RU2020129100A - Однодуговой каскадный плазмотрон низкого давления, использующий пакет нейтродов как способ контроля плазменной дуги - Google Patents
Однодуговой каскадный плазмотрон низкого давления, использующий пакет нейтродов как способ контроля плазменной дуги Download PDFInfo
- Publication number
- RU2020129100A RU2020129100A RU2020129100A RU2020129100A RU2020129100A RU 2020129100 A RU2020129100 A RU 2020129100A RU 2020129100 A RU2020129100 A RU 2020129100A RU 2020129100 A RU2020129100 A RU 2020129100A RU 2020129100 A RU2020129100 A RU 2020129100A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- plasma torch
- neutrons
- vacuum plasma
- torch according
- vacuum
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/28—Cooling arrangements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/134—Plasma spraying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3452—Supplementary electrodes between cathode and anode, e.g. cascade
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/02—Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma
- H05H1/16—Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma using externally-applied electric and magnetic fields
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Claims (25)
1. Вакуумный плазматрон, содержащий:
заднюю секцию корпуса плазмотрона, содержащую электрод, и
каскадную секцию, выполненную с возможностью соединения с задней секцией корпуса плазмотрона,
причем каскадная секция содержит множество нейтродов, расположенных с образованием пакета нейтродов.
2. Вакуумный плазматрон по п. 1, причем в качестве единственного источника плазмообразующего газа подается один газ.
3. Вакуумный плазматрон по п. 1, причем рабочее напряжение плазматрона больше 65 вольт.
4. Вакуумный плазматрон по п. 1, дополнительно содержащий сопло, соединенное с одним концом пакета нейтродов, тем самым пакет нейтродов отделяет электрод от сопла.
5. Вакуумный плазматрон по п. 1, причем каждый из упомянутого множества нейтродов имеет форму диска с центральным каналом, и
причем упомянутое множество нейтродов расположено так, что центральные каналы образуют центральный плазменный канал пакета нейтродов.
6. Вакуумный плазматрон по п. 5, причем упомянутое множество нейтродов электрически изолированы друг от друга изоляторами.
7. Вакуумный плазматрон по п. 6, причем изоляторы выполнены так, что поддерживают воздушный или газовый зазор между соседними нейтродами.
8. Вакуумный плазматрон по п. 5, причем каждый из упомянутого множества нейтродов содержит множество охлаждающих каналов, окружающих центральный канал.
9. Вакуумный плазматрон по п. 8, причем упомянутое множество охлаждающих каналов содержит аксиальные каналы, простирающиеся через диск.
10. Вакуумный плазматрон по п. 9, причем аксиальные каналы ограничены внутри нейтродов.
11. Вакуумный плазматрон по п. 10, причем аксиальные каналы имеют практически круглую геометрическую форму, проходя через нейтроды.
12. Вакуумный плазматрон по п. 9, причем аксиальные каналы представляют собой углубления, открытые к внешней периферии нейтродов.
13. Вакуумный плазматрон по п. 12, причем аксиальные каналы имеют параллельные боковые стенки и нижнюю стенку, практически перпендикулярную боковым стенкам.
14. Вакуумный плазматрон по п. 1, причем упомянутое множество нейтродов имеет дискообразные корпуса, имеющие центральные аксиальные каналы, внешние периферийные поверхности и множества углублений, окружающих центральные аксиальные каналы.
15. Вакуумный плазматрон по п. 1, причем упомянутое множество нейтродов расположено так, что упомянутые множества углублений выровнены, образуя множество аксиальных охлаждающих каналов в пакете нейтродов.
16. Вакуумный плазматрон по п. 1, предназначенный для по меньшей мере одного из способов вакуумно-плазменного напыления (VPS), плазменного напыления в среде низкого давления (LPPS, LVPS) или вакуумного распыления при пониженном давлении (RPPS).
17. Способ управления плазменной дугой в вакуумном плазматроне, включающий соединение каскадного пакета нейтродов с задней секцией корпуса вакуумного плазматрона.
18. Способ по п. 17, дополнительно включающий соединение составного плазмотрона с одним газом, который используется как единственный источник плазмообразующего газа.
19. Способ по п. 17, дополнительно включающий подачу на составной плазмотрон рабочего напряжения выше 65 вольт.
20. Способ по п. 17, причем каскадный пакет нейтродов содержит множество нейтродов, в котором каждый нейтрод содержит корпус в виде диска, имеющий центральный аксиальный канал и множество углублений, окружающих центральный аксиальный канал, причем способ дополнительно включает:
ориентацию упомянутого множества нейтродов в каскадном пакете нейтродов так, что упомянутое множество углублений выровнено по оси, образуя множество аксиальных охлаждающих каналов в каскадном пакете нейтродов.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201862632899P | 2018-02-20 | 2018-02-20 | |
US62/632,899 | 2018-02-20 | ||
PCT/US2019/018539 WO2019164822A1 (en) | 2018-02-20 | 2019-02-19 | Single arc cascaded low pressure coating gun utilizing a neutrode stack as a method of plasma arc control |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2020129100A true RU2020129100A (ru) | 2022-03-21 |
Family
ID=67688375
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2020129100A RU2020129100A (ru) | 2018-02-20 | 2019-02-19 | Однодуговой каскадный плазмотрон низкого давления, использующий пакет нейтродов как способ контроля плазменной дуги |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210037635A1 (ru) |
EP (1) | EP3756423B1 (ru) |
JP (1) | JP7308849B2 (ru) |
KR (1) | KR20200120921A (ru) |
CN (1) | CN111869332A (ru) |
CA (1) | CA3088556A1 (ru) |
RU (1) | RU2020129100A (ru) |
WO (1) | WO2019164822A1 (ru) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA3088556A1 (en) * | 2018-02-20 | 2019-08-29 | Oerlikon Metco (Us) Inc. | Single arc cascaded low pressure coating gun utilizing a neutrode stack as a method of plasma arc control |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1255833B (de) * | 1963-08-10 | 1967-12-07 | Siemens Ag | Verfahren und Einrichtung zum Aufheizen von Gasen in einem Plasmabrenner |
US4429612A (en) * | 1979-06-18 | 1984-02-07 | Gt - Devices | Method and apparatus for accelerating a solid mass |
JPS58197206A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-16 | Hitachi Metals Ltd | 高品位金属または合金粉末の製造方法 |
US4590842A (en) * | 1983-03-01 | 1986-05-27 | Gt-Devices | Method of and apparatus for accelerating a projectile |
US4715261A (en) * | 1984-10-05 | 1987-12-29 | Gt-Devices | Cartridge containing plasma source for accelerating a projectile |
US4659899A (en) * | 1984-10-24 | 1987-04-21 | The Perkin-Elmer Corporation | Vacuum-compatible air-cooled plasma device |
US4821508A (en) * | 1985-06-10 | 1989-04-18 | Gt-Devices | Pulsed electrothermal thruster |
US4640180A (en) * | 1985-06-20 | 1987-02-03 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Gun-firing system |
US4780591A (en) * | 1986-06-13 | 1988-10-25 | The Perkin-Elmer Corporation | Plasma gun with adjustable cathode |
US4788408A (en) * | 1987-05-08 | 1988-11-29 | The Perkin-Elmer Corporation | Arc device with adjustable cathode |
DE4228064A1 (de) * | 1992-08-24 | 1994-03-03 | Plasma Technik Ag | Plasmaspritzgerät |
US5332601A (en) * | 1992-12-10 | 1994-07-26 | The United States As Represented By The United States Department Of Energy | Method of fabricating silicon carbide coatings on graphite surfaces |
US6124563A (en) * | 1997-03-24 | 2000-09-26 | Utron Inc. | Pulsed electrothermal powder spray |
JP4183814B2 (ja) * | 1998-12-11 | 2008-11-19 | 株式会社三井三池製作所 | かご形電動機 |
US6392189B1 (en) * | 2001-01-24 | 2002-05-21 | Lucian Bogdan Delcea | Axial feedstock injector for thermal spray torches |
EP1371905B1 (en) * | 2001-02-27 | 2010-12-01 | Yantai Longyuan Power Technology Co. Ltd. | Plasma igniter with assembled cathode |
NL1023491C2 (nl) * | 2003-05-21 | 2004-11-24 | Otb Groep B V | Cascadebron. |
US6969819B1 (en) * | 2004-05-18 | 2005-11-29 | The Esab Group, Inc. | Plasma arc torch |
US7750265B2 (en) * | 2004-11-24 | 2010-07-06 | Vladimir Belashchenko | Multi-electrode plasma system and method for thermal spraying |
US7550693B2 (en) * | 2005-02-04 | 2009-06-23 | Honeywell International Inc. | Hand-held laser welding wand with improved optical assembly serviceability features |
CA2571099C (en) * | 2005-12-21 | 2015-05-05 | Sulzer Metco (Us) Inc. | Hybrid plasma-cold spray method and apparatus |
USD545851S1 (en) * | 2006-03-30 | 2007-07-03 | Dave Hawley | Plasma gun nozzle holder |
DE102009016932B4 (de) * | 2009-04-08 | 2013-06-20 | Kjellberg Finsterwalde Plasma Und Maschinen Gmbh | Kühlrohre und Elektrodenaufnahme für einen Lichtbogenplasmabrenner sowie Anordnungen aus denselben und Lichtbogenplasmabrenner mit denselben |
JP2011023712A (ja) * | 2009-06-19 | 2011-02-03 | Gigaphoton Inc | 極端紫外光源装置 |
US8258423B2 (en) * | 2009-08-10 | 2012-09-04 | The Esab Group, Inc. | Retract start plasma torch with reversible coolant flow |
EP2503018B8 (de) * | 2011-03-23 | 2018-11-21 | Oerlikon Metco AG, Wohlen | Plasmaspritzverfahren zum Herstellen einer ionenleitenden Membran |
MX2014009643A (es) * | 2012-02-28 | 2014-11-10 | Sulzer Metco Inc | Cañon de plasma de cascada extendida. |
US9150949B2 (en) * | 2012-03-08 | 2015-10-06 | Vladmir E. BELASHCHENKO | Plasma systems and methods including high enthalpy and high stability plasmas |
US9772157B2 (en) * | 2013-01-23 | 2017-09-26 | John Arthur Yoakam | Projectile launching device |
EA201991483A1 (ru) * | 2013-03-15 | 2019-11-29 | Пусковая система и способ запуска полезной нагрузки | |
ES2923761T3 (es) * | 2013-05-16 | 2022-09-30 | Kjellberg Stiftung | Pieza aislante de varias partes para un soplete de arco de plasma, soplete y conjuntos asociados que utilizan la misma y procedimientos asociados |
CN105899297B (zh) * | 2013-12-19 | 2020-08-04 | 欧瑞康美科(美国)公司 | 具有衬里的长寿命等离子体喷嘴 |
CN104470187B (zh) * | 2014-11-13 | 2016-10-05 | 衢州昀睿工业设计有限公司 | 一种用于热解水的双级电弧等离子体喷枪 |
US11511298B2 (en) * | 2014-12-12 | 2022-11-29 | Oerlikon Metco (Us) Inc. | Corrosion protection for plasma gun nozzles and method of protecting gun nozzles |
CH712835A1 (de) * | 2016-08-26 | 2018-02-28 | Amt Ag | Plasmaspritzvorrichtung. |
JP7125948B2 (ja) * | 2017-03-02 | 2022-08-25 | 8 リバーズ キャピタル,エルエルシー | 電非磁発射装置の効率を向上させるためのシステム及び方法 |
CA3057456A1 (en) * | 2017-03-16 | 2018-09-20 | Oerlikon Metco (Us) Inc. | Optimized neutrode stack cooling for a plasma gun |
CA3088556A1 (en) * | 2018-02-20 | 2019-08-29 | Oerlikon Metco (Us) Inc. | Single arc cascaded low pressure coating gun utilizing a neutrode stack as a method of plasma arc control |
US10570892B2 (en) * | 2018-06-13 | 2020-02-25 | Cu Aerospace, Llc | Fiber-fed advanced pulsed plasma thruster (FPPT) |
-
2019
- 2019-02-19 CA CA3088556A patent/CA3088556A1/en active Pending
- 2019-02-19 RU RU2020129100A patent/RU2020129100A/ru unknown
- 2019-02-19 CN CN201980012069.7A patent/CN111869332A/zh active Pending
- 2019-02-19 US US16/970,086 patent/US20210037635A1/en active Pending
- 2019-02-19 KR KR1020207025097A patent/KR20200120921A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-02-19 JP JP2020542364A patent/JP7308849B2/ja active Active
- 2019-02-19 WO PCT/US2019/018539 patent/WO2019164822A1/en unknown
- 2019-02-19 EP EP19758027.7A patent/EP3756423B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN111869332A (zh) | 2020-10-30 |
CA3088556A1 (en) | 2019-08-29 |
JP2021514097A (ja) | 2021-06-03 |
US20210037635A1 (en) | 2021-02-04 |
JP7308849B2 (ja) | 2023-07-14 |
EP3756423A1 (en) | 2020-12-30 |
KR20200120921A (ko) | 2020-10-22 |
WO2019164822A1 (en) | 2019-08-29 |
EP3756423B1 (en) | 2024-04-24 |
EP3756423A4 (en) | 2021-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6432261B2 (en) | Plasma etching system | |
EA201190213A1 (ru) | Плазменная горелка с боковым инжектором | |
WO2005052979A3 (en) | Plasma source with segmented magnetron cathode | |
RU2014119896A (ru) | Двигатель на эффекте холла | |
FI3586575T3 (fi) | Z-pinch-plasman sulkujärjestelmä ja siihen liittyvä menetelmä | |
RU2020129100A (ru) | Однодуговой каскадный плазмотрон низкого давления, использующий пакет нейтродов как способ контроля плазменной дуги | |
CN104203477A (zh) | 延长的级联等离子枪 | |
JP2016511911A (ja) | プラズマ化学気相成長法(pecvd)源 | |
WO2012138311A1 (ru) | Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы | |
RU2015137774A (ru) | Устройство для ионной бомбардировки и способ его применения для очистки поверхности подложки | |
CN102260850A (zh) | 一种少液滴电弧靶及带少液滴电弧靶的等离子涂层系统 | |
JP3198727U (ja) | プラズマ切断トーチ用電極 | |
RU2011154038A (ru) | Установка для ионно-лучевой и плазменной обработки | |
CN110612363B (zh) | 用于涂覆表面的系统及方法 | |
WO2022051514A3 (en) | Orbital confinement fusion device | |
RU116733U1 (ru) | Устройство для создания однородно-распределенной газоразрядной плазмы в больших вакуумных объемах технологических установок | |
CN104878392A (zh) | 离子束清洗刻蚀设备 | |
RU2726223C1 (ru) | Магнетронное распылительное устройство | |
CN102296274A (zh) | 用于阴极弧金属离子源的屏蔽装置 | |
CN111043000B (zh) | 一种磁等离子体推力器 | |
CN208496040U (zh) | 一种带有快速安装电极的等离子割炬 | |
US20240062995A1 (en) | Hollow cathode system for generating a plasma and method for operating such a hollow cathode system | |
RU2699765C1 (ru) | Аксиальная электронная пушка | |
RU2656318C1 (ru) | Магнетронная распылительная головка | |
CN205324964U (zh) | 等离子堆焊枪 |