RU2019126264A - Оптический фильтр, оптическая фильтровая система, спектрометр и способ изготовления оптического фильтра - Google Patents

Оптический фильтр, оптическая фильтровая система, спектрометр и способ изготовления оптического фильтра Download PDF

Info

Publication number
RU2019126264A
RU2019126264A RU2019126264A RU2019126264A RU2019126264A RU 2019126264 A RU2019126264 A RU 2019126264A RU 2019126264 A RU2019126264 A RU 2019126264A RU 2019126264 A RU2019126264 A RU 2019126264A RU 2019126264 A RU2019126264 A RU 2019126264A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
optical filter
refractive index
array
filter according
low refractive
Prior art date
Application number
RU2019126264A
Other languages
English (en)
Inventor
Бенжамен ГАЛЛИНЕ
Джорджо КУАРАНТА
Гийом БАССЕ
Original Assignee
ССЭМ Сентр Свисс д'Электроник э де Микротекник СА - Решерш э Девелоппман
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ССЭМ Сентр Свисс д'Электроник э де Микротекник СА - Решерш э Девелоппман filed Critical ССЭМ Сентр Свисс д'Электроник э де Микротекник СА - Решерш э Девелоппман
Publication of RU2019126264A publication Critical patent/RU2019126264A/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/46Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters
    • G01J3/50Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters using electric radiation detectors
    • G01J3/51Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters using electric radiation detectors using colour filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/204Filters in which spectral selection is performed by means of a conductive grid or array, e.g. frequency selective surfaces
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y20/00Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/0205Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/0205Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
    • G01J3/0229Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using masks, aperture plates, spatial light modulators or spatial filters, e.g. reflective filters
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/0256Compact construction
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/0256Compact construction
    • G01J3/0259Monolithic
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J3/18Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating
    • G01J3/1895Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating using fiber Bragg gratings or gratings integrated in a waveguide
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • G01J3/2803Investigating the spectrum using photoelectric array detector
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • G01J3/30Measuring the intensity of spectral lines directly on the spectrum itself
    • G01J3/36Investigating two or more bands of a spectrum by separate detectors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/008Surface plasmon devices
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1866Transmission gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/208Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0216Coatings
    • H01L31/02161Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/02162Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J2003/1213Filters in general, e.g. dichroic, band
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J2003/1213Filters in general, e.g. dichroic, band
    • G01J2003/1217Indexed discrete filters or choppers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J3/18Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating
    • G01J2003/1842Types of grating
    • G01J2003/1861Transmission gratings
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • G01J3/2803Investigating the spectrum using photoelectric array detector
    • G01J2003/2806Array and filter array
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/1462Coatings
    • H01L27/14621Colour filter arrangements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Claims (27)

1. Пропускающий оптический фильтр, выполненный с возможностью пропускания части спектра светового пучка, падающего на указанный фильтр, содержащий подложку, имеющую первую поверхность подложки и вторую поверхность подложки, противоположную указанной первой поверхности подложки, и содержащий наноструктурированный металлический слой и волновод,
при этом:
- указанная первая поверхность подложки является поверхностью с паттерном, содержащим массив наноструктур, состоящих из смежных выступов и канавок;
- на указанной первой поверхности подложки сформирован диэлектрический волновод с высоким показателем преломления, имеющий паттерн, заданный указанной первой поверхностью подложки, причем указанный диэлектрический волновод имеет показатель преломления n1 в интервале от 1,45 до 3,3;
- поверх указанного диэлектрического волновода сформирован диэлектрический слой с низким показателем преломления, имеющий паттерн, заданный указанным диэлектрическим волноводом и задающий смежные выступы и канавки, при этом указанный диэлектрический слой имеет показатель преломления n2 в интервале от 1,15 до 1,7, причем n2 меньше n1;
- по меньшей мере на части указанного диэлектрического слоя с низким показателем преломления сформирован массив металлических наноструктур, имеющий, по меньшей мере частично, форму паттерна, заданную указанным диэлектрическим волноводом.
2. Оптический фильтр по п. 1, в котором указанный массив металлических наноструктур содержит массив сквозных отверстий, каждое из которых обращено к одной из канавок в указанном диэлектрическом слое с низким показателем преломления.
3. Оптический фильтр по п. 1, в котором указанный массив металлических наноструктур имеет неоднородную толщину, причем толщина t3 металлических наноструктур на выступах указанного диэлектрического слоя с низким показателем преломления больше, чем их толщина t5 на канавках указанного диэлектрического слоя с низким показателем преломления.
4. Оптический фильтр по п. 1, в котором указанный массив содержит множество из N подмассивов, имеющих различные периодичности Р1-PN по меньшей мере в одной размерности, причем N предпочтительно превышает 10.
5. Оптический фильтр по п. 1, в котором указанные металлические наноструктуры покрывают только по меньшей мере часть выступов указанного диэлектрического слоя с низким показателем преломления.
6. Оптический фильтр по п. 1, в котором указанные металлические наноструктуры покрывают только по меньшей мере часть указанных канавок.
7. Оптический фильтр по п. 1, в котором толщина t2 указанного диэлектрического волновода составляет от 20 нм до 150 нм, предпочтительно от 30 нм до 100 нм.
8. Оптический фильтр по п. 1, в котором толщина t2 указанного диэлектрического слоя с низким показателем преломления составляет от 80 нм до 200 нм, предпочтительно от 30 нм до 200 нм.
9. Оптический фильтр по п. 1, в котором период указанного массива металлических наноструктур составляет от 200 нм до 500 нм.
10. Оптический фильтр по п. 1, в котором указанный массив металлических наноструктур представляет собой линейный массив ламелей с нанометровыми размерами.
11. Оптический фильтр по п. 1, в котором указанная первая поверхность подложки является поверхностью с бинарным паттерном.
12. Оптический фильтр по п. 1, в котором указанная первая поверхность подложки является поверхностью с синусоидальным паттерном.
13. Оптическая фильтровая система, содержащая пропускающий оптический фильтр по п. 1, в которой к указанной подложке прикреплен массив детекторов.
14. Спектрометр, содержащий по меньшей мере один пропускающий оптический фильтр и/или по меньшей мере одну указанную пропускающую оптическую фильтровую систему, причем указанный спектрометр имеет для падающего света с длинами волн от 300 нм до 790 нм спектральное разрешение меньше 30 нм, предпочтительно меньше 20 нм.
15. Способ изготовления пропускающего оптического фильтра по п. 1, включающий следующие этапы:
a) обеспечивают подложку, имеющую контактную поверхность;
b) обеспечивают мастер-штамп, имеющий наноструктурированную поверхность;
c) наносят на указанную контактную поверхность слой золь-геля;
d) формируют из указанного слоя золь-геля, с использованием облучения указанного слоя золь-геля ультрафиолетовым светом, слой с наноотпечатком;
e) наносят на указанный слой с наноотпечатком тонкопленочное покрытие с высоким показателем преломления;
f) наносят на указанное тонкопленочное покрытие с высоким показателем преломления тонкопленочное покрытие с низким показателем преломления;
д) наносят, методом нанесения под углом, на указанное тонкопленочное покрытие с низким показателем преломления металлическое покрытие.
RU2019126264A 2018-08-27 2019-08-20 Оптический фильтр, оптическая фильтровая система, спектрометр и способ изготовления оптического фильтра RU2019126264A (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP18190990.4A EP3617757B1 (en) 2018-08-27 2018-08-27 Optical filter, optical filter system, spectrometer and method of fabrication thereof
EP18190990.4 2018-08-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2019126264A true RU2019126264A (ru) 2021-02-20

Family

ID=63407133

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2019126264A RU2019126264A (ru) 2018-08-27 2019-08-20 Оптический фильтр, оптическая фильтровая система, спектрометр и способ изготовления оптического фильтра

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11506538B2 (ru)
EP (1) EP3617757B1 (ru)
JP (1) JP2020034899A (ru)
KR (1) KR20200024097A (ru)
CN (1) CN110865431B (ru)
RU (1) RU2019126264A (ru)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210030764A (ko) * 2019-09-10 2021-03-18 삼성전자주식회사 복합 구조체, 광학 필터, 이미지 센서, 카메라 모듈 및 전자 장치
KR20210053603A (ko) * 2019-11-04 2021-05-12 삼성전기주식회사 카메라 모듈 및 휴대 단말기
JPWO2021095625A1 (ru) * 2019-11-13 2021-05-20
US20210223444A1 (en) * 2020-01-17 2021-07-22 Samsung Electronics Co., Ltd. Dispersion array and method of fabricating
US11536607B2 (en) 2020-01-17 2022-12-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Image sensor and method of operating
US20210325777A1 (en) * 2020-04-20 2021-10-21 Applied Materials, Inc. Methods for increasing the refractive index of high-index nanoimprint lithography films
CN111580340B (zh) * 2020-05-28 2023-03-31 南京南智先进光电集成技术研究院有限公司 一种中红外滤光片的制备方法
US11201993B1 (en) * 2020-06-15 2021-12-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Multi-camera on a chip and camera module design
WO2022018484A1 (en) 2020-07-20 2022-01-27 CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement Multi-spectral light-field device
WO2022047549A1 (en) * 2020-09-07 2022-03-10 The University Of Melbourne Filter array detector array spectrometer
CN114384621B (zh) * 2022-02-11 2023-07-04 中国科学院上海技术物理研究所 一种基于双等离激元共振的角度不敏感窄带滤波器
US20230408335A1 (en) * 2022-05-25 2023-12-21 Visera Technologies Company Ltd. Spectrometer
US11927780B2 (en) * 2022-05-31 2024-03-12 National Chung Shan Institute Of Science And Technology Dielectric grating apparatus
CN115166885B (zh) * 2022-09-09 2023-02-17 荣耀终端有限公司 衍射光栅结构、制备方法、成像装置及头戴设备
CN117075256B (zh) * 2023-10-16 2024-02-13 潍坊先进光电芯片研究院 一种交错光栅的混合等离激元波导布拉格光栅偏振器

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5726805A (en) * 1996-06-25 1998-03-10 Sandia Corporation Optical filter including a sub-wavelength periodic structure and method of making
US7420156B2 (en) * 2003-08-06 2008-09-02 University Of Pittsburgh Metal nanowire based bandpass filter arrays in the optical frequency range
US7854505B2 (en) * 2006-03-15 2010-12-21 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Passive and active photonic crystal structures and devices
KR100899811B1 (ko) * 2006-12-05 2009-05-27 한국전자통신연구원 유기물 고굴절 재료를 포함하는 공진 반사광 필터와 이를구비한 광 바이오센서
WO2008082569A1 (en) 2006-12-29 2008-07-10 Nanolambda, Inc. Wavelength selective metallic embossing nanostructure
JP4621270B2 (ja) * 2007-07-13 2011-01-26 キヤノン株式会社 光学フィルタ
WO2009107041A1 (en) * 2008-02-25 2009-09-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. Optical sensor for measuring emission light from an analyte
JP4995231B2 (ja) * 2008-05-30 2012-08-08 キヤノン株式会社 光学フィルタ
US8264637B2 (en) * 2008-10-10 2012-09-11 Samsung Electronics Co., Ltd. Photonic crystal optical filter, reflective color filter, display apparatus using the reflective color filter, and method of manufacturing the reflective color filter
WO2010108086A2 (en) 2009-03-20 2010-09-23 Nanolambda, Inc. Nano-optic filter array based sensor
US8941834B2 (en) * 2009-06-17 2015-01-27 Koninklijkle Philips N.V. Interference filters with high transmission and large rejection range for mini-spectrometer
US9372283B2 (en) * 2009-11-13 2016-06-21 Babak NIKOOBAKHT Nanoengineered devices based on electro-optical modulation of the electrical and optical properties of plasmonic nanoparticles
US8879152B2 (en) 2010-07-15 2014-11-04 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. Optical bandpass filter system, in particular for multichannel spectral-selective measurements
WO2012079239A1 (zh) * 2010-12-16 2012-06-21 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 一种彩色滤光片
KR101321079B1 (ko) * 2012-02-28 2013-10-23 광운대학교 산학협력단 금속 격자 기반의 광 파장 필터
US9958320B2 (en) * 2012-05-07 2018-05-01 Elmos Semiconductor Ag Apparatus for selectively transmitting the spectrum of electromagnetic radiation within a predefined wavelength range
WO2014164967A1 (en) 2013-03-13 2014-10-09 Board Of Regents, The University Of Texas System Rayleigh reflectors and applications thereof
CN103245996B (zh) * 2013-05-16 2015-11-25 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种阵列式多光谱滤光片及其制作方法
US10281626B2 (en) * 2015-07-25 2019-05-07 NanoMedia Solutions Inc. Color image display devices comprising structural color pixels that are selectively activated and/or deactivated by material deposition
KR102020956B1 (ko) * 2016-08-30 2019-10-18 삼성전자주식회사 광학필터 및 이를 이용한 광학 디바이스
CN106526949B (zh) * 2016-11-15 2019-08-27 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制造方法
CN106773256A (zh) * 2017-01-03 2017-05-31 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、阵列基板及显示装置
CN106896436A (zh) 2017-02-24 2017-06-27 南京大学 基于铝光栅耦合氮化硅薄膜波导的颜色滤波器及制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN110865431A (zh) 2020-03-06
US20200064195A1 (en) 2020-02-27
US11506538B2 (en) 2022-11-22
CN110865431B (zh) 2022-11-18
JP2020034899A (ja) 2020-03-05
EP3617757B1 (en) 2021-02-24
EP3617757A8 (en) 2020-04-22
EP3617757A1 (en) 2020-03-04
KR20200024097A (ko) 2020-03-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2019126264A (ru) Оптический фильтр, оптическая фильтровая система, спектрометр и способ изготовления оптического фильтра
US4013465A (en) Reducing the reflectance of surfaces to radiation
DE102006039071B4 (de) Optisches Filter und Verfahren zu seiner Herstellung
JP7348991B2 (ja) 多レベル回折光学素子の薄膜コーティング
DE10362217B4 (de) Optische Beugungselemente und Verfahren zur Herstellung derselben
KR20180030509A (ko) 발색 구조체 및 그 제조 방법
AU2014292323B2 (en) Solar light management
US20140055847A1 (en) Ir reflectors for solar light management
TWI785482B (zh) 超穎表面塗層
Georgaki et al. 1-D polymeric photonic crystals as spectroscopic zero-power humidity sensors
US20090267245A1 (en) Transmission Type Optical Element
US11391870B2 (en) Height-modulated diffractive master plate and method of manufacturing thereof
JP2022531172A (ja) 回折バックライトを製造する方法
US20120170113A1 (en) Infrared transmission optics formed with anti-reflection pattern, and manufacturing method thereof
CN111465897A (zh) 光刻胶作为多光谱滤光器阵列上的不透明孔掩模
US20100208346A1 (en) Multilayer Dielectric Transmission Gratings Having Maximal Transmitted Diffraction Efficiency
CN115755257A (zh) 一种宽谱编码阵列滤光片及其制备方法
DE60122482T2 (de) Selektive abscheidung eines materials auf ein substrat gemaess eines interferenzmusters
KR20130085405A (ko) 실리콘 적외선 투과용 광학계 및 그 제조방법
US20230375748A1 (en) Optical elements that include a metasurface
US20210048561A1 (en) Wideband antireflective surface structures for optics and methods of manufacturing the same
JP4279598B2 (ja) 屈折率分布型レンズの製造方法
JP2015219446A (ja) 反射型回折格子
US6593062B1 (en) Formation of bulk refractive index structures
KR100772509B1 (ko) 유기 브래그 격자판을 포함하는 광도파로를 갖는 광소자