RU2015144841A

RU2015144841A - PLASMOTRON, PLASMA MATERIAL DOSING DEVICE AND PLASMA FORMING METHOD

Info

Publication number: RU2015144841A
Application number: RU2015144841A
Authority: RU
Inventors: Геннадий Леонидович Багич
Original assignee: Геннадий Леонидович Багич
Priority date: 2015-10-19
Filing date: 2015-10-19
Publication date: 2016-05-20

Abstract

1. Плазмотрон, содержащий корпус в котором расположены устройство подачи плазменной массы, высокочастотное излучающее устройство, низкочастотный излучатель, коаксиально расположенные изолированные конденсаторные пластины, играющие роль катода и анода, образующие емкостную камеру, переходящую в разрядную, конденсаторные пластины которой выполнены из металла, обладающего высоким значением пробивного напряжения, выход которой заканчивается не изолированными конденсаторными пластинами, имеющими форму усеченных конусов с плазменным промежутком, обеспечивающим образование плазменной дуги при заполнении промежутка плазменной массой.2. Плазмотрон по п. 1, отличающийся тем, что между обкладками конденсатора расположен электромагнитный излучатель, энергия которого проходит через емкостную и разрядную камеры.3. Устройство подачи плазменной массы по п. 1, отличающееся тем, что устройство, обеспечивающее через отверстия 19 подачу плазменной массы в емкостную камеру, содержит сильфон, внутренний объем которого, заполненный плазменной массой, изменяется в функции заданного давления.4. Способ формирования плазмы, отличающийся тем, что вдоль оси распространения энергии суммарного магнитного поля происходит захват плазмы, образованной из плазменной массы путем действия на нее электрического поля, напряженность которого превышает напряжение пробоя плазменной массы.1. A plasma torch containing a housing in which a plasma mass supply device, a high-frequency emitting device, a low-frequency emitter, coaxially located insulated capacitor plates, playing the role of a cathode and anode, forming a capacitive chamber that becomes a discharge chamber, the capacitor plates of which are made of metal having a high the value of the breakdown voltage, the output of which ends with non-insulated capacitor plates having the shape of truncated cones with plasma omezhutkom providing plasma arc formation when filling the plasma gap massoy.2. A plasma torch according to claim 1, characterized in that an electromagnetic emitter is located between the capacitor plates, the energy of which passes through the capacitive and discharge chambers. 3. The plasma mass supply device according to claim 1, characterized in that the device providing through the openings 19 a plasma mass supply to the capacitive chamber contains a bellows, the internal volume of which, filled with the plasma mass, varies as a function of a given pressure. The method of plasma formation, characterized in that along the axis of energy distribution of the total magnetic field, the plasma is captured from the plasma mass by the action of an electric field on it, the intensity of which exceeds the breakdown voltage of the plasma mass.

Claims

1. A plasma torch containing a housing in which a plasma mass supply device, a high-frequency emitting device, a low-frequency emitter, coaxially located insulated capacitor plates, playing the role of a cathode and anode, forming a capacitive chamber that becomes a discharge chamber, the capacitor plates of which are made of metal having a high the value of the breakdown voltage, the output of which ends with non-insulated capacitor plates having the shape of truncated cones with plasma omezhutkom providing plasma arc formation when filling gap plasma mass.

2. The plasma torch according to claim 1, characterized in that between the plates of the capacitor is an electromagnetic emitter, the energy of which passes through the capacitive and discharge chambers.

3. The plasma mass supply device according to claim 1, characterized in that the device providing through the holes 19 the plasma mass supply to the capacitive chamber contains a bellows, the internal volume of which, filled with the plasma mass, varies as a function of the set pressure.

4. The method of plasma formation, characterized in that along the axis of energy distribution of the total magnetic field, the plasma is captured from the plasma mass by the action of an electric field on it, the intensity of which exceeds the breakdown voltage of the plasma mass.