном подключении положительного полюса источника питания к одному из анодов 7.
Данные испытаний сведены в таблицу.
Ток разряда 100 А.
Давление аргона 5 х 10-1 Па.
Эксперимент показывает увеличение плотности ионного тока на зонд вблизи стенки, у которой устанавливается распыляемый электрод.

Claims (4)

1. Установка для нанесения покрытий, содержащая вакуумную камеру, в которой установлен интегрально-холодный катод вакуумно-дугового разряда, анод, оптически непрозрачный, но проницаемый для электронов экран для возбуждения двухступенчатого разряда с разделенными посредством экрана металлогазовой и газовой ступенями, распыляемые электроды, расположенные в зоне газовой ступени разряда, и держатели изделий, расположенные оппозитно распыляемой поверхности электродов, отличающаяся тем, что вакуумная камера снабжена перегородкой, разделяющей камеру на две симметричные полости, один конец перегородки расположен с зазором относительно стенки камеры, расположенной противоположно катоду, анод и катод размещены со стороны второго, закрепленного на соответствующей стенке, конца перегородки по разные стороны от нее, распыляемые электроды и держатели изделий расположены вдоль перегородки по обе стороны от нее, причем распыляемые электроды расположены со смещением в сторону стенок камеры, расположенных параллельно перегородке.
2. Установка для нанесения покрытий, содержащая вакуумную камеру, в которой установлен интегрально-холодный катод вакуумно-дугового разряда, анод, оптически непрозрачный, но проницаемый для электронов экран для возбуждения двухступенчатого разряда с разделенными посредством экрана металлогазовой и газовой ступенями, держатель изделий и распыляемые электроды, расположенные в зоне газовой ступени, отличающаяся тем, что держатель изделия расположен с возможностью установки на нем изделия-перегородки с зазором относительно стенки камеры, расположенной оппозитно катоду, и разделения камеры на две симметричные полости, сообщающиеся через указанный зазор, анод и катод размещены на общей стенке камеры, расположенной противоположно упомянутому зазору по обе стороны от изделия-перегородки, а распыляемые электроды расположены вдоль изделия-перегородки по обе стороны от нее и установлены со смещением относительно продольной оси соответствующей симметричной полости в сторону стенок камеры, параллельных изделию-перегородке.
3. Установка по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что камера в поперечном сечении выполнена прямоугольной формы, распыляемые электроды в виде пластин.
4. Установка по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что камера в поперечном сечении выполнена круглой формы, а распыляемые электроды в виде протяженных элементов с дугообразным поперечным сечением.
SU5024440 1991-04-29 1992-01-28 Установка для нанесения покрытий RU2061092C1 (ru)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5024440 RU2061092C1 (ru) 1992-01-28 1992-01-28 Установка для нанесения покрытий
EP92911913A EP0583473B1 (en) 1991-04-29 1992-04-23 Method and device for treatment of articles in gas-discharge plasma
US08/146,043 US5503725A (en) 1991-04-29 1992-04-23 Method and device for treatment of products in gas-discharge plasma
DE69227313T DE69227313T2 (de) 1991-04-29 1992-04-23 Verfahren und vorrichtung zur behandlung von bauteilen in einem gasentladungsplasma

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5024440 RU2061092C1 (ru) 1992-01-28 1992-01-28 Установка для нанесения покрытий

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2061092C1 true RU2061092C1 (ru) 1996-05-27

Family

ID=21595475

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU5024440 RU2061092C1 (ru) 1991-04-29 1992-01-28 Установка для нанесения покрытий

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2061092C1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110042348A (zh) * 2019-03-12 2019-07-23 深圳奥拦科技有限责任公司 等离子表面处理装置及方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Патент РФ N 1834911,кл. C 23C 14/32, 1991. *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110042348A (zh) * 2019-03-12 2019-07-23 深圳奥拦科技有限责任公司 等离子表面处理装置及方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7327089B2 (en) Beam plasma source
US6153067A (en) Method for combined treatment of an object with an ion beam and a magnetron plasma with a combined magnetron-plasma and ion-beam source
US6214183B1 (en) Combined ion-source and target-sputtering magnetron and a method for sputtering conductive and nonconductive materials
JP5694183B2 (ja) 自己浄化アノードを含む閉ドリフト磁場イオン源装置および同装置による基板改質プロセス
US5196105A (en) System for coating substrates with magnetron cathodes
US6337001B1 (en) Process for sputter coating, a sputter coating source, and sputter coating apparatus with at least one such source
US6812648B2 (en) Method of cleaning ion source, and corresponding apparatus/system
US6246059B1 (en) Ion-beam source with virtual anode
US20060177599A1 (en) Dual plasma beam sources and method
JPH0676773A (ja) 低圧放電の発生及び点弧方法並びに真空加工装置及び該装置の陰極チェンバ
US3839182A (en) Triode device for sputtering material by means of a low voltage discharge
US7708866B2 (en) Sputtering apparatus
US7023128B2 (en) Dipole ion source
RU2061092C1 (ru) Установка для нанесения покрытий
US4911784A (en) Method and apparatus for etching substrates with a magnetic-field supported low-pressure discharge
CN116134577A (zh) 离子枪和真空处理设备
KR20210105376A (ko) 플라즈마 처리들을 실행하기 위한 플라즈마 소스를 위한 전극 배열
RU2037561C1 (ru) Устройство для упрочняющей поверхностной обработки
US11942311B2 (en) Magnet arrangement for a plasma source for performing plasma treatments
RU1834912C (ru) Установка дл нанесени покрытий
RU2037559C1 (ru) Способ нанесения покрытий на изделия методом ионного распыления и устройство для его осуществления
RU2248064C1 (ru) Источник ионов
SU1097120A1 (ru) Источник ионов
JPH07116598B2 (ja) スパツタリング装置
RU2041972C1 (ru) Устройство для нанесения тонких пленок