RU2020129100A - Однодуговой каскадный плазмотрон низкого давления, использующий пакет нейтродов как способ контроля плазменной дуги - Google Patents

Однодуговой каскадный плазмотрон низкого давления, использующий пакет нейтродов как способ контроля плазменной дуги Download PDF

Info

Publication number
RU2020129100A
RU2020129100A RU2020129100A RU2020129100A RU2020129100A RU 2020129100 A RU2020129100 A RU 2020129100A RU 2020129100 A RU2020129100 A RU 2020129100A RU 2020129100 A RU2020129100 A RU 2020129100A RU 2020129100 A RU2020129100 A RU 2020129100A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
plasma torch
neutrons
vacuum plasma
torch according
vacuum
Prior art date
Application number
RU2020129100A
Other languages
English (en)
Inventor
Дэвид ХОУЛИ
Хосе КОЛЬМЕНАРЕС
Джонатан ГУТЛЕБЕР
Original Assignee
ЭРЛИКОН МЕТКО (ЮЭс) ИНК.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ЭРЛИКОН МЕТКО (ЮЭс) ИНК. filed Critical ЭРЛИКОН МЕТКО (ЮЭс) ИНК.
Publication of RU2020129100A publication Critical patent/RU2020129100A/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/28Cooling arrangements
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/134Plasma spraying
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/32Plasma torches using an arc
    • H05H1/34Details, e.g. electrodes, nozzles
    • H05H1/3452Supplementary electrodes between cathode and anode, e.g. cascade
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/02Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma
    • H05H1/16Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma using externally-applied electric and magnetic fields
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)

Claims (25)

1. Вакуумный плазматрон, содержащий:
заднюю секцию корпуса плазмотрона, содержащую электрод, и
каскадную секцию, выполненную с возможностью соединения с задней секцией корпуса плазмотрона,
причем каскадная секция содержит множество нейтродов, расположенных с образованием пакета нейтродов.
2. Вакуумный плазматрон по п. 1, причем в качестве единственного источника плазмообразующего газа подается один газ.
3. Вакуумный плазматрон по п. 1, причем рабочее напряжение плазматрона больше 65 вольт.
4. Вакуумный плазматрон по п. 1, дополнительно содержащий сопло, соединенное с одним концом пакета нейтродов, тем самым пакет нейтродов отделяет электрод от сопла.
5. Вакуумный плазматрон по п. 1, причем каждый из упомянутого множества нейтродов имеет форму диска с центральным каналом, и
причем упомянутое множество нейтродов расположено так, что центральные каналы образуют центральный плазменный канал пакета нейтродов.
6. Вакуумный плазматрон по п. 5, причем упомянутое множество нейтродов электрически изолированы друг от друга изоляторами.
7. Вакуумный плазматрон по п. 6, причем изоляторы выполнены так, что поддерживают воздушный или газовый зазор между соседними нейтродами.
8. Вакуумный плазматрон по п. 5, причем каждый из упомянутого множества нейтродов содержит множество охлаждающих каналов, окружающих центральный канал.
9. Вакуумный плазматрон по п. 8, причем упомянутое множество охлаждающих каналов содержит аксиальные каналы, простирающиеся через диск.
10. Вакуумный плазматрон по п. 9, причем аксиальные каналы ограничены внутри нейтродов.
11. Вакуумный плазматрон по п. 10, причем аксиальные каналы имеют практически круглую геометрическую форму, проходя через нейтроды.
12. Вакуумный плазматрон по п. 9, причем аксиальные каналы представляют собой углубления, открытые к внешней периферии нейтродов.
13. Вакуумный плазматрон по п. 12, причем аксиальные каналы имеют параллельные боковые стенки и нижнюю стенку, практически перпендикулярную боковым стенкам.
14. Вакуумный плазматрон по п. 1, причем упомянутое множество нейтродов имеет дискообразные корпуса, имеющие центральные аксиальные каналы, внешние периферийные поверхности и множества углублений, окружающих центральные аксиальные каналы.
15. Вакуумный плазматрон по п. 1, причем упомянутое множество нейтродов расположено так, что упомянутые множества углублений выровнены, образуя множество аксиальных охлаждающих каналов в пакете нейтродов.
16. Вакуумный плазматрон по п. 1, предназначенный для по меньшей мере одного из способов вакуумно-плазменного напыления (VPS), плазменного напыления в среде низкого давления (LPPS, LVPS) или вакуумного распыления при пониженном давлении (RPPS).
17. Способ управления плазменной дугой в вакуумном плазматроне, включающий соединение каскадного пакета нейтродов с задней секцией корпуса вакуумного плазматрона.
18. Способ по п. 17, дополнительно включающий соединение составного плазмотрона с одним газом, который используется как единственный источник плазмообразующего газа.
19. Способ по п. 17, дополнительно включающий подачу на составной плазмотрон рабочего напряжения выше 65 вольт.
20. Способ по п. 17, причем каскадный пакет нейтродов содержит множество нейтродов, в котором каждый нейтрод содержит корпус в виде диска, имеющий центральный аксиальный канал и множество углублений, окружающих центральный аксиальный канал, причем способ дополнительно включает:
ориентацию упомянутого множества нейтродов в каскадном пакете нейтродов так, что упомянутое множество углублений выровнено по оси, образуя множество аксиальных охлаждающих каналов в каскадном пакете нейтродов.
RU2020129100A 2018-02-20 2019-02-19 Однодуговой каскадный плазмотрон низкого давления, использующий пакет нейтродов как способ контроля плазменной дуги RU2020129100A (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201862632899P 2018-02-20 2018-02-20
US62/632,899 2018-02-20
PCT/US2019/018539 WO2019164822A1 (en) 2018-02-20 2019-02-19 Single arc cascaded low pressure coating gun utilizing a neutrode stack as a method of plasma arc control

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2020129100A true RU2020129100A (ru) 2022-03-21

Family

ID=67688375

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2020129100A RU2020129100A (ru) 2018-02-20 2019-02-19 Однодуговой каскадный плазмотрон низкого давления, использующий пакет нейтродов как способ контроля плазменной дуги

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20210037635A1 (ru)
EP (1) EP3756423B1 (ru)
JP (1) JP7308849B2 (ru)
KR (1) KR20200120921A (ru)
CN (1) CN111869332A (ru)
CA (1) CA3088556A1 (ru)
RU (1) RU2020129100A (ru)
WO (1) WO2019164822A1 (ru)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA3088556A1 (en) * 2018-02-20 2019-08-29 Oerlikon Metco (Us) Inc. Single arc cascaded low pressure coating gun utilizing a neutrode stack as a method of plasma arc control

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1255833B (de) * 1963-08-10 1967-12-07 Siemens Ag Verfahren und Einrichtung zum Aufheizen von Gasen in einem Plasmabrenner
US4429612A (en) * 1979-06-18 1984-02-07 Gt - Devices Method and apparatus for accelerating a solid mass
JPS58197206A (ja) * 1982-04-30 1983-11-16 Hitachi Metals Ltd 高品位金属または合金粉末の製造方法
US4590842A (en) * 1983-03-01 1986-05-27 Gt-Devices Method of and apparatus for accelerating a projectile
US4715261A (en) * 1984-10-05 1987-12-29 Gt-Devices Cartridge containing plasma source for accelerating a projectile
US4659899A (en) * 1984-10-24 1987-04-21 The Perkin-Elmer Corporation Vacuum-compatible air-cooled plasma device
US4821508A (en) * 1985-06-10 1989-04-18 Gt-Devices Pulsed electrothermal thruster
US4640180A (en) * 1985-06-20 1987-02-03 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Gun-firing system
US4780591A (en) * 1986-06-13 1988-10-25 The Perkin-Elmer Corporation Plasma gun with adjustable cathode
US4788408A (en) * 1987-05-08 1988-11-29 The Perkin-Elmer Corporation Arc device with adjustable cathode
DE4228064A1 (de) * 1992-08-24 1994-03-03 Plasma Technik Ag Plasmaspritzgerät
US5332601A (en) * 1992-12-10 1994-07-26 The United States As Represented By The United States Department Of Energy Method of fabricating silicon carbide coatings on graphite surfaces
US6124563A (en) * 1997-03-24 2000-09-26 Utron Inc. Pulsed electrothermal powder spray
JP4183814B2 (ja) * 1998-12-11 2008-11-19 株式会社三井三池製作所 かご形電動機
US6392189B1 (en) * 2001-01-24 2002-05-21 Lucian Bogdan Delcea Axial feedstock injector for thermal spray torches
EP1371905B1 (en) * 2001-02-27 2010-12-01 Yantai Longyuan Power Technology Co. Ltd. Plasma igniter with assembled cathode
NL1023491C2 (nl) * 2003-05-21 2004-11-24 Otb Groep B V Cascadebron.
US6969819B1 (en) * 2004-05-18 2005-11-29 The Esab Group, Inc. Plasma arc torch
US7750265B2 (en) * 2004-11-24 2010-07-06 Vladimir Belashchenko Multi-electrode plasma system and method for thermal spraying
US7550693B2 (en) * 2005-02-04 2009-06-23 Honeywell International Inc. Hand-held laser welding wand with improved optical assembly serviceability features
CA2571099C (en) * 2005-12-21 2015-05-05 Sulzer Metco (Us) Inc. Hybrid plasma-cold spray method and apparatus
USD545851S1 (en) * 2006-03-30 2007-07-03 Dave Hawley Plasma gun nozzle holder
DE102009016932B4 (de) * 2009-04-08 2013-06-20 Kjellberg Finsterwalde Plasma Und Maschinen Gmbh Kühlrohre und Elektrodenaufnahme für einen Lichtbogenplasmabrenner sowie Anordnungen aus denselben und Lichtbogenplasmabrenner mit denselben
JP2011023712A (ja) * 2009-06-19 2011-02-03 Gigaphoton Inc 極端紫外光源装置
US8258423B2 (en) * 2009-08-10 2012-09-04 The Esab Group, Inc. Retract start plasma torch with reversible coolant flow
EP2503018B8 (de) * 2011-03-23 2018-11-21 Oerlikon Metco AG, Wohlen Plasmaspritzverfahren zum Herstellen einer ionenleitenden Membran
MX2014009643A (es) * 2012-02-28 2014-11-10 Sulzer Metco Inc Cañon de plasma de cascada extendida.
US9150949B2 (en) * 2012-03-08 2015-10-06 Vladmir E. BELASHCHENKO Plasma systems and methods including high enthalpy and high stability plasmas
US9772157B2 (en) * 2013-01-23 2017-09-26 John Arthur Yoakam Projectile launching device
EA201991483A1 (ru) * 2013-03-15 2019-11-29 Пусковая система и способ запуска полезной нагрузки
ES2923761T3 (es) * 2013-05-16 2022-09-30 Kjellberg Stiftung Pieza aislante de varias partes para un soplete de arco de plasma, soplete y conjuntos asociados que utilizan la misma y procedimientos asociados
CN105899297B (zh) * 2013-12-19 2020-08-04 欧瑞康美科(美国)公司 具有衬里的长寿命等离子体喷嘴
CN104470187B (zh) * 2014-11-13 2016-10-05 衢州昀睿工业设计有限公司 一种用于热解水的双级电弧等离子体喷枪
US11511298B2 (en) * 2014-12-12 2022-11-29 Oerlikon Metco (Us) Inc. Corrosion protection for plasma gun nozzles and method of protecting gun nozzles
CH712835A1 (de) * 2016-08-26 2018-02-28 Amt Ag Plasmaspritzvorrichtung.
JP7125948B2 (ja) * 2017-03-02 2022-08-25 8 リバーズ キャピタル,エルエルシー 電非磁発射装置の効率を向上させるためのシステム及び方法
CA3057456A1 (en) * 2017-03-16 2018-09-20 Oerlikon Metco (Us) Inc. Optimized neutrode stack cooling for a plasma gun
CA3088556A1 (en) * 2018-02-20 2019-08-29 Oerlikon Metco (Us) Inc. Single arc cascaded low pressure coating gun utilizing a neutrode stack as a method of plasma arc control
US10570892B2 (en) * 2018-06-13 2020-02-25 Cu Aerospace, Llc Fiber-fed advanced pulsed plasma thruster (FPPT)

Also Published As

Publication number Publication date
CN111869332A (zh) 2020-10-30
CA3088556A1 (en) 2019-08-29
JP2021514097A (ja) 2021-06-03
US20210037635A1 (en) 2021-02-04
JP7308849B2 (ja) 2023-07-14
EP3756423A1 (en) 2020-12-30
KR20200120921A (ko) 2020-10-22
WO2019164822A1 (en) 2019-08-29
EP3756423B1 (en) 2024-04-24
EP3756423A4 (en) 2021-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6432261B2 (en) Plasma etching system
EA201190213A1 (ru) Плазменная горелка с боковым инжектором
WO2005052979A3 (en) Plasma source with segmented magnetron cathode
RU2014119896A (ru) Двигатель на эффекте холла
FI3586575T3 (fi) Z-pinch-plasman sulkujärjestelmä ja siihen liittyvä menetelmä
RU2020129100A (ru) Однодуговой каскадный плазмотрон низкого давления, использующий пакет нейтродов как способ контроля плазменной дуги
CN104203477A (zh) 延长的级联等离子枪
JP2016511911A (ja) プラズマ化学気相成長法(pecvd)源
WO2012138311A1 (ru) Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы
RU2015137774A (ru) Устройство для ионной бомбардировки и способ его применения для очистки поверхности подложки
CN102260850A (zh) 一种少液滴电弧靶及带少液滴电弧靶的等离子涂层系统
JP3198727U (ja) プラズマ切断トーチ用電極
RU2011154038A (ru) Установка для ионно-лучевой и плазменной обработки
CN110612363B (zh) 用于涂覆表面的系统及方法
WO2022051514A3 (en) Orbital confinement fusion device
RU116733U1 (ru) Устройство для создания однородно-распределенной газоразрядной плазмы в больших вакуумных объемах технологических установок
CN104878392A (zh) 离子束清洗刻蚀设备
RU2726223C1 (ru) Магнетронное распылительное устройство
CN102296274A (zh) 用于阴极弧金属离子源的屏蔽装置
CN111043000B (zh) 一种磁等离子体推力器
CN208496040U (zh) 一种带有快速安装电极的等离子割炬
US20240062995A1 (en) Hollow cathode system for generating a plasma and method for operating such a hollow cathode system
RU2699765C1 (ru) Аксиальная электронная пушка
RU2656318C1 (ru) Магнетронная распылительная головка
CN205324964U (zh) 等离子堆焊枪