RU2015144841A - PLASMOTRON, PLASMA MATERIAL DOSING DEVICE AND PLASMA FORMING METHOD - Google Patents

PLASMOTRON, PLASMA MATERIAL DOSING DEVICE AND PLASMA FORMING METHOD Download PDF

Info

Publication number
RU2015144841A
RU2015144841A RU2015144841A RU2015144841A RU2015144841A RU 2015144841 A RU2015144841 A RU 2015144841A RU 2015144841 A RU2015144841 A RU 2015144841A RU 2015144841 A RU2015144841 A RU 2015144841A RU 2015144841 A RU2015144841 A RU 2015144841A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
plasma
plasma mass
capacitor plates
capacitive
breakdown voltage
Prior art date
Application number
RU2015144841A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Геннадий Леонидович Багич
Original Assignee
Геннадий Леонидович Багич
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Геннадий Леонидович Багич filed Critical Геннадий Леонидович Багич
Priority to RU2015144841A priority Critical patent/RU2015144841A/en
Publication of RU2015144841A publication Critical patent/RU2015144841A/en

Links

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

1. Плазмотрон, содержащий корпус в котором расположены устройство подачи плазменной массы, высокочастотное излучающее устройство, низкочастотный излучатель, коаксиально расположенные изолированные конденсаторные пластины, играющие роль катода и анода, образующие емкостную камеру, переходящую в разрядную, конденсаторные пластины которой выполнены из металла, обладающего высоким значением пробивного напряжения, выход которой заканчивается не изолированными конденсаторными пластинами, имеющими форму усеченных конусов с плазменным промежутком, обеспечивающим образование плазменной дуги при заполнении промежутка плазменной массой.2. Плазмотрон по п. 1, отличающийся тем, что между обкладками конденсатора расположен электромагнитный излучатель, энергия которого проходит через емкостную и разрядную камеры.3. Устройство подачи плазменной массы по п. 1, отличающееся тем, что устройство, обеспечивающее через отверстия 19 подачу плазменной массы в емкостную камеру, содержит сильфон, внутренний объем которого, заполненный плазменной массой, изменяется в функции заданного давления.4. Способ формирования плазмы, отличающийся тем, что вдоль оси распространения энергии суммарного магнитного поля происходит захват плазмы, образованной из плазменной массы путем действия на нее электрического поля, напряженность которого превышает напряжение пробоя плазменной массы.1. A plasma torch containing a housing in which a plasma mass supply device, a high-frequency emitting device, a low-frequency emitter, coaxially located insulated capacitor plates, playing the role of a cathode and anode, forming a capacitive chamber that becomes a discharge chamber, the capacitor plates of which are made of metal having a high the value of the breakdown voltage, the output of which ends with non-insulated capacitor plates having the shape of truncated cones with plasma omezhutkom providing plasma arc formation when filling the plasma gap massoy.2. A plasma torch according to claim 1, characterized in that an electromagnetic emitter is located between the capacitor plates, the energy of which passes through the capacitive and discharge chambers. 3. The plasma mass supply device according to claim 1, characterized in that the device providing through the openings 19 a plasma mass supply to the capacitive chamber contains a bellows, the internal volume of which, filled with the plasma mass, varies as a function of a given pressure. The method of plasma formation, characterized in that along the axis of energy distribution of the total magnetic field, the plasma is captured from the plasma mass by the action of an electric field on it, the intensity of which exceeds the breakdown voltage of the plasma mass.

Claims (4)

1. Плазмотрон, содержащий корпус в котором расположены устройство подачи плазменной массы, высокочастотное излучающее устройство, низкочастотный излучатель, коаксиально расположенные изолированные конденсаторные пластины, играющие роль катода и анода, образующие емкостную камеру, переходящую в разрядную, конденсаторные пластины которой выполнены из металла, обладающего высоким значением пробивного напряжения, выход которой заканчивается не изолированными конденсаторными пластинами, имеющими форму усеченных конусов с плазменным промежутком, обеспечивающим образование плазменной дуги при заполнении промежутка плазменной массой.1. A plasma torch containing a housing in which a plasma mass supply device, a high-frequency emitting device, a low-frequency emitter, coaxially located insulated capacitor plates, playing the role of a cathode and anode, forming a capacitive chamber that becomes a discharge chamber, the capacitor plates of which are made of metal having a high the value of the breakdown voltage, the output of which ends with non-insulated capacitor plates having the shape of truncated cones with plasma omezhutkom providing plasma arc formation when filling gap plasma mass. 2. Плазмотрон по п. 1, отличающийся тем, что между обкладками конденсатора расположен электромагнитный излучатель, энергия которого проходит через емкостную и разрядную камеры.2. The plasma torch according to claim 1, characterized in that between the plates of the capacitor is an electromagnetic emitter, the energy of which passes through the capacitive and discharge chambers. 3. Устройство подачи плазменной массы по п. 1, отличающееся тем, что устройство, обеспечивающее через отверстия 19 подачу плазменной массы в емкостную камеру, содержит сильфон, внутренний объем которого, заполненный плазменной массой, изменяется в функции заданного давления.3. The plasma mass supply device according to claim 1, characterized in that the device providing through the holes 19 the plasma mass supply to the capacitive chamber contains a bellows, the internal volume of which, filled with the plasma mass, varies as a function of the set pressure. 4. Способ формирования плазмы, отличающийся тем, что вдоль оси распространения энергии суммарного магнитного поля происходит захват плазмы, образованной из плазменной массы путем действия на нее электрического поля, напряженность которого превышает напряжение пробоя плазменной массы. 4. The method of plasma formation, characterized in that along the axis of energy distribution of the total magnetic field, the plasma is captured from the plasma mass by the action of an electric field on it, the intensity of which exceeds the breakdown voltage of the plasma mass.
RU2015144841A 2015-10-19 2015-10-19 PLASMOTRON, PLASMA MATERIAL DOSING DEVICE AND PLASMA FORMING METHOD RU2015144841A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015144841A RU2015144841A (en) 2015-10-19 2015-10-19 PLASMOTRON, PLASMA MATERIAL DOSING DEVICE AND PLASMA FORMING METHOD

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015144841A RU2015144841A (en) 2015-10-19 2015-10-19 PLASMOTRON, PLASMA MATERIAL DOSING DEVICE AND PLASMA FORMING METHOD

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2015144841A true RU2015144841A (en) 2016-05-20

Family

ID=56011903

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015144841A RU2015144841A (en) 2015-10-19 2015-10-19 PLASMOTRON, PLASMA MATERIAL DOSING DEVICE AND PLASMA FORMING METHOD

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2015144841A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2015137774A (en) DEVICE FOR ION BOMBARDING AND METHOD OF ITS APPLICATION FOR CLEANING THE SUBSTRATE SURFACE
RU134697U1 (en) HIGH-FREQUENCY RADIATION GENERATOR BASED ON A Hollow Cathode Discharge
RU2015144841A (en) PLASMOTRON, PLASMA MATERIAL DOSING DEVICE AND PLASMA FORMING METHOD
RU107657U1 (en) FORVACUMUM PLASMA ELECTRONIC SOURCE
RU2012100143A (en) HIGH-FREQUENCY RADIATION GENERATOR BASED ON A Hollow Cathode Discharge
RU2014140130A (en) METHOD FOR ENERGY RADIATION AND DEVICE FOR ITS IMPLEMENTATION (PLASMA RADIATOR)
RU2011128767A (en) METHOD FOR PRODUCING NANOPOWDERS FROM VARIOUS ELECTRIC CONDUCTING MATERIALS
RU2015145958A (en) HIGH-FREQUENCY RADIATION GENERATOR BASED ON A Hollow Cathode Discharge
RU2016113321A (en) Device for generating a plasma of a high-frequency discharge
RU2010123951A (en) INSTALLATION FOR VACUUM ION-PLASMA TREATMENT OF LONG-DIMENSIONAL PRODUCTS WITH ISOLATED EMISSION CAMERA
RU2014110349A (en) ION ENGINE
RU2010127142A (en) METHOD FOR LOCAL HEATING OF THE CATHODE SURFACE PART
RU2013123637A (en) METHOD FOR FORMING CHANNELS ON THE CATHODE IN AN INDEPENDENT ARC DISCHARGE
RU2015123270A (en) The method of coating by plasma spraying and device for its implementation
RU2015120561A (en) SOURCE OF IONS
CN105636329B (en) A kind of plasma generating device for small space
TW201615061A (en) Long-arc type discharge lamp
RU2010143945A (en) PLASMA SOURCE OF LIGHT RADIATION
RU2012142824A (en) DEVICE FOR FORMING A PLASMA-BEAM DISCHARGE
RU2010122084A (en) DEVICE FOR PRODUCING ENERGY AND ELEMENTS
UA104719U (en) Pulse sterilizer
RU2008131791A (en) METHOD FOR APPLICATION OF COATING ON THE INTERNAL SURFACE OF A PIPE
JPWO2016051465A1 (en) Atmospheric pressure inductively coupled plasma device
RU2017114417A (en) METHOD AND DEVICE FOR PREVENTING THE FORMATION OF THE HEAT CUMULATIVE CHANNEL ON THE METAL SURFACE OF THE CATHODE AND FIXING THE POSITION OF THE DISCHARGE CHANNEL ON THE CATHODE
RU2012135063A (en) DISCHARGE INSTRUMENT